【課題】ＧＩＣの熱負荷に起因する光学歪みを最小化する。
【解決手段】極端紫外光リソグラフィに用いられる斜入射集光器（ＧＩＣ）の蒸発熱管理システムおよび方法を、ジャケット１６０と組み合わされて、前端を有する構造体を形成するとともに、チャンバを画定するＧＩＣシェル１１０を備えている。このチャンバは、少なくとも一つのウィッキング層２００Ｍを運転可能に備える。このウィッキング層は、導管２４０によって、冷却液を貯める貯留槽２５２に接続されている。前端に熱が加えられたとき、冷却液は、ウィッキング層の毛細管現象により、重力の助力を受けて、復水システム２５０からチャンバに送られる。これと同時に、蒸気は、チャンバから復水システムへ、逆方向に送られる。復水システムにおいて、凝縮された蒸気から熱が除去されることにより、ＧＩＣミラーシェルが冷却される。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィに応用される斜入射集光器（ＧＩＣ）を熱管理するためのシステム、アセンブリ、方法を提供する。
【解決手段】ＧＩＣ冷却アセンブリ１５０は、密閉チャンバ１８０を形成するようにジャケット１６０に接合されたＧＩＣミラーシェル１１０を有する。オープンセル型熱伝導性材料（ＯＣＨＴ材料）２０２は、金属チャンバ内に配置され、ＧＩＣミラーシェル１１０、及びジャケットに熱接着及び機械接着される。ＥＵＶ源からのＥＵＶを受光して集束ＥＵＶを形成するように構成されるＧＩＣミラーシステムにおいてＧＩＣ冷却アセンブリ１５０を採用する場合、冷却媒体１７０が入出力プレナム間のＯＣＨＴ材料２０２を方位角方向に対称に流される。その結果、冷却性が実現される。 （もっと読む）

【課題】単純で費用対効果の高いＬＰＰ方式のＥＵＶ光源の実現。
【解決手段】ＬＰＰは、光源部およびターゲット部を備えるＬＰＰターゲットシステムを使用して形成される。光源部からのパルスレーザ光線１３は、ターゲット部によって照射位置に供給されるキセノンアイス１３２Ｆを照射する。ＧＩＣミラーは、ＬＰＰに相対配置され、入射端でＥＵＶを受光し、受光したＥＵＶを、出射端に隣接する中間焦点に集束する。中間焦点に供給され、さらに／または、下流のイルミネータに導かれるＥＵＶの量を増加させるために、少なくとも一つの漏斗部を有する放射集光強化装置を使用してもよい。また、ＳＯＣＯＭＯを利用するＥＵＶリソグラフィシステムについても開示される。 （もっと読む）

【課題】より安価で、より単純で、より堅牢で、一般的に商業的に実現可能な光源集光モジュール（ＳＯＣＯＭＯ）を提供する。
【解決手段】ＥＵＶを放射するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）を生成するためのＳＯＣＯＭＯと、入射端および出射端を有し、ＬＰＰに相対配置される斜入射集光器（ＧＩＣ）ミラーとに関する。ＬＰＰは、光源部およびターゲット部を備えるＬＰＰターゲットシステムを使用して形成される。光源部からのパルスレーザ光線は、ターゲット部によって供給されるＳｎワイヤを照射する。ＧＩＣミラーは、ＬＰＰに相対配置され、入射端でＥＵＶを受光し、受光したＥＵＶを、出射端に隣接する中間焦点に集束する。中間焦点に供給され、さらに／または、下流のイルミネータに導かれるＥＵＶの量を増加させるために、少なくとも一つの漏斗部を有する放射集光強化装置を使用してもよい。 （もっと読む）

【課題】レーザ生成プラズマ方式のＥＵＶ源を利用するＥＵＶリソグラフィシステムで、より安価で、より単純で、より堅牢で、一般的に商業的に実現可能な光源集光モジュールを提供する。
【解決手段】レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）は、光源部４１およびターゲット部４２を備えるＬＰＰターゲットシステム４０を使用して形成される。光源部４１からのパルスレーザ光線１３は、ターゲット部４２において回転するＳｎロッドを照射する。ＧＩＣミラーＭＧは、ＬＰＰに相対配置され、入射端でＥＵＶを受光し、受光したＥＵＶを、出射端に隣接する中間焦点ＩＦに集束する。中間焦点ＩＦに供給され、さらに／または、下流のイルミネータに導かれるＥＵＶの量を増加させるために、少なくとも一つの漏斗部を有する放射集光強化装置を使用してもよい。 （もっと読む）

