【課題】Ｔｉ基材へのＡｕ層又はＡｕ合金層の密着性に優れ、燃料電池作動環境下でも耐食性や耐久性が高く、導電性も確保した燃料電池用セパレータ材料、それを用いた燃料電池スタックを提供する。
【解決手段】Ｔｉ基材と、Ａｕ層又はＡｕ合金層との間に、Ｏが２０質量％以上含まれる酸化層が５〜３０ｎｍの厚みで形成されている燃料電池用セパレータ材料である。 （もっと読む）

【課題】パーティクルや異常放電現象の原因となる不純物を低減させると同時に、ハイパワースパッタリング（高速スパッタリング）時においても亀裂や割れの発生がなく、スパッタリング特性を安定させ、成膜時のパーティクルの発生を効果的に抑えることのできる高品質のスパッタリング用チタンターゲットを提供する。
【解決手段】高純度チタンターゲットであって、添加成分として、Ｓ：３〜１０質量ｐｐｍ及びＳｉ：０．５〜３質量ｐｐｍを含有し、添加成分とガス成分を除き、ターゲットの純度が９９．９９５質量％以上であることを特徴とするスパッタリング用チタンターゲット。 （もっと読む）

【課題】Ｃｒを用いることなく絶縁基板との接着性及びエッチング性の両方に優れ、ファインピッチ化に適したプリント配線板用銅箔を提供する。
【解決手段】銅箔基材と、該銅箔基材表面の少なくとも一部を被覆する被覆層とを備えたプリント配線板用銅箔であって、
（１）該被覆層は銅箔基材表面から順に積層したＮｉ層及びＡｌ層で構成され、
（２）該被覆層にはＡｌが１００〜１３００μｇ／ｄｍ²、Ｎｉが４０〜６００μｇ／ｄｍ²の被覆量で存在する、
プリント配線板用銅箔。 （もっと読む）

【課題】電子材料用の銅合金として好適な機械的及び電気的特性を備え、機械的特性の均一なＣｕ−Ｃｏ−Ｓｉ系合金を提供する。
【解決手段】Ｃｏ：０．５〜４．０質量％、Ｓｉ：０．１〜１．２質量％を含有し、残部がＣｕ及び不可避不純物からなる電子材料用銅合金であって、平均結晶粒径が１５〜３０μｍであり、観察視野０．５ｍｍ²毎の最大結晶粒径と最小結晶粒径の差の平均が１０μｍ以下である電子材料用銅合金。 （もっと読む）

【課題】透明半導体として使用されるＩＧＺＯ膜の電気的特性の耐熱性を向上させる。
【解決手段】主としてインジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）、亜鉛（Ｚｎ）及び酸素（Ｏ）を構成元素として、インジウムとガリウムの合量に対するインジウムの原子数比［Ｉｎ］／（［Ｉｎ］＋［Ｇａ］）が２０％〜８０％、インジウムとガリウムと亜鉛の合量に対する亜鉛の原子数比［Ｚｎ］／（［Ｉｎ］＋［Ｇａ］＋［Ｚｎ］）が１５％〜４０％である酸化物焼結体を１．１Ｗ／ｃｍ²〜６．６Ｗ／ｃｍ²のスパッタパワー密度、酸素濃度３％以下で、スパッタ成膜することで得られた酸化物薄膜を、２００〜５００℃で１０分間以上アニールすることを特徴とする酸化物薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】元材の形状如何によらず、カッターを駆動するモータ負荷を一定にし、その上で仕上げ寸法を一定とすることの可能な面削装置を提供する。
【解決手段】走行する長尺の金属板の両側面、上面及び下面を連続的に面削装置において、負荷検出手段によって検出したカッターを回転させるための駆動手段の電流値又は電力値に基づいて、金属板を上下面から挟持するように配置され、前記金属板を連続的に搬送するためのフィードロールの回転速度３を変化させた。 （もっと読む）

【課題】スパッタ時に発生するパーティクル（発塵）やノジュールを低減し、品質のばらつきが少なく量産性の向上可能なＺｎＳを主成分とするスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】ターゲットの結晶粒が微細であり、密度が９７％以上、さらには９９％以上の高密度を備えた、アルカリ金属０．５〜１０ｗｔｐｐｍを含有する焼結性に優れたスパッタリングターゲット用ＺｎＳ粉末を主成分とする粉末を焼結して形成されたスパッタリングターゲットで、アルカリ金属はＮａ又はＫである。 （もっと読む）

【課題】 ニッケル、リチウムを含む溶液からニッケル、リチウムをそれぞれ分離し、電気ニッケル、炭酸ニッケル、炭酸リチウムとして回収する。
【解決手段】 少なくともリチウム、ニッケルを含む溶液を
第１工程として溶媒抽出によって、有機相中へニッケルとともにリチウム抽出し、
第２工程として、ニッケルとリチウムを含有する有機相を硫酸溶液によって洗浄し、洗浄液中にリチウムを濃縮するニッケルとリチウムの分離回収方法。 （もっと読む）

【課題】イリジウムと不純物元素を含む水溶液から効率的にイリジウム精製水溶液を得る方法を提供する。
【解決手段】イリジウム及びその他の白金族元素を含有する水溶液からイリジウム以外の白金族元素を除去する方法であって、１）ｐＨを３．０未満とした該溶液に金属ビスマスを添加することにより、イリジウム以外の白金族元素を還元析出させた後、ろ過により該溶液から析出物が除去された第一のろ過後液を得る工程；２）第一のろ過後液に塩基を添加することによりｐＨを３．０以上とし、溶解ビスマス成分を析出沈澱させた後、ろ過により第一のろ過後液から析出物が除去された第二のろ過後液を得る工程；を実施することを含む方法。 （もっと読む）

【課題】表面を平滑にして屈曲性に優れると共に、製造が容易な圧延銅箔を提供する。
【解決手段】JIS-B0601-2001に従い接触式で表面粗さを測定したとき、｛（圧延直角方向の算術平均粗さRas[μm]）−（圧延平行方向の算術平均粗さRap[μm]）｝≧0.02[μm]であり、かつRasが0.04μmを超える圧延銅箔である。 （もっと読む）