【課題】３次元形状の測定精度をより改善できる３次元形状測定装置を提供すること。
【解決手段】本発明の３次元測定装置は、測定対象物を固定するワークステージと、光源、光源から照射された光を透過させる格子及び格子の格子イメージを測定対象物に結像させる投影レンズを含み、測定対象物に対して格子イメージを第１方向にＮ回入射した後、測定対象物に格子イメージを第２方向にＮ’回入射する投影部と（Ｎ及びＮ’は２以上の自然数）、結像レンズ及びカメラを含み、測定対象物によって反射される第１方向反射イメージ及び第２方向反射イメージを受信するイメージ取り込み装置と、イメージ取り込み装置に受信された第１方向反射イメージ及び第２方向反射イメージを用いて測定対象物の影領域を補償して測定対象物の３次元状態を算出する制御部と、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板検査装置及び検査方法を提供すること。
【解決手段】検査方法は、測定対象物を撮影して測定対象物のピクセル別にイメージデータを取得し、測定対象物のピクセル別に高さデータを取得し、測定対象物のピクセル別にビジビリティデータを取得し、取得されたイメージデータと、ピクセル別の高さデータ、及びビジビリティデータのうちの少なくとも１つとを乗算して結果値を算出し、算出された結果値を利用してターミナル領域を設定すること、を含む。よって、より正確にターミナル領域を判別することができる。 （もっと読む）

【課題】プリント回路基板上における測定対象物の測定方法を提供すること。
【解決手段】複数のカラー照明をプリント回路基板に照射して複数のカラーイメージを取得し、取得された前記カラーイメージを利用して彩度情報(ｓａｔｕｒａｔｉｏｎ)を生成し、前記彩度情報を利用して半田領域を抽出すること、を含むことを特徴とする半田領域の測定方法。これらを通じて半田領域を設定することによって、半田領域の測定精度を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】３次元形状測定装置を提供すること。
【解決手段】３次元形状測定装置は、光を発生する光源ユニットおよび光源ユニットから発生された光を格子パターンを有する格子パターン光に変更する格子ユニットを含み、格子パターン光を所定方向から測定対象物に照射する照明部、および格子ユニットを格子パターンの延長方向および格子パターンの配置方向に対して所定の傾斜方向に移送させる格子移送ユニットを含む。よって、製造コストを低減して、３次元形状測定装置は容易に管理することができる。 （もっと読む）

【課題】３次元形状測定装置および測定方法を提供すること。
【解決手段】３次元形状測定方法は、測定対象物の第１測定領域で第１画像を撮影する段階と、第１中央処理ユニットを通じて前記第１画像を演算処理し、前記第１測定領域での３次元形状を算出する段階と、前記第１中央処理ユニットが前記第１画像を演算処理する間に、前記測定対象物の第２測定領域で第２画像を撮影する段階と、第２中央処理ユニットを通じて前記第２画像を演算処理し、前記第２測定領域での３次元形状を算出する段階と、を含む。これにより、３次元形状の測定時間を短縮させることができる。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の歪曲を適切に補償した検査領域の設定方法を提供する。
【解決手段】ステージに測定対象物を配置し、測定対象物に対する第１特徴オブジェクトを含む基準データを呼び出しＳ１２０、測定対象物に対する測定データを獲得しＳ１３０、測定データのうち、第１特徴オブジェクトと対応する第２特徴オブジェクトを抽出し、第１特徴オブジェクトの平面的形状と前記抽出された第２特徴オブジェクトの平面的形状とを比較して幾何学的変形を確認しＳ１４０、Ｓ１５０、幾何学的変形を定量化して前記測定対象物の垂直方向の変化量を算出しＳ１６０、変化量に基づいて検査領域を設定するＳ１７０。 （もっと読む）

【課題】複数の投影部を通して測定対象物が形成された基板を検査する基板検査方法を提供する。
【解決手段】複数の投影部を通して測定対象物が形成された基板にパターン照明を順に照射して基板に対する投影部別位相データを取得する（Ｓ１１０）。以後、投影部別位相データを用いて基板に対する投影部別高さデータを抽出する（Ｓ１２０）。その後、各投影部別で投影部別高さデータを用いて抽出された高さデータの傾きを補正する（Ｓ１３０）。その後、傾き補正が完了した投影部別高さデータを整列させ（Ｓ１４０）、整列された高さデータを用いて統合高さデータを抽出する（Ｓ１５０）。このように、複数の投影部から抽出された高さデータを整列させる前に各投影部別に測定された高さデータに対する傾きを補正することによって、統合高さデータの信頼性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】正確性が向上した表面形状測定方法および測定装置を提供する。
【解決手段】このような表面形状測定方法は、少なくとも二以上の方向でパターン光を測定対象物に照射し、測定対象物から反射されたパターンイメージを取得する段階と、前記パターンイメージを用いて前記方向における高さを取得する段階と、前記方向における前記高さの増加率を表すベクトル場を取得する段階と、前記方向における前記高さに対する信頼指数を取得する段階と、前記信頼指数及び前記ベクトル場を用いて、統合ベクトル場を取得する段階及び前記統合ベクトル場を用いて測定対象物の各座標値に対する高さを測定する段階を含む。 （もっと読む）

【課題】 本発明は検査方法に関し、より詳細には基板の検査方法を提供する。
【解決手段】 基板を検査するために、先に基板上に測定領域を設定し、測定領域に対する基準データ及び測定データを取得する。 続いて、測定領域に対して変換条件を設定し、基準データと測定データとの間の歪曲量に従う変換関係を取得する。次に、比較用特徴客体が変換関係を充足するか、比較用特徴客体を除いた特徴客体から選択された検証用特徴客体が変換関係を充足するか及び基板上に形成された検査対象パッドが変換関係を充足するかを検証する検証方法うち少なくとも一つの方法を用いて変換関係の有効性を検証する。続いて、変換関係が有効であると判断された場合変換条件を確定し、確定された変換条件に従って検査領域を設定する。これにより、歪曲を補償した正確な検査領域を設定することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は複数の投影部を通して測定対象物が形成された基板を検査する検査方法を提供する。
【解決手段】本発明の基板検査方法によると、複数の投影部を通して測定対象物が形成された基板にパターン照明を順に照射して基板に対する投影部別位相データを取得し、取得された投影部別位相データを用いて基板に対する投影部別高さデータを抽出する。複数の投影部のうち信頼度が最もよい投影部を基準投影部で設定し、基準投影部の高さデータを基準にして残り投影部の高さデータを整列させる。整列された高さデータを用いて統合高さデータを抽出する。このように、信頼度が最も高い投影部を基準として残りの投影部の高さを整列させることで、統合高さデータの信頼性を向上させることができる。 （もっと読む）