【課題】第１及び第２ハードコーティング層の組成材料、厚さを調整することにより、エッチング領域と非エッチング領域との間の色差を消去できる導電薄膜を提供する。
【解決手段】基板１０上に、第１のハードコーティング層１２、第２のハードコーティング層１４、第１の屈折率層１６、第２の屈折率層１８及び透明導電層２０が順次設けられ、第２のハードコート層１４の組成材料がシリコンを含む。透明導電層２０は第２の屈折率層１８の一部を被覆する。透明導電層２０は、光が所定の入射角で入射された場合、所定の第１の反射率で光を反射し、第２の屈折率層１８は、光が入射角で入射された場合、所定の第２の反射率で光を反射し、第１の反射率と第２の反射率との差は所定の第１の閾値よりも小さくすることで、エッチング領域と非エッチング領域との色差を消去することができる。 （もっと読む）

【課題】製造工程において、電子製品の品質が低下する欠点を解決するとともに高いデザイン自由度を有する導電薄膜を提供する。
【解決手段】基板１０、ハードコーティング層１２、第１の屈折率層１４、第２の屈折率層１６及び透明導電層１８を含む導電薄膜を提供する。ハードコーティング層は、基板上に設けられ、第１の屈折率層、第２の屈折率層及び透明導電層は順次にハードコーティング層上に積層され、透明導電層は第２の屈折率層の一部を被覆する。透明導電層は、光が所定の入射角で入射された場合、所定の第１の反射率で前記光を反射し、第２の屈折率層は、前記光が前記入射角で入射された場合、所定の第２の反射率で前記光を反射し、第１の反射率と第２の反射率との差は所定の第１の閾値よりも小さいことを特徴とする。これにより、導電薄膜は、エッチング領域と非エッチング領域との色差を消去することができる。 （もっと読む）

【課題】エッチングによって一部が露出したガラス基板とエッチングされていない透明導電層との間に屈折率の差が大きいため、スペクトル上に顕著なバラツキが存在し、ユーザの視覚に不明瞭な画像又はブロックが生じ、若しくは顕著な境界線が現われてしまい、電子製品の品質が低下するという欠点を解決するとともに、高いデザイン自由度を有する導電薄膜を提供する。
【解決手段】基板１０と、基板上に設けられた反射率調整構造１２と、反射率調整構造上に設けられることで、基板との間に反射率調整構造が介在され、反射率調整構造の一部を被覆するための透明導電層１４と、を備え、透明導電層は光が所定の入射角で入射された場合、第１の反射率で前記光を反射し、反射率調整構造は前記光が前記入射角で入射された場合、第２の反射率で前記光を反射し、第１の反射率と第２の反射率との差は所定の第１の閾値よりも小さいことを特徴とする導電薄膜。 （もっと読む）

