【課題】セレン含有半導体物質および相変化合金の製造に使用するための、ヒドラジンを含まず、ヒドラジニウムを含まない、セレン含有インクの提供。
【解決手段】液体媒体中に安定に分散された式：ＲＺ−Ｓｅ_ｘ−Ｚ’Ｒ’を有する化合物を含むセレンインクであり、当該セレンインクはヒドラジンを含まず、ヒドラジニウムを含まない。このセレンインクを製造する方法、およびこのセレンインクを使用して、様々なカルコゲナイド含有半導体物質、例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）；および、光応答デバイス（例えば、エレクトロフォトグラフィ（例えば、レーザープリンタおよびコピー機）、整流器、写真用露出計および太陽電池）、並びに、カルコゲナイド含有相変化メモリ物質の製造に使用するための基体上にセレンを堆積する方法。 （もっと読む）

【課題】光酸不安定である、複数環の芳香族および／または多環式エステル単位を含む新規の樹脂の提供。
【解決手段】この新規樹脂を含む化学増幅ポジ型フォトレジスト、並びに複数環の芳香族および／または多環式エステルモノマーの提供。 （もっと読む）

【課題】上塗りされるフォトレジストの下地となるコーティング組成物の樹脂成分を形成するための薬剤として特に有用なシアヌラート化合物の提供。
【解決手段】下記式


で表されるイソシアヌラート化合物。式中、Ｒ^１ＯＯＣ（ＣＸ_２）ｎ−、Ｒ^２−、およびＲ^３ＯＯＣ（ＣＸ_２）ｍ−基の少なくとも２つは異なる酸またはエステル基であり；Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３、並びに各Ｘは、それぞれ独立して水素または非水素置換基であり；ｎおよびｍは同じかまたは異なっており、かつそれぞれは整数である） （もっと読む）

【課題】反射防止塗膜層上にパターン形成されたフォトレジスト像の解像度を増大できるコーティング組成物を提供する。
【解決手段】上塗りフォトレジストと共に使用するためのコーティング組成物が提供され、当該コーティング組成物は、シアヌラート基およびヒドロキシ基又はエーテル基を含む樹脂であり、シアヌラート基含有樹脂は、カルボキシおよび／またはカルボキシエステル基による、複数のシアヌラート窒素環原子の置換を含むシアヌラート化合物から製造される。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造において、高密度リソグラフィーパターンを製造するために、多重露光フォトリソグラフィーに使用する組成物、および多重露光リソグラフィープロセスを用いて電子デバイスを形成する方法を提供する。
【解決手段】マトリックスポリマー、架橋剤、トリ−もしくはより高次の官能性の第一級アミン、および溶媒を含む、多重露光リソグラフィープロセスに使用するのに好適な組成物。 （もっと読む）

【課題】セレン含有半導体物質及び相変化合金の製造に使用するためのヒドラジンを含まず、ヒドラジニウムを含まないセレン含有インクを提供する。
【解決手段】液体媒体中に安定に分散されたセレンを含むセレンインクであり、当該セレンインクはヒドラジンを含まず、ヒドラジニウムを含まない。このセレンインクを製造する方法、およびこのセレンインクを使用して、様々なカルコゲナイド含有半導体物質、例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）；および、光応答デバイス（例えば、エレクトロフォトグラフィ（例えば、レーザープリンタおよびコピー機）、整流器、写真用露出計および太陽電池）、並びに、カルコゲナイド含有相変化メモリデバイスの製造に使用するための基体上にセレンを堆積する方法。 （もっと読む）

【課題】気相中でのキャリアガスに対する前駆体の濃度を維持する方法及び装置を提供する。
【解決手段】ガス出口ライン２４における気体状混合物中の気化前駆体化合物の濃度を検出し、検出された濃度（ｃ）と参照濃度（ｃ０）とを比較し、濃度差（ｃ−ｃ０）を利用して制御装置２９において信号を発生させ、当該信号によりガス制御バルブ２３を調節し、気化容器内の全圧力を調節し、温度検出手段は前駆体化合物の温度を検出するように配置され、前駆体化合物の温度を検出し、検出された温度（Ｔ）と参照温度（Ｔ０）とを比較して温度差（Ｔ−Ｔ０）を提供し、当該温度差を利用して制御装置２９において信号を発生させ、当該信号がガス制御バルブを調節し、気化容器内の全圧力を調節し、ガス出口ラインにおける気体状混合物中での気化前駆体化合物の実質的に一定の濃度を維持する。 （もっと読む）

【課題】安定組成物の提供。
【解決手段】Ｂステージオルガノポリシリカ樹脂を含有する安定オルガノポリシリカ組成物、斯かるＢステージオルガノポリシリカ樹脂組成物を安定化させる方法及び斯かる安定組成物を使用して電子デバイスを製造する方法が、開示される。 （もっと読む）

【課題】新規多層フォトレジスト系の提供。
【解決手段】多層フォトレジスト系が提供されている。特別の局面においては、本発明は、オーバーコートされたフォトレジスト用の下層組成物、特に短い露光波長で像形成されるオーバーコートされたケイ素含有フォトレジストに関する。好ましい下層組成物は、耐エッチング性と反射防止性を付与する１つ以上の樹脂と他の構成成分、例えばフェニルあるいは他の耐エッチング性の基を含有する１つ以上の樹脂とアントラセンまたはフォトレジストの露光放射線に有効な反射防止性発色団部分である他の部位を含む。 （もっと読む）

【課題】下塗り反射防止層として使用されることができ、かつ水性フォトレジスト現像剤で除去されうる新たな組成物を提供する。
【解決手段】上塗りフォトレジスト層の現像中の単一工程をはじめとする水性アルカリ現像剤で現像されうる有機コーティング組成物、特に反射防止コーティング組成物が提供される。好ましいコーティング組成物は少なくとも４種の異なる官能基を含むテトラポリマーを含む。 （もっと読む）