【課題】ニッケル、銅、コバルト、パラジウムなどの下地金属皮膜を腐食せず、優れた密着性を有する金めっき皮膜を形成する無電解金めっき液を提供する。
【解決手段】無電解金めっき液の成分として、（ｉ）水溶性シアン化金化合物、
（ｉｉ）錯化剤、および（ｉｉｉ）１位にフェニル基またはアラルキル基を有するピリジニウムカルボン酸化合物を含有するめっき液。 （もっと読む）

【課題】三次元微細構造体およびその形成方法が提供される。
【解決手段】微細構造体は逐次的構築プロセスにより形成され、互いに固着された微細構造体要素を含む。微細構造体は例えば、電磁エネルギーのための同軸伝送路に使用される。 （もっと読む）

【課題】三次元微細構造体およびその形成方法が提供される。
【解決手段】微細構造体は逐次的構築プロセスにより形成され、互いに固着された微細構造体要素が含まれる。微細構造体は例えば、電磁エネルギーのための同軸伝送路に使用される。 （もっと読む）

【課題】三次元微細構造体およびその形成方法が提供される。
【解決手段】微細構造体は逐次的構築プロセスにより形成され、互いに機械的に固定された微細構造体要素を含む。微細構造体は例えば、電磁エネルギーの同軸伝送路に使用される。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィーに有用な新規フォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】液浸リソグラフィーに有用な新規フォトレジスト組成物が提供される。本発明の好ましいフォトレジスト組成物は、塩基で処理することによって変化させることのできる水接触角度を有する１種以上の物質、および／またはフッ素化された光酸不安定基を含む１種以上の物質、および／またはポリマー主鎖から間隔を置く酸基を含む１種以上の物質を含む。本発明の特に好ましいフォトレジストは、液浸リソグラフィー工程中にレジスト層に接触する浸漬流体中へのレジスト物質の浸出を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】放射線で露光されることにより１，１−ジフルオロアルキルスルホン酸を発生させる光感応性酸発生剤化合物の提供。
【解決手段】１，１−ジフルオロアルキルスルホン酸の合成方法としては例えば１，１−ジフルオロ−２−（１−ナフチル）エチニレンと亜硫酸ナトリウムを反応させて１，１−ジフルオロ−１−スルホン酸−２−（１−ナフチル）エチレンを得る方法である。更に、１，１−ジフルオロ−１−スルホン酸−２−（１−ナフチル）エチレンをジ（４−ｔ−ブチルフェニル）−ヨードニウム硫酸塩と反応させて光感応性酸発生剤化合物を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】ホルムアルデヒドを含まず、環境に優しい無電解銅組成物を提供する。
【解決手段】１以上の銅イオン源と、１以上のチオカルボン酸と、グリオキシル酸およびその塩と、組成物をアルカリ性に維持するための１以上のアルカリ性化合物とを含み、チオカルボン酸が、下記式を有する組成物を用いて無電解メッキを行う。 ＨＳ−（ＣＸ１）ｒ−（ＣＨＸ２）ｓ−ＣＯＯＨ（式中、Ｘ１は−Ｈまたは−ＣＯＯＨであり、Ｘ２は−Ｈまたは−ＳＨであり、ｒおよびｓは正の整数であり、ｒが０〜２、または０または１であり、ｓが１または２である）。 （もっと読む）

【課題】オーバーコーティングされたフォトレジストに関して使用される新規反射防止組成物を提供すること。
【解決手段】修飾された１以上のイミド基を含む１以上の樹脂を含む下地コーティング組成物が提供される。これらのコーティング組成物はオーバーコーティングされたフォトレジスト層のための反射防止層として特に有用である。好ましい系は熱処理されて、組成物コーティング層の親水性を増大させて、オーバーコーティングされた有機組成物層との望ましくない混合を抑制し、一方、組成物コーティング層を水性アルカリ性フォトレジスト現像液で除去可能にすることができる。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスの熱界面材料として熱発生デバイスに結合して用いられるインジウム金属およびその合金の電気化学的な析出のための改善されたインジウム組成物及びインジウム組成物で製造した物品の提供。
【解決手段】イミダゾールなどの窒素含有化合物を共重合化合物とするエピハロヒドリンコポリマーを水素抑制剤化合物として含む１以上のインジウムイオン源からなる組成物、および該組成物から基体上にインジウム金属を電気化学的に析出させて製造した物品。 （もっと読む）

【課題】光学的機能を有するプリント回路板の形成方法の提供。
【解決手段】光学的機能を有するプリント回路板の形成方法が提供される。方法はプリント回路板基体にドライフィルムを施用すること、およびドライフィルム上に光導波路を形成することを含む。本発明は電子および光電子産業に格別の応用性を見出す。 （もっと読む）