【課題】制御された寸法を有する粒子、特に均一かつ単分散粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】円形であるか又はx個の平面y辺多角形（ここで、xは1〜20であり、yは少なくとも3であり、xが1より大きい場合、前記平面y辺多角形はその1つ以上の辺に沿って融合している）で構成される平面幾何学を示すプレートレットである粒子であって、前記プレートレット(P)のその最も幅広の点の幅(W_P)が約250μm以下であり、前記プレートレットの厚さが10nm〜50nmの範囲であり、任意に、前記プレートレットがその表面上にマイクロレリーフパターンを有してよい、前記粒子。 （もっと読む）

制御された寸法を有する粒子の製造方法であって、以下の工程：(i)それぞれ床部と高さ(H_w)を有する壁とから成る1つ以上の個別セルを含むマイクロレリーフ反復パターンを含んでなるパターン化表面を有する層状基板を供給する工程；(ii)前記パターン化表面上及び前記セル内に有機又は無機材料を沈着させて、該沈着材料の厚さ(T)を与える工程（ここで、T≦H_w）；(iii)前記沈着有機又は無機材料を前記基板の表面から剥離する工程；及び(iv)前記有機又は無機材料から形成された粒子を収集する工程；を含んでなる方法並びに前記方法から得られる複数の粒子(P)を含んでなる組成物。ここで、前記組成物中の粒子の数(n)は少なくとも10であり、前記粒子(P)は、円形であるか又はx個の平面y辺多角形（ここで、xは1〜20であり、yは少なくとも3であり、xが1より大きい場合、前記平面y辺多角形はその1つ以上の辺に沿って融合している）で構成される平面幾何学を示すプレートレットであり、前記プレートレット(P)のその最も幅広の点の幅(W_P)は約250μm以下であり、前記プレートレット(P)の厚さは10nm〜50nmの範囲である。 （もっと読む）