偽造物の検出を改良することを目的として、医薬品（120）などの商業物品に関する情報を秘匿するための、改良された方法、デバイス、組成物およびシステムを提供する。表面を特定の角度またはそれに近い角度で照射した場合にのみ物品の表面上のモアレパターンが現出層を用いて検出可能になる態様を提供する。顕微鏡などの検出システムに現出層を組み入れる態様も提供する。1つの方法は以下の段階を含む：モアレベース層を提供するように適合化された少なくとも1つの領域（121、122、123）を含む少なくとも1つの表面を含む、少なくとも1つの薬学的組成物を用意する段階；その領域をある角度で照射する段階；照射された領域をモアレ現出層を用いて画像化して、モアレパターンを生成させる段階。そのような態様は、従来の偽造品検出法を上回るさらなる階層のセキュリティを提供する。

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基板上にパターン化ヒドロゲルを含むヒドロゲルを形成する方法を提供する。一つの方法は、少なくとも一つのナノスケールチップを提供する段階、チップを少なくとも1種のインク組成物で被覆する段階、およびインク組成物を少なくとも一つの基板上に付着させる段階を含み、インク組成物は、少なくとも1種のヒドロゲル前駆体を含み、ヒドロゲル前駆体は、ヒドロゲルを形成するように適合されている。前駆体は、パターン化後、ヒドロゲルに転換し得る。インク組成物は、少なくとも2種のポリマーを含むことができ、官能化することができる。ポリマーの量および官能化の量は調整し得る。さらにこれらの方法から形成された物品、物品の使用方法、インク組成物、および関連するキットも提供する。

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基板表面をパターニングするための対象物、例えば走査プローブチップのアレイをレベリングする装置が提供される。装置は、対象物と基板の表面との接触時に該表面にパターンを形成するよう適合した複数の突起を有する該対象物を取り付けるよう適合した支持構造体と；該支持構造体に取り付けられ、該対象物と該表面との接触時に該対象物を該表面に対して平行な向きにさせるよう適合した、少なくとも一つのたわみ継手アセンブリとを含み得る。該装置を組み込んだ器具およびキット、ならびに該装置および該器具を製造する方法および使用する方法も提供される。

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先の尖ったチップおよびカンチレバーを用いた直接書き込みリソグラフィ印刷による、低温硬化または光硬化を伴う先進フォトマスクのアディティブ修復を提供する。インクから形成された材料の光学特性を調整することができる（たとえば、n値およびk値）。シルセスキオキサンインクを含むゾルゲルインクを使用して、MoSi組成物を形成することができる。修復されたフォトマスクは、通常のフォトマスク洗浄条件下での洗浄に耐性を有する。AFM機器を使用して、アディティブ修復を行って、高い分解能およびレジストレーションを提供することができる。

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アニールすると導電線を提供するように調合されたナノ粒子インクのパターン形成および直接描画を開示する。パターン形成方法としては、マイクロコンタクトプリンティングおよびDPN印刷を含むスタンプおよびチップに基づく方法が挙げられる。インク粘度、金属含有量、および密度を制御することで、良好な結果を提供することができる。低アニール温度を使用することで、バルク抵抗率と同程度の体積抵抗率を生み出すことができる。長い線を描くことができる。アドレス可能なパターン形成を実現することができる。

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改良されたナノリソグラフィー、イメージング、検出および製造のための改良された環境制御システムを提供する。少なくとも一つの環境チャンバと；該環境チャンバと気体連通するように適合された少なくとも一つのコンディショニングチャンバであって、少なくとも一つの気体輸送装置（たとえばファン）、任意で、少なくとも一つの温度プローブならびに動作中に低温側および高温側を提供する少なくとも一つの加熱冷却装置（たとえば熱電装置）を含む、コンディショニングチャンバと；少なくとも一つの水蒸気供給源と；少なくとも一つの温度センサと；少なくとも一つの湿度センサとを含む物品であって、前記ファン、前記熱電装置、前記水蒸気供給源、前記温度センサおよび前記湿度センサが、温度制御および湿度制御された気体流のために適合されている、物品を提供する。二つのファンを使用することができ、ファンは空気を同じ方向または反対方向に輸送することができる。

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ナノスケールをはじめとする微小スケールでの改良されたパターニングを開示する。少なくとも1つの先端部材および先端部材上に沈着した材料を含む少なくとも1つのカンチレバーを提供する工程と、材料が先端部材から基板上に沈着して材料沈着物を形成するように、カンチレバーを基板に接触させる工程とを含み、基板の温度が、材料沈着物のサイズを制御するように適合される、方法を提供する。少なくとも1つのヒートシンクと、少なくとも1つの加熱または冷却ステージと、少なくとも1つの真空システムとを含み、材料沈着に供される基板とともに機能し、沈着中、基板温度を実質的に一定に保持するように適合した、装置を提供する。

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先端部材のアレイに材料を負荷し、次にこの材料を先端部材から基板へ沈着させるための改良された方法を開示する。先端部材の負荷は制御された蒸着によって行うことができ、これにより、基板上への材料の非特異的な沈着の量が低減される。改良されたナノスケールおよびマイクロスケールの設計およびリソグラフィを実現することができる。用途としては、幹細胞研究および幹細胞分化制御をはじめとする、より優れた細胞研究が含まれる。

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少なくとも1平方ミリメートルの表面積を与える少なくとも1つの表面を含む少なくとも1つの中実基板を含む物品であって、表面が、表面積の少なくとも90%を占める材料沈着物の均質アレイを含む、物品を開示する。エッジからエッジまでのパターニングおよび大面積基板を実現し得る。用途には、細胞の成育が含まれる。

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