株式会社真空技研により出願された特許
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真空蒸着方法及び装置
【課題】低コストにて、真空蒸着による高品質な膜形成を実現することができる真空蒸着方法を提供すること。
【解決手段】真空容器内を排気して真空状態にする真空工程と、真空状態となった真空容器内で蒸発物質を加熱手段にて加熱して蒸発させる蒸発工程と、を有し、これにより、真空容器内に保持された被成膜体に蒸発物質を蒸着させる真空蒸着方法であって、上記真空工程は、蒸発物質の蒸発温度よりも高い蒸発温度を有する加熱物質を真空容器内で加熱手段にて加熱して当該真空容器内を加熱する容器内加熱工程を有する。
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