説明

ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.により出願された特許

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【課題】プリント回路基板のスルーホールの角及び壁面に充分に均一な銅の析出ができる電気めっき方法及び、該電気めっき方法は高スローイングパワーを有する銅析出を提供する。
【解決手段】a)1以上の銅イオン供給源、5−100ppbの3−メルカプトプロパンスルホン酸、その塩又はそれらの混合物、1以上の追加の光沢剤、及び1以上のレベリング剤を含有する電気めっき組成物を提供し、b)基板を該電気めっき組成物中に浸漬し、基板は複数のスルーホールを有し、該複数のスルーホールのひざ及び壁面は第一の銅層で被覆され、そしてc)複数のスルーホールのひざと壁面の第一の銅層の上に充分に均一な第二の銅層を電気めっきする。 (もっと読む)



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【課題】分子あたり少なくとも2つのオキシラン基を有する樹脂成分で表されるフラックス剤、並びに硬化剤を含む硬化性フラックス組成物を提供する。
【解決手段】


で表されるフラックス剤、並びに、場合によっては硬化剤を当初成分として含む硬化性フラックス組成物、ならびに硬化性の熱硬化性樹脂組成物を硬化させ、複数の電気的相互接続を封止することを含む、封止された金属接続を形成する方法。 (もっと読む)



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【課題】高解像1/4ミクロン以下さらには1/10ミクロン以下のフィーチャの形成などの高性能用途において有意な欠点を示さない、液浸リソグラフィに有用な新規フォトレジスト組成物及びその処理する方法を提供する。
【解決手段】(a)(i)1種以上の樹脂(ii)光活性成分、および(iii)糖置換を含み、前記1種以上の樹脂と実質的に非混和性である1種以上の材料を含むフォトレジスト組成物を基体上に適用し、並びに(b)フォトレジスト層を前記フォトレジスト組成物を活性化する放射線に液浸露光することを含む、フォトレジスト組成物を処理する方法。 (もっと読む)


【課題】電子デバイスの製造に有用であるラクトン含有光酸発生剤化合物(PAG)およびこのPAG化合物を含むフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】下記式(2)の光酸発生剤化合物:


式中、各Rは同じかもしくは異なっていて、水素もしくは非水素置換基であり;Yは連結基であり;各Rfは独立して水素、フッ素およびフルオロ(C1−C10)アルキルから選択され;Mはカチオンであり;nは0〜6の整数であり;並びに、mは1〜10の整数である。 (もっと読む)


【課題】スピロサイクリックオレフィンポリマー、スピロサイクリックオレフィンポリマーの調製方法、スピロサイクリックオレフィン樹脂バインダーを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合単位としての1以上のスピロサイクリックオレフィンモノマー及び任意に1以上のエチレン性又はアセチレン性不飽和モノマーを含むポリマーであって、そのスピロサイクリックオレフィンモノマーがオレフィン性炭素を介してポリマー骨格に結合されているポリマーであり、更に、1以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーとパラジウム(II)重合触媒、ニケッル(II)重合触媒及びフリーラジカル重合触媒から選択される1以上の触媒を接触させる工程を含む、1以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーを重合して、重合単位として1以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーを含むポリマーの形成法。 (もっと読む)


【課題】プリント回路板のスルーホールの金属化のためのスズを含まない安定なパラジウム触媒組成物を提供する。
【解決手段】ナノ粒子の形態のパラジウム粒子、パラジウムの沈殿および凝集を妨げる安定化剤であるグルタチオンおよびパラジウムイオンを金属に還元するための還元剤を含有する組成物。 (もっと読む)


【課題】半導体幕形成用インクの提供。
【解決手段】(a)セレン、(b)RZ−Z’R’およびR−SHから選択される式を有する有機カルコゲナイド(式中、ZおよびZ’は硫黄、セレンおよびテルルから独立して選択され、RはH、C1−20アルキル基、C6−20アリール基、C1−20ヒドロキシアルキル基、C1−20メルカプトアルキル基およびエーテル基から選択され、R’およびRはC1−20アルキル基、C6−20アリール基、C1−20ヒドロキシアルキル基、C1−20メルカプトアルキル基およびエーテル基から選択される)(c)CuClおよびCuOの少なくとも1種を当初成分として含む第1b族含有物質(d)場合によって、二座チオール成分;アルミニウム、インジウム、ガリウムおよびこの組み合わせから選択される第3a族材料(d)液体キャリア成分を含むカルコゲナイド含有半導体材料製造用のインク。 (もっと読む)


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