説明

カムテック リミテッドにより出願された特許

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【課題】全ミリングプロセス中に、試料を連続的にかつ実時間モードで観察することができ、かつプロセスの精度、品質、および停止の完全自動制御を行なうことができるシステムを提供する。
【解決手段】マスク50および試料21を操作し、それによって試料21の異なる側をイオンミリング装置40に露出することを含む。操作は、試料21とマスク50との間の空間的関係を変化させることなく維持しながら、回転させることを含む。マスク50および試料21のアラインメントの実行は、画像を走査型電子顕微鏡のような撮像装置によって得ることを含むことができる。 (もっと読む)


【課題】ラメラを作製するための方法およびシステムを開示する。
【解決手段】方法は、マスクおよび試料のアラインメントをマニピュレータによって実行するステップ、マスクと試料との間の空間的関係を変化させることなく、マスクおよび試料をイオンミリング装置の前に配置するステップ、試料の第1露出部分を、ラメラの第1側壁が露出するまでミリングするステップ、マスクが試料の第2マスキング部分を遮蔽するように、マスクおよび試料をイオンミリング装置の前に配置するステップ、ラメラの第2側壁が露出するまで試料の第2露出部分をイオンミリング装置によってミリングするステップ、ミリング装置によってラメラの両側から物質を除去するステップ;および試料からラメラを切り離すステップを含む。 (もっと読む)


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