本発明は、ホウ素（Ｂ）またはホウ素含有化合物の少なくとも一種を＜１９ｐｐｍｗの濃度で含み、さらに、リン（Ｐ）またはリン含有化合物を＜３．７ｐｐｍｗの濃度で含む再利用可能な窒化ケイ素含有ルツボ、および、シリコン結晶化のためのかかるルツボの使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、加熱室内に挿入されてその内部で移動することが可能なように設計されている、スクレーパフレーム（２０）と、スクレーパフレームが移動するときに、スクレーパ要素によって、残留物が加熱室の少なくとも側壁および／または天井において除去され得るようにスクレーパフレーム上に配置された、少なくとも１つのスクレーパ要素（３０、３１、３２）とを含む、炉の、特に焼結炉の加熱室の残留物を除去するための装置（１０）に関する。この装置を用いると、実質的に製造の過程を害することなく、単純で効果的なやり方で、加熱室内の堆積物を除去することが可能である。
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本発明は、フィルタ要素（１０、１０’）、粒子フィルタ（１）、フィルタ要素をマーキングするための方法、粒子フィルタを製造するための方法、およびフィルタ要素の使用に関する。本発明による方法および本発明によるフィルタ要素（１０、１０’）では、個々のフィルタ要素は、簡単な方式で固定式に接着されてフィルタを形成することができる。粒子フィルタを製造するために各々のフィルタ要素（１０、１０’）の端面（１１、１２、１１’、１２’）に適用された識別手段（１８、１８’）が、接着プロセスのためのフィルタ要素の定められた配向を可能にし、誤った接着が防止される。
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少なくとも１つのセラミック成形部品を作成するための方法および装置であって、少なくとも１つの雌型と少なくとも１つの雄型との間に空洞を設けることと、Ｓｉ含有粉末組成物を空洞にもたらすことと、Ｓｉ粉末組成物を反応ガス雰囲気中で反応によって境界付けられたセラミック成形部品が得られる温度へと加熱することとを含んでいる方法および装置、ならびにその使用。
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