【課題】安価、単純でより堅牢な光源集光モジュールの提供
【解決手段】ＥＵＶを放射するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）を生成するための光源集光モジュールには斜入射集光器（ＧＩＣ）ミラーＭ１，Ｍ２を用いる。ＬＰＰは、光源部およびターゲット部を備えるＬＰＰターゲットシステムを使用して形成される。光源部からのパルスレーザ光線は、ターゲット部において液体キセノンを照射する。ＧＩＣミラーは、ＬＰＰに相対配置され、入射端でＥＵＶ３０を受光し、受光したＥＵＶを、出射端に隣接する中間焦点ＩＦに集束する。中間焦点に供給され、さらに／または、下流のイルミネータに導かれるＥＵＶの量を増加させるために、少なくとも一つの漏斗部を有する放射集光強化装置を使用する。 （もっと読む）

【課題】複数の波長帯に対して十分な補正がされ、熱感度を低減した、ビネットのない反射光学システムを提供する。
【解決手段】少なくとも一つの波長帯において物体空間中の物体の第１像平面ＩＰに像を形成する反射対物光学システム１０であって、３ミラー収差補正構成で配置され、第１反射面ＭＳ１、第２反射面ＭＳ２、第３反射面ＭＳ３をそれぞれ有し、前記第１反射面、第２反射面、第３反射面の順に前記物体からの光を前記像に反射する第１ミラーＭ１、第２ミラーＭ２、第３ミラーＭ３と、前記第１ミラーと前記第３ミラーとの間に配置され、少なくとも一つの中間像ＩＩＭが形成される少なくとも一つの中間像位置とを備え、前記第１反射面、第２反射面、第３反射面の少なくとも一つは、非回転対称である。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶを放射するレーザ生成プラズマを生成するための光源集光モジュールを提供する。
【解決手段】ＥＵＶを放射するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）を生成するための光源集光モジュール（ＳＯＣＯＭＯ）１００と、入射端３および出射端５を有し、ＬＰＰ２４に相対配置される斜入射集光器（ＧＩＣ）ミラーＭＧとに関する。ＬＰＰ２４は、光源部およびターゲット部を備えるＬＰＰターゲットシステムを使用して形成される。光源部からのパルスレーザ光線は、ターゲット部のＳｎ蒸気源からの蒸気Ｓｎを照射する。ＧＩＣミラーＭＧは、ＬＰＰ２４に相対配置され、入射端３でＥＵＶを受光し、受光したＥＵＶを、出射端５に隣接する中間焦点ＩＦに集束する。中間焦点ＩＦに供給されるＥＵＶの量を増加させるために、放射集光強化装置を使用してもよい。また、ＳＯＣＯＭＯを利用するＥＵＶリソグラフィシステムについても開示される。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィシステム等、従来の比較的厚いミラーを採用するように設計された光学システムにおいて、比較的薄い電気鋳造ミラーが使用可能となるようなＥＵＶミラーシステム及び方法。
【解決手段】曲線状の上面２２を有する基板２０と、曲線状の電気鋳造ミラー３０とを備えるＥＵＶミラーモジュール１０が開示される。自己調整接着材料４０は、基板２０と電気鋳造ミラー３０との間に配置されている。この接着材料４０は、溶融温度で流動可能であり、基板２０と電気鋳造ミラー３０との間の領域を形状に合わせて充填され、基板２０と電気鋳造ミラー３０とを接着するように自己調整を行なう。基板２０は、ミラーモジュール１０を冷却するために、少なくとも一つの冷却チャネルを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ集光能力を強化したＥＵＶ集光器システムを提供する。
【解決手段】極端紫外光（ＥＵＶ）の集光器システムは、集光器ミラーと、照明器の孔部材に隣接して配置される放射線集光強化装置（ＲＣＥＤ）１００とを備える。集光器ミラーは、ＥＵＶ光源からのＥＵＶを孔部材２２に導く。ＲＣＥＤ１００は、通常は孔部材の孔２４を通過しないか最適な角度分布を有しないＥＵＶの一部の進行方向を変える。これにより、ＥＵＶの一部は孔２４を通過し、照明器の入力仕様に好適に改善された角度分布を有する。したがって、集光器ミラー単体で得られる利用可能なＥＵＶ量よりも多くのＥＵＶ量が照明器に供給され、ＲＣＥＤ１００を有する集光器システムを利用したＥＵＶリソグラフィシステムの動作が向上する。 （もっと読む）