ラジカル重合プロセスを制御するために改善された温度を制御する方法が開示される。一つまたは複数の窓を通して、還元剤またはラジカルの前駆物質を反応媒体に連続的にまたは断続的に供給することによって、ＡＴＲＰおよびＮＭＰ重合プロセスにおける永続的なラジカルの濃度、およびＲＡＦＴ重合プロセスにおけるラジカルの濃度を制御することが、上記方法によって導かれる。
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