説明

ショット リソーテック ユーエスエー コーポレーションにより出願された特許

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【課題】フォトマスク用途に使用することもできる、水晶のような基材表面の前処理ステップにおいて使用する、様々なpH領域と伝導度を持つアルカリ性ベースの組成物を用いる方法を提供する。
【解決手段】NHOH:H:HOが、容積比で1:2:200〜1:1:100となる希釈比で、水酸化アンモニウム、過酸化水素及び脱イオン水を含有する、pHが8〜12のudSC1組成物を用いて基材表面を処理し、次いで、ノニオン系洗浄剤と脱イオン水を容積比で1〜100となる希釈比で含有し、pHが8〜11のノニオン系洗浄剤組成物を用いて前記基材の表面を処理する基材表面の洗浄方法。前記udSC1のpHが、前記ノニオン系洗浄剤組成物のpHより高いことを特徴とする。 (もっと読む)


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