【課題】低い基板温度でナノ構造体またはナノ材料を製作する方法を提供する。
【解決手段】熱コントロールバリアを基板上に実質的に連続した層として提供するステップと、ガスプラズマを提供するステップと、当該ガスプラズマとは異なる熱源によって熱コントロールバリアを層の上方から追加加熱を先行して提供するステップと、追加加熱する間にガスプラズマを使用するプラズマ化学気相堆積法によって、ナノ構造体またはナノ材料を基板の層上に形成するステップと、を含んでいる製作方法。 （もっと読む）

具体的にはプロピレンではない、炭素含有ガスのプラズマ重合によって高度架橋ポリプロピレン材料を製造する方法が開示され、高度架橋ポリプロピレン材料は、低い比誘電率、高い熱安定性、及び強化された機械的特性を示す。前記方法及び材料は、マイクロチップ製造における層間誘電体堆積の用途に適しているが、これに限定されない。 （もっと読む）

本発明は、ナノ構造体またはナノ材料を形成する方法に関する。この方法は、基板（１５）上に熱コントロールバリア（１７）を提供するステップと、ナノ構造体またはナノ材料を形成するステップとを備える。この方法は、例えば、炭素含有ガスプラズマを使用するプラズマ化学気相堆積法によってカーボンナノチューブを形成するために使用されてもよい。基板（１５）の温度は、カーボンナノチューブが形成される間３５０℃未満に維持されてもよい。 （もっと読む）