説明

スミックス株式会社により出願された特許

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【課題】非晶質Siをレーザアニールして得られる多結晶Siの粒径を検査する方法を提供する。
【解決手段】基板上に設けられた非晶質Siの所定の膜厚毎に、レーザ密度とレーザアニール後の多結晶Siの平均輝度との関係を示す校正マップを準備するステップS11と、レーザアニールして得られた多結晶Si層の所定の領域毎に、平均輝度を測定するステップS12と、多結晶Si層の所定の領域毎の膜厚データを取得するステップS13と、所定の領域毎の平均輝度と膜厚データとを当該膜厚データに対応する所定の膜厚の校正マップと比較して、当該領域毎の平均輝度を校正するステップS14と、所定の領域毎の校正後の平均輝度を被検査対象の全領域に渡って求めて、輝度マップを作成するステップS15と、輝度マップにおいて領域毎の校正後の平均輝度が所定範囲に入るか否かを判定して最適粒径範囲を決定するステップS16と、を含む。 (もっと読む)


【課題】被検査物の表面の凹凸パターンのサイズ変動を検査するマクロ検査装置を提供する。
【解決手段】被検査物2の表面の凹凸パターンのサイズ変動を検査するマクロ検査装置100である。マクロ検査装置100は、被検査物2を乗せるためのステージ1と、被検査物2の表面に対して所定の角度方向から被検査物2側に光を照射する拡散光源5と、被検査物2の表面からの反射光を受光可能なラインセンサ9と、被検査物2とラインセンサ9との間に設けられ、反射光のうち拡散光源5のエッジ部からの光束に起因する反射光束が、ラインセンサ9の両端の少なくとも一方に設けられた所定領域でのみ受光されるように、反射光をラインセンサ9に導くための光学系と、を備える。 (もっと読む)


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