説明

ティッセンクルップ アーテー プロテック ゲーエムベーハーにより出願された特許

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【解決手段】 本発明は、シャフト炉(10)を操作する方法に関する。当該方法によると、シャフト炉(10)の上部(14)には原材料が装填され、原材料は重力の影響によってシャフト炉(10)内に降下する。原材料の一部は、シャフト炉(10)内の雰囲気によって溶融および/または少なくとも部分的に還元され、シャフト炉(10)の下部(18)では、少なくとも1つの下部流入開口(32)を介して処理ガスが導入され、処理ガスは、少なくとも部分的にシャフト炉(10)内の雰囲気に影響を与える。処理ガスの下部への導入は動的に調節され、調節において、操作変数である圧力pおよび/または体積流量


は、少なくとも一時的に、40秒以下、特に20秒以下、好ましくは5秒以下、特に好ましくは1秒以下の時間内で変化させられる。本発明によると、下部流入開口(32)から離間して配設されている少なくとも1つの追加用開口(42)を介して、追加ガスが導入され、追加ガスの操作変数である圧力pおよび/または体積流量


は少なくとも一時的に、変化させられ、および/または、シャフト炉(10)の内部空間(34)に接続されているガス状反応生成物を排出するためのシャフト炉ガスライン(50)を介して、シャフト炉ガスが排出され、シャフト炉ガスの操作変数である圧力pおよび/または体積流量


は少なくとも一時的に、変化させられる。本発明によると、追加ガスおよび/またはシャフト炉ガスの操作変数は、シャフト炉(10)の内部空間(34)において、圧力pおよび/または体積流量


が少なくとも部分的に大きくなるように変化させられる。追加ガスおよび/またはシャフト炉ガスの操作変数は、本発明によると、シャフト炉(10)の内部空間(34)において、圧力pおよび/または体積流量


が少なくとも部分的に大きくなるように、変化させる。 (もっと読む)


シャフト炉の頂上域には、重力の影響下において炉の内部に沈む原材料がチャージされる。原材料の一部は、シャフト炉内に広がる雰囲気の影響下において、溶解することと還元することとのうちの少なくとも一方が行われる。シャフト炉の底域には、シャフト炉の内部に広がる雰囲気に少なくとも何らかの影響を及ぼす処理ガスが導入される。処理ガスの導入時、40秒の期間内において圧力と体積流量のうちの少なくとも一方が動的に調整される。シャフト炉の改善した燻蒸をもたらす方法を使用して動作できるシャフト炉も開示される。
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