説明

パフテック テクノロジーズ ピーティーワイ リミテッドにより出願された特許

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マスク(2)及び首構成要素(3)を含む呼吸装置(1)。マスク(2)は、ユーザの少なくとも口又は鼻孔をほぼ取り囲むように適合される。首構成要素(3)は、上記マスク(2)に取り付けられ、上記ユーザの首の後部をほぼ取り囲むように適合される。首構成要素(3)は、周辺環境からろ過されていない空気を受け入れ、上記ろ過されていない空気をろ過し、ろ過された空気を前記マスク(2)に与えるための流れ発生器を含む。呼吸装置(1)は、「低プロファイル」の外観を有し、ユーザの首の周りに快適に着座するように適合される。 (もっと読む)


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