説明

雅士晶業股▲ふん▼有限公司により出願された特許

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【課題】表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板の少なくとも一つの表面に支圧応力層パターンFが設けられ、該パターンFは該表面において、異なる支圧応力を具えた複数の局部領域を画定し、それは若干の高圧応力領域12と低圧応力領域13を包含し、低圧応力領域13によりこれら高圧応力領域12相互間が隔離設置される。該ガラス基板の高圧応力領域12はガラスの抵抗性を増し、破裂とスクラッチ防止の機能を向上し、低圧応力領域13は加工性を保持し、ガラス基板を切削、分割或いは研磨などの加工に便利なものとする。 (もっと読む)


【課題】光線の反射により、対応する明晰な光の図案を出現させる曲率変化図案を備えるガラス面及びその製造方法を提供する。
【解決手段】曲率変化図案を備えるガラス面及びその製造方法は、ガラス1本体外表の滑らかな面12上に、複数の圧力区域13を配列して組成する予定図案Pを設置し、各圧力区域13の圧力値は50Mpa以上で、こうして滑らかな面12上には予定図案Pに対応する曲率変化図案P’を形成し、ガラス1面の製造方法は、表面ラフ度(Ra)が約0.12μm以下のガラス1滑らかな面12上にカバー2を設置し、カバー2上には複数の中空部21を配列して組成する予定図案Pを設置し、ガラス1滑らかな面12に対して化学イオン強化プロセスを行い、滑らかな面12上にはカバー2の中空部21に対応する複数の圧力区域13を形成し、カバー2を除去し、滑らかな面12を洗浄し、こうしてガラス1滑らかな面12上にカバー2の予定図案Pに対応する曲率変化図案P’を形成する。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の表面に支圧応力層パターンを形成する方法及び該方法で製造されたガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板1にマスク2を設けて化学イオン強化処理を実施することにより、ガラス基板1の少なくとも一つの表面に支圧応力層パターンが設けられ、該パターンは該表面において、異なる支圧応力を備えた複数の局部領域を画定し、それは若干の高支圧応力領域と低支圧応力領域を包含し、低支圧応力領域によりこれら高支圧応力領域相互間が隔離設置される。該ガラス基板1の高支圧応力領域はガラスの抵抗性を増し、破裂とスクラッチ防止の機能を向上し、低支圧応力領域は加工性を保持し、ガラス基板1を切削、分割或いは研磨などの加工に便利なものとする。 (もっと読む)


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