【課題】入射光反射率が低減した多結晶シリコン半導体テクスチャを形成するためのエッチング液を提供する。
【解決手段】アルカリ化合物、フッ化物イオンおよび酸化剤を含む酸性水性組成物を用い、多結晶シリコンの等方性エッチングを行なうことにより、露出した粒界を含まず、４００ｎｍ〜１１００ｎｍの入射光波長での入射光反射率が２０％以下となるテクスチャが得られる。 （もっと読む）

【課題】前面電流トラックを形成したドープ半導体ウェハの銅めっきに関する改善された銅めっき方法を提供する。
【解決手段】前面、裏面およびＰＮ接合を含む半導体を提供し、下層を含む導電トラックのパターンを前記前面が含み、かつ前記裏面が金属接点を含んでおり；前記半導体を一価銅めっき組成物と接触させ；並びに導電トラックの下層上に銅をめっきする。 （もっと読む）

【課題】Ｔ−ゲート構造物の改良された形成法の提供。
【解決手段】ａ）基板を提供する工程、ｂ）基板上に平坦化層を配置する工程、ｃ）ＵＶ感受性第一フォトレジストの層を配置する工程、ｄ）マスクを通してＵＶ放射線に露光し、現像することによって、第一フォトレジストをパターン化して、Ｔ−ゲートの底部用の第一開口を規定する工程、ｅ）パターンを平坦化層に転写する工程、ｆ）このパターンをＵＶ放射線に対して非感受性にする工程、ｇ）ＵＶ感受性第二フォトレジストの層を配置する工程、ｈ）第二フォトレジストをマスクを通してＵＶ放射線に露光し、現像することによって、第二フォトレジストをパターン化して、第一開口の上のＴ−ゲートのキャップ用の第二開口を規定する工程、ｉ）第一開口および第二開口内に導電性材料を堆積してＴ−ゲートを形成する工程、を含む方法。 （もっと読む）

【課題】基体から上塗りフォトレジスト層に戻る露光放射線の反射を低減させる反射防止コーティング組成物の提供。
【解決手段】１以上のウラシル部分を含む成分を含む有機コーティング組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト用原料として、優れた性能を有する重合性光酸発生モノマーを提供する。
【解決手段】下記構造を有するモノマー化合物：


式中、各Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は独立してＨ、Ｆ、Ｃ_１−１０アルキル、フッ素置換Ｃ_１−１０アルキル、Ｃ_１−１０シクロアルキル、もしくはフッ素置換Ｃ_１−１０シクロアルキルであって、ただしＲ^１、Ｒ^２もしくはＲ^３の少なくとも１つはＦであり；ｎは１〜１０の整数であり、Ａはハロゲン化されたもしくはハロゲン化されていないＣ_２−３０オレフィン含有重合性基であり、並びにＧ^＋は有機もしくは無機カチオンである。このモノマーは、スルトン前駆体と、ヒドロキシ含有のハロゲン化されたもしくはハロゲン化されていないＣ_２−３０オレフィン含有化合物のオキシアニオンとの反応生成物である。ポリマーは式（Ｉ）のモノマーを含む。 （もっと読む）

【課題】ネガティブトーン（ｎｅｇａｔｉｖｅ ｔｏｎｅ）現像プロセスを用いて微細パターンの形成に有用なフォトレジスト組成物およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の単位を含む第１のポリマー；


下記一般式（ＩＶ）および（Ｖ）の単位を含む第２のポリマー；


並びに光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトスピード、限界寸法（ｃｒｉｔｉｃａｌ ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ；ＣＤ）均一性、ネガティブトーン現像剤（ＮＴＤ）中での溶解速度、及び、パターン忠実度に優れた、フォトレジスト組成物、フォトレジスト組成物の層を含むコーティングされた基体及びフォトリソグラフィパターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）：


の単位を含む第１のポリマー；（Ｂ）（メタ）アクリル酸Ｃ３〜Ｃ７アルキルホモポリマーもしくはコポリマーである第２のポリマー；並びに（Ｂ）光酸発生剤；を含むフォトレジスト組成物、及びフォトレジスト層の未露光領域が現像剤によって除去されて、フォトリソグラフィパターンを形成する方法。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒の混合物を含むフォトレジスト現像剤組成物の提供。
【解決手段】特定の組み合わせの有機現像剤のネガティブトーン現像を用いたフォトリソグラフィパターンを形成する方法により、個々の現像剤の良くない特性を回避するかもしくは最小限にしつつ、優れたリソグラフィ性能を提供できる。 （もっと読む）

【課題】基板上にガリュウムを堆積する方法を提供する。
【解決手段】ガリウムを含むガリウム成分；１，３−プロパンジチオール、ベータ−メルカプトエタノール、これらの類似体およびこれらの混合物から選択される安定化成分、および１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンからなる群から選択される添加剤、並びに液体キャリアを当初成分として含み、安定な分散物であるガリウムインクを用い基板に堆積し加熱処理する。 （もっと読む）

【課題】ガリウム配合インクとその使用方法を提供する。
【解決手段】ａ）ガリウム成分；セレン成分；有機カルコゲナイド成分；第１ｂ族成分；場合によって、二座チオール成分；場合によって、インジウム成分；の組み合わせを当初成分として含む第１ｂ族／ガリウム／（場合によってインジウム）／第６ａ族システムと、（ｂ）液体キャリア成分を含む、ガリウム配合インクであって、前記ガリウム成分がガリウム、安定化成分、添加剤およびガリウムキャリアを当初成分として含み、有機カルコゲナイド成分がＲＺ−Ｚ’Ｒ’およびＲ^２−ＳＨから選択される式を有する少なくとも１種の有機カルコゲナイドを含み、第１ｂ族成分はＣｕＣｌ_２およびＣｕ_２Ｏの少なくとも１種を含み、安定化成分は、１，３−プロパンジチオール、ベータ−メルカプトエタノール、これらの類似体およびこれらの混合物からなる群から選択され、液体キャリア中に分散されるガリウム配合インク。 （もっと読む）