耐熱金属粉末が、粉末からの水素の拡散を可能にするために金属粉末を高温ゾーンにおいて完全に加熱された状態に保つための予熱チャンバを備えるデバイスにおいて、脱水素化される。粉末は、粉末による水素の再吸収を防ぐのに十分短い滞留時間の間に、冷却チャンバにおいて冷却される。粉末は、冷却チャンバの出口の基材上への衝突により固化させられて、当該基材上に高密度固体の形の沈着物が構築される。一つの実施形態において、本発明は、非常に短い時間枠（十分の数秒またはさらにそれ以下）で、直接タンタル水素化物粉末から直接タンタルのバルク片に移行させる方法に関する。 （もっと読む）

高融点金属プレートが提供される。前記プレートは、中心、板厚、端部、上面および裏面を有し、前記プレートにわたって実質的に均一な結晶組織（１００／／ＮＤ組織成分および１１１／／ＮＤ組織成分のそれぞれについて、板厚方向勾配、帯形成度およびプレート内変動によって特徴付けられる）を有する。
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金属シートまたはプレート（３）を圧延するための方法および装置が提供される。前記方法は、所定の角度で圧延機（１，２）に前記金属プレートまたはシート（３）を供給するステップを有する。前記装置は、傾斜フィードテーブル（４）、または移送テーブルおよび傾斜フィードテーブルを載置可能なエプロンを備える圧延機を有する。本発明の方法と装置を使用して、板厚方向勾配と剪断組織を改善することができる。
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本発明は、４４ミクロン未満の微細で均一な等軸粒構造を備え、電子後方散乱回折（「ＥＢＳＤ」）によって測定されたときに、選択されたテクスチャ配向が無く、ターゲット本体の全体を通して粒径のバンディングまたはテクスチャのバンディングを示さない、スパッタリングターゲットに関する。本発明は、レンズ状または扁平な粒構造を伴い、ＥＢＳＤによって測定されたときに、選択されたテクスチャ配向が無く、ターゲット本体の全体を通して粒径またはテクスチャのバンディングを示さない、スパッタリングターゲットに関し、ターゲットが、スパッタリング材料の層および少なくとも１つの付加層をバッキングプレートの界面において組み込む層状組織を有し、該層は、バッキングプレートの熱膨張係数（「ＣＴＥ」）とスパッタリング材料の層のＣＴＥとの間のＣＴＥ値を有する。 （もっと読む）