説明

DOWAエレクトロニクス株式会社により出願された特許

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【課題】成長温度が1050℃以下のAlGaNやGaNやGaInNだけでなく、成長温度が高い高Al組成のAlxGa1-xNにおいても結晶性の良いIII族窒化物半導体素子、III族窒化物半導体自立基板およびこれらを製造するためのIII族窒化物半導体成長用基板、ならびに、これらを効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】少なくとも表面部分がAlを含むIII族窒化物半導体からなる結晶成長基板と、前記表面部分上に形成されたSc(スカンジウム)を窒化処理したスカンジウム窒化物膜を具えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】横方向リーク電流の低減および横方向耐圧特性を良好に両立させることができるエピタキシャル基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】Si単結晶基2上にバッファ3と複数層のIII族窒化物層をエピタキシャル成長させて形成した主積層体4とを具え、横方向を電流導通方向とする電子デバイス用エピタキシャル基板であって、前記バッファ3は、前記Si単結晶基板2と接する初期成長層5および該初期成長層上の超格子多層構造からなる超格子積層体6を少なくとも有し、前記初期成長層5はAlN材料からなり、かつ前記超格子積層体6はBAlGaInN材料からなる第1層6aおよび該第1層6aとはバンドギャップの異なるBAlGaInN材料からなる第2層6bを交互に積層してなり、前記超格子積層体6と、前記主積層体4の前記バッファ側の部分は、ともにC濃度が1×1018/cm3以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】発する光の色調ムラを、光拡散材を一切使わないで低減することによって発光効率を従来よりも格段に向上させ、設備空間及び設備費用の軽減された発光装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】主発光波長が410nm以下である発光素子5の発光面を覆うように、この発光素子5からの光を吸収し、波長変換して発光する蛍光体20(25、27)を含有する蛍光体層10(11、12)をこの発光素子5の発光面上に1層以上積層した構成にする。さらに、この蛍光体層10(11、12)を、最大厚さ及び最小厚さの差が蛍光体20(25、27)の平均粒径以下であり、且つ前記蛍光体層10(11、12)中の前記蛍光体20(25、27)の占有率を50%以上にする。 (もっと読む)


【課題】長期間のストレスが与えられても高抵抗値を維持できる、耐ストレス性の高い磁性粒子、キャリア芯材、その製造方法、並びに、当該キャリア芯材を用いたキャリア、電子写真現像剤を提供する。
【解決手段】ソフトフェライト相と、SiO相とを含む磁性粒子であって、当該磁性粒子の表面層において、Si原子数/(Si原子数+ソフトフェライトを構成する金属元素の原子の合計数)の値が80%以上であることを特徴とする磁性粒子を提供する。 (もっと読む)


【課題】電子写真現像において使用されるキャリア芯材は、磁気ブラシを保持するために高い磁化が必要である。また、一方では電子写真現像においては、高電圧が印加されるため、高い絶縁性をも要求される。しかし、従来絶縁性を付与するために、キャリア芯材の表面に非磁性であるヘマタイト層を形成させていたので、磁化が低下していた。すなわち、絶縁性と磁化の両立が困難であった。
【解決手段】比表面積が小さいマグネタイト粉を所定の熱処理条件によって得ることのできるBサイトの原子の占有率が低いスピネル構造を有するキャリア芯材は、原子間の電子電導機構が抑制され、高い絶縁性を示すとともに、磁気特性は劣化せず、絶縁性と磁気特性の両立を可能にする。 (もっと読む)


【課題】粒子凝集が少なく、透明度が高く、ヘイズの値が小さな透明導電膜を、インクジェットを用いても容易に塗布、成膜することの出来るITO塗料に用いる錫含有酸化インジウムの製造方法、当該錫含有酸化インジウムを含む透明導電材用塗料、並びに、当該透明導電材用塗料を用いて成膜される透明導電膜を提供する。
【解決手段】水酸化インジウムと、水酸化錫と、水とを含むケーキを、水溶性の有機溶媒中に溶解する工程と、前記水酸化インジウムと水酸化錫と水とを含む有機溶媒溶液を加熱して、錫含有酸化インジウムを生成する工程とを有する錫含有酸化インジウムの製造方法であって、前記ケーキ中に含まれる水分が、20質量%以上70質量%以下である錫含有酸化インジウムの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】導電性ペースト中の銀含量が低く、導電膜を形成する際の硬化条件が低温の場合であっても、導電性に優れ、ファインライン化に対応した導電膜を形成することができるフレーク状銀粉及びその製造方法、並びに導電性ペーストの提供。
【解決手段】本発明のフレーク状銀粉は、平均粒径が2μm〜8μmであり、かつ、アスペクト比(平均長径/平均厚み)が10〜30であることを特徴とする。比表面積が1m/g〜4m/gである態様、などが好ましい。 (もっと読む)


【課題】帯電の立ち上がり特性が良好な二成分系電子写真現像剤用キャリアを提供する。
【解決手段】マグネタイト粒子またはフェライト粒子の表面に、リン酸塩が担持されていることを特徴とする電子写真現像剤用キャリア芯材を製造し、当該電子写真現像剤用キャリア芯材に樹脂をコートし二成分系電子写真現像剤用キャリアを得る。 (もっと読む)


【課題】触媒が備えておくべき耐熱性を確保しつつ、安定して硫黄による失活を抑制し、かつ容易に活性を回復しうる触媒を提供し、かような性質を有する触媒が分散された塗料ならびにかような触媒が塗布されて形成されたディーゼルパティキュレートフィルターを提供すること。
【解決手段】セリウムとA、B(AおよびBは、Pr、Zr、Ti、Feから選ばれた1種以上の元素)を含み、セリウム、AおよびBの元素がモル比でCe:A:B=(1−x−y):x:y(ただし、0<x+y≦0.3)であり、CeOの(311)面で測定した結晶子径が16nm以上である複合酸化物である。 (もっと読む)


【課題】粒子を小さくしても粒子同士の凝集を防止することができるとともに、有機物との馴染みを良好にして、磁性塗料に配合する際の粒子の分散性を向上させることができる、金属磁性粉末およびその製造方法を提供する。
【解決手段】金属磁性粉末の製造方法は、形状保持や焼結防止のために非磁性成分が添加された原料粉末を焼成した後に還元して、鉄または鉄とコバルトを主成分として含有し且つ形状保持や焼結防止のために添加された非磁性成分を含有する金属磁性粉末を製造する金属磁性粉末製造工程と、この金属磁性粉末の表層部の非磁性成分を溶出除去する溶出処理工程と、表層部の非磁性成分を溶出除去した金属磁性粉末の表面に酸化膜を形成する酸化処理工程と、酸化膜を形成した金属磁性粉末を還元処理した後に酸化処理する再還元・安定化処理工程と、表層部の非磁性成分を溶出除去した金属磁性粉末の表面を洗浄する洗浄工程とを備えている。 (もっと読む)


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