【課題】化学的、熱的および機械的なストレスに対して高い耐久性を有し、熱ＮＩＬおよび光ＮＩＬを含む種々のナノリソグラフィー技術に好適に用いることができるレプリカモールドおよび、簡便かつ安価にレプリカモールドを作製する方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）：
【化１】


（式中、Ｒは炭素数１〜３の炭化水素基であって、ＰＭはプロピルメタクリル酸の残基である。）で示されるＳｉ−Ｏ−Ｔｉネットワークを有する有機−無機ハイブリッド樹脂を用いて、レプリカモールドを作製する。
（もっと読む）