説明

ショウワデンコウ エイチディ シンガポール ピーティイー リミテッドにより出願された特許

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【課題】磁気ヘッドへの汚染物質や腐食物の付着を防止することができる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板1上に少なくとも磁性層2、保護層3、潤滑剤層4を備える磁気記録媒体11であって、前記潤滑剤層は、ベンゼン環の水素原子と、2以上の水酸基を末端に有するパーフルオロエーテル基と、を2以上置換した化合物を含有するとともに、前記磁気記録媒体を2000rpm以上で回転させてオクタメチルシクロテトラシロキサンを含む空気に大気圧で8時間曝露した後の、当該磁気記録媒体の表面のシロキサンの付着量が、曝露する前の付着量の4倍以下となるように設けられていることを特徴とする磁気記録媒体を採用する。 (もっと読む)


【課題】軟磁性下地層の高い透磁率と反強磁性結合との両方を実現できる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】少なくとも非磁性基板の上に、複数の軟磁性層を反強磁性結合させた軟磁性下地層と、磁化容易軸が前記非磁性基板に対して主に垂直に配向した垂直磁性層とが積層されてなる磁気記録媒体であって、軟磁性層は、Feを第1の主成分、Coを第2の主成分として、さらにTaを含み、軟磁性下地層は、複数の軟磁性層の間に挟まれるスペーサ層の厚みによって変化する反強磁性結合力の2番目以降に現れるピークを用いて反強磁性結合されており、なお且つ、その透磁率が1000H/m以上である。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体上の汚染物質を低減して、安定した磁気記録再生特性を有する磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板1上に磁性層2と保護層3と潤滑剤層4とをこの順序で有し、潤滑剤層4が下記一般式(1)に示す化合物Aと、下記一般式(2)に示す化合物Bまたは下記一般式(3)に示す化合物Bとを含み、質量比(A/B)または質量比(A/B)が0.05〜0.3の範囲内である磁気記録媒体11を用いる。




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【課題】高硬度で緻密な炭素膜を形成することが可能な炭素膜の形成方法を提供する。
【解決手段】減圧された成膜室101内に炭素を含む原料の気体Gを導入し、この原料の気体Gを、通電により加熱されたフィラメント状のカソード電極104と、その周囲に設けられたアノード電極105との間で放電によりイオン化し、このイオン化した気体を基板Dの表面に加速照射するときに、永久磁石109による磁場を印加することによって、基板Dの表面に向かって加速照射されるイオン化した気体のイオン密度を高めて、この基板Dの表面に硬度が高く緻密性の高い炭素膜を形成することができる。 (もっと読む)


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