経頭蓋磁気刺激（ＴＭＳ）のための、単一電源又は複数電源から複数の電磁石の発射を同期的に、非同期的に、又は個別に作動させる方法、装置、及びシステムを提供する。これらの方法は、深部標的位置に到達する制御された電磁パルスを組み合わせて、標的組織の望ましい容量を活性化させるパターン化したパルス列を形成することができるので、（皮質下などの）深部脳部位の刺激に、又は複数の脳部位の刺激に特に有用である。さらに、本明細書で説明する方法、装置及びシステムを使用して、低速又は高速ｒＴＭＳなどの、１又はそれ以上の脳部位の活動電位の発射レートを制御することができる。例えば、本明細書では複数の電磁気刺激源について説明しており、これらの各々が個別に作動されて、通常はコンピュータによる計算により電磁気刺激軌道の交点において累積効果を生み出す。 （もっと読む）