【課題】導電性多層構造の厚さが小さい上に、硬度、耐摩耗性などが高く、ユーザが印加する接触圧に対する感度が高い導電性多層構造及びそのタッチパネルを提供する。
【解決手段】導電性多層構造は、対向する第１の表面１０１及び第２の表面１０２を有し、無機粉末が混入され、１００〜１２５μｍの厚さである基板１０と、第１の表面１０１に形成された透明導電膜１１と、第２の表面１０２に形成された硬質被覆層１２と、硬質被覆層１２上に形成された保護膜１３とを備える。透明導電膜１１は透明導電酸化物である。透明導電膜１１はインジウムスズ酸化物である。透明導電膜１１は非結晶型インジウムスズ酸化物である。硬質被覆層１２の厚さは６〜１０μｍである。保護膜１３は二酸化ケイ素フィルムである。タッチパネルは、導電性多層構造を含む。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルに適用される透明導電構造及びその製造方法を提供すること
【解決手段】少なくとも１つの透明基板を有する基板ユニットと、前記少なくとも１つの透明基板の上表面に形成された少なくとも１つの第１の被覆層を有する第１の被覆ユニットと、前記少なくとも１つの第１の被覆層の上表面に形成された少なくとも１つの透明導電層を有し、前記少なくとも１つの透明導電層の内部に所定の埋め込み型回路パターンに配列形成された複数の嵌め込み型導電回路が設けられた透明導電ユニットと、前記少なくとも１つの透明導電層の上表面に形成されるとともに前記複数の嵌め込み型導電回路を被覆するための少なくとも１つの第２の被覆層を有し、前記少なくとも１つの第２の被覆層の頂端に操作子（例えばユーザの指又は如何なる他のタッチペン等）がタッチ可能なタッチ表面が設けられた第２の被覆ユニットと、を備える。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルに適用される透明導電構造及びその製造方法を提供すること
【解決手段】少なくとも１つの透明基板を有する基板ユニットと、前記少なくとも１つの透明基板の上表面に形成された少なくとも１つの第１の被覆層を有する第１の被覆ユニットと、前記少なくとも１つの第１の被覆層の上表面に形成された少なくとも１つの透明導電層を有し、前記少なくとも１つの透明導電層に所定の回路パターンに配列形成された複数の導電回路が設けられた透明導電ユニットと、前記少なくとも１つの透明導電層の上表面に形成されるとともに酸化シリコンと酸化アルミニウムと酸化リチウムとテフロン（登録商標）（登録商標）（Ｔｅｆｌｏｎ）とが相互に混合されてなる少なくとも１つの第２の被覆層を有し、前記少なくとも１つの第２の被覆層の頂端に操作子（例えばユーザの指又は如何なる他のタッチペン等）がタッチ可能なタッチ表面が設けられた第２の被覆ユニットと、を備える。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルに適用される透明導電構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板１０を有する基板ユニット１と、透明基板１０の上表面に形成された第１の被覆層２０を有する第１の被覆ユニット２と、第１の被覆層２０の上表面に形成された透明導電層３０を有し、透明導電層３０に、前記少なくとも１つの第１の被覆層２０に嵌め込まれるとともに所定の埋め込み型回路パターンＰに配列形成された複数の嵌め込み型導電回路３００が設けられた透明導電ユニット３と、透明導電層３０の上表面に形成された第２の被覆層４０を有し、第２の被覆層４０の頂端に、操作子（例えばユーザの指Ｆ等）がタッチ可能なタッチ表面４００が設けられた第２の被覆ユニット４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルに適用される透明導電構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板１０を有する基板ユニット１と、透明基板１０の上表面に形成された第１の被覆層２０を有する第１の被覆ユニット２と、第１の被覆層２０の上表面に形成された透明導電層３０を有し、透明導電層３０に、２層の互いに積層された透明導電膜３０Ａ，３０Ｂと、２層の透明導電膜３０Ａ，３０Ｂの間に形成されるとともに所定の埋め込み型回路パターンＰに配列形成された複数の嵌め込み型導電回路３００とが設けられた透明導電ユニット３と、透明導電層３０の上表面に形成された第２の被覆層４０を有し、第２の被覆層４０の頂端に操作子（例えばユーザの指Ｆ等）がタッチ可能なタッチ表面４００が設けられた第２の被覆ユニット４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルに適用される透明導電構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板１０を有する基板ユニット１と、透明基板１０の上表面に形成された第１の被覆層２０を有する第１の被覆ユニット２と、第１の被覆層２０の上表面に形成された透明導電層３０を有し、透明導電層３０に、所定の回路パターンＰに配列形成された複数の導電回路３００が設けられた透明導電ユニット３と、透明導電層３０の上表面に形成されるとともに複数の導電回路３００を被覆するための第２の被覆層４０を有し、第２の被覆層４０の頂端に操作子（例えばユーザの指Ｆ等）がタッチ可能なタッチ表面４００が設けられた第２の被覆ユニット４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】混合ナノ粒子を利用した透明導電構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電構造は基板部及び導電部を備える。前記基板部は少なくとも１つのプラスチック基板を備える。前記導電部は少なくとも１つの透明導電フィルム及び少なくとも１つの導電ナノ粒子群が同時に形成されたものであり、前記透明導電フィルムは前記プラスチック基板上に形成される。前記導電ナノ粒子群は前記透明導電フィルム内に複数混入或いは組み込まれる導電ナノファイバーである。 （もっと読む）