【課題】本発明は、基板トレイ及びフレキシブル電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】フレキシブル電子デバイスを製造する工程においてフレキシブル基板を支持するための基板トレイであって、該基板トレイはトレイ基板を有し、トレイ基板は、複数の溝が設けられた溝領域を有する。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルター用インク及びその製造方法、並びにカラーフィルターの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施例は、カラーフィルター用インクジェットインク及びその製造方法、並びにカラーフィルターの製造方法を提供する。当該カラーフィルター用インクジェットインクは、水性ナノ顔料分散液１０〜５０重量部と低温硬化性成分５１〜９５重量部とを含む。また、水性ナノ顔料分散液は、０．５〜１０重量％の有機顔料または染料、７〜８０重量％のスチレン−アクリレート共重合体、４０〜９０重量％の脱イオン水を含み、且つ各成分の重量％の合計が１００重量％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、画素回路のバックボード上に集積できるとともに、電流を安定で快速に駆動する駆動装置を提供する。前記駆動装置で駆動されるＯＬＥＤパネル及びＯＬＥＤパネルの駆動方法も提供する。
【解決手段】前記駆動装置は、受信したクロック信号によって電圧信号を選択するスイッチングモジュールと、受信した電圧信号を電流信号に転換する転換モジュールと、画素回路アレイを駆動するように電圧信号または転換後の電流信号を出力する出力モジュールと、を備え、前記スイッチングモジュールが前記転換モジュール及び前記出力モジュールに接続され、前記転換モジュールが前記スイッチングモジュール及び前記出力モジュールに接続される。 （もっと読む）

【課題】本発明は以下のステップを含む位相板の製造方法を提供する。
【解決手段】Ｓ１、ディスプレイパネルの上偏光板の表面に配向層を塗布する。Ｓ２、前記配向層に配向処理を行い、前記配向層が少なくとも二種類の異なる配向方向である複数の領域に分かれるようにする。Ｓ３、配向処理が完了した配向層上に反応性メソゲン（Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｍｅｓｏｇｅｎｓ）を塗布し、前記反応性メソゲンを配向させた後硬化させ、位相板を形成する。本発明は他に３Ｄディスプレイパネルを提供する。 （もっと読む）

【課題】従来のボトムゲートのトップコンタクト構造の薄膜トランジスタを製造する時、使用されるマスクの数が多いので、該薄膜トランジスタの製造コストが高くなる。
【解決手段】ソース・ドレイン電極及びパターニングされた活性層を製造するためのマスクに、チャンネル領域に対応する幅が露光装置の分解能より小さいスリットを形成し、露光量を大きくすることで、ソース・ドレイン電極を通常に形成でき、さらに該マスクを用い、露光量を小さくすることで、所望形状の活性層を形成できる。 （もっと読む）

【課題】本発明の実施例は、互いに対向する第一基板と第二基板を含むディスプレイパネルと、位相板を含む３Ｄディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】この第一基板は第一偏光板を、第二基板は第二偏光板を含み、前記位相板は前記第一基板における前記第二基板の反対側の表面上に直接設置される。本発明の実施例は他に位相板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】有機薄膜トランジスタアレイ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本製造方法は、ベース基板に、第１透明導電薄膜層とソース・ドレイン金属薄膜層を順次形成し、第１回パターニング工程を行って、第１画素電極パターン、ソース電極パターン、ドレイン電極パターン及びデータラインパターンを形成する工程と、有機半導体薄膜層とゲート絶縁薄膜層とを順次形成し、第２回パターニング工程を行って、前記ソース電極パターンとドレイン電極パターン上に位置する有機半導体アイランドパターン及びゲート絶縁アイランドパターンを形成する工程と、一層のパッシベーション層薄膜を形成し、第３回パターニング工程を行って、データラインパッド領域を形成する工程と、第２透明導電薄膜層とゲート金属薄膜層とを順次形成し、第４回パターニング工程を行って、第２画素電極パターン、ゲート電極パターン、及びゲートラインパターンを形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、カラーフィルタ基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】複数の開口部があるブラックマトリクスパターンを備えるベース基板と、前記ベース基板上に設置され、かつ前記ブラックマトリクスパターンの開口部に位置する複数の異なる色のカラーフィルタ層とを含むカラーフィルタ基板を提供する。このカラーフィルタ層は、異なる色のガラス層である。 （もっと読む）

【課題】ポリシリコン活性層を含む薄膜トランジスタの製造方法を提供する。
【解決手段】前記製造方法は、基板にアモルファスシリコン層を堆積するとともに、前記アモルファスシリコン層に対してパターニングを行うことで、ソース領域とドレイン領域とチャンネル領域とを含む活性層を形成するステップと、前記ソース領域及び前記ドレイン領域に誘起金属を堆積するステップと、前記誘起金属が堆積された前記活性層に対して第１の熱処理を行い、前記活性層が前記誘起金属の作用によって結晶化されるステップと、前記ソース領域及び前記ドレイン領域に、前記誘起金属を集めるための第１の不純物をドープするステップと、ドープされた前記活性層に対して第２の熱処理を行い、前記第１の不純物が前記チャンネル領域に残された誘起金属に対して吸収するステップと、を備える。 （もっと読む）

【課題】アレイ基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による製造方法は、基板に無機材料の突起を形成するステップと；それぞれ第一透明導電層と第一金属層からなる反射領域パターン、ゲートライン及びゲートラインから分岐して出されるゲート電極と共通電極を形成するステップと；半導体層からなる活性化ランドパターンと第二金属層からなるデータラインパターンを形成し、活性化ランドパターン上でデータラインに接続されるソース電極とドレイン電極、及び半導体層からなるチャネルを形成するステップと；基板に無機材料を塗布し、無機材料に対して焼き戻し工程を行って一平坦層を形成し、ドレイン電極にビアホールを形成するステップと；反射領域に、ビアホールを介してドレイン電極に接続され且つ第二透明導電層からなる画素電極を形成するステップと、を有する。 （もっと読む）