【課題】半導体製造プロセツ等でのマスクを配置装置において、シェル上の取付け穴を介してシェルと係止構造との組立および分解において、利便性を向上させる係止構造を提供する。
【解決手段】マスク配置装置の係止構造は、シェル２と、該シェル２の内部に枢着される少なくとも１つの係止部３と、該係止部３の底部に結合される少なくとも１つのロッキングプレート４と、少なくとも１つのネジ５とを備え、シェル２は、少なくとも１つの取付け穴２１を有し、取付け穴２１はシェル２の上表面からその内部を貫通し、ネジ５を順番に取付け穴２１と係止部３とを貫通させ、ロッキングプレート４を螺着する。 （もっと読む）

【課題】半導体処理工程における移載容器中の部品支持構造の改良。
【解決手段】
移載容器は、基台５０及び蓋６０からなり、
該基台上の２つの抵触台５２と抵触部品５８で”コ“の字状にレチクル７０の支持部を構成する。抵触台の内側両端に相対してそれぞれ硬質の支持部品５５を設け、各支持部品はそれぞれ高低差のある高い第一突出片及低い第二突出片を具え、これらの頂上をアーチ状として支持接触面を点接触とし、同一抵触台上の二つの支持部品は、低い第二突出片を相対的に内側に配置して、レチクルが変位して第一突出片から滑り落ちても、第二突出片が受ける。 （もっと読む）

【課題】堆積導電作用を有するマスク移載容器を提供する。
【解決手段】堆積時に静電の発生を防止できるマスク移載容器構造であり、底台１０、殻体２を含み、殻体２が底台１０上に選択的に覆蓋し、マスク５０を置く収容空間を形成し、底台１０および殻体２とマスク５０との間に静電を導通する通路を形成し、殻体上面に該通路と連通する把手２４を設け、底台１０が少なくとも１つの導電構造と触導ユニット４０を有し、そのうち導電構造が通路と連接し、下向きに突出する導電柱３２、３５を有し、触導ユニット４０は移載容器が隣接して堆積時、下層移載容器の把手２４に接触し、隣接する移載容器とマスク５０との静電が該触導ユニット４０と導電ユニット３０を経由して導出でき、マスクパターンを破壊することを減少させる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクケース内のフォトマスクの支持構造を改良する。
【解決手段】底台２、ケースカバー３及び複数個の押止部品４から構成するフォトマスクケースにおいて、底台の上面には複数個のフォトマスク支持部品を設け、ケースカバーは底台に被せて結合する。
各押止部品は、それぞれケースカバーの内側に配置されて，その一側は下向きに第一弾性片４１を形成し、他側は下向きに第二弾性片４２を形成して、それぞれフォトマスクの上面及び各側面を押さえて位置決めする。第一弾性片及び第二弾性片をそれぞれ押止部品の異なる側辺に形成するため、第一弾性片の押圧作用が第二弾性片を直接連動することなく、第二弾性片が過度にフォトマスクの側面を押さえることによる損傷を有効に防止する。 （もっと読む）

【課題】 マスク移載容器の遮蔽式入出気構造を提供する。
【解決手段】 移載容器は相対蓋合する底台とハウジングを含み、底台頂面には２個のサポート部品と１個の接触支持部品により組成する「コの字型」サポート体を設置しフォトマスクを支え、入出気構造は底台上に少なくとも２個の選択的に気密作用を生じる入出気部品を設置し、入出気部品は中空の底台範囲内に設置し、移載容器置は装置上に設置する開閉部品により移載容器の２個の入出気部品を選択的に開閉し、移載容器内部にクリーンな気体を注入し、移載容器内部の気体を導出し、これにより気体は該移載容器内部で循環流動状態を形成し、移載容器内部環境の清浄度を長期間維持可能で、同時に入出気構造はサポート部品下方に設置するため、気流がフォトマスク表面に直接衝撃を与え、フォトマスク表面に損傷を加える現象を回避可能である。 （もっと読む）