【課題】液浸リソグラフィーのための信頼性があり、かつ便利なフォトレジストおよび画像化法を提供する。液浸リソグラフィー処理ならびに非液浸画像化用をはじめとするフォトレジスト上に適用されるオーバーコーティング層組成物を提供する。
【解決手段】基体上のフォトレジスト組成物層、該フォトレジスト層上の、１以上の親水性基を含むコポリマー樹脂を含む有機組成物を含む、コーティングされた基体。 （もっと読む）

【課題】非導電性基板ゼロ価金属の金属化を行う触媒として有用な安定なゼロ価金属組成物並びにその組成物を作成する方法及び使用する方法を提供する。
【解決手段】０．５から１００ｐｐｍのパラジウム、銀、コバルト、ニッケル、金、銅、及びルテニウムから選択されるゼロ価金属、安定剤及び水を含有する組成物であり、水、水可溶性金属塩及び特定の安定化剤を混合し、続いてゼロ価金属を形成するのに充分な量の還元剤を添加し作成する。該組成物は、特に電子部品の製造に用いられる非導電性基板の無電解金属めっきに有用である。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィ用コーティング組成物及び方法の提供
【解決手段】第一の態様においては、（ａ）基体上に硬化性組成物を適用する工程、（ｂ）硬化性組成物上にハードマスク組成物を適用する工程、（ｃ）ハードマスク組成物上にフォトレジスト組成物層を適用する工程を含む方法であって、アッシングを含まないプロセスにおいて一以上の組成物を除去する工程、を含む方法が提供される。第二の態様においては、（ａ）基体上に有機組成物を適用する工程、（ｂ）有機組成物上にフォトレジスト組成物層を適用する工程であって、その有機組成物が、熱処理および／または放射線処理の際にアルカリ溶解性基を生じさせる材料を含む工程を含む方法が提供される。関連する組成物も提供される。 （もっと読む）

【課題】分子あたり少なくとも２つのオキシラン基を有する樹脂成分で表されるフラックス剤、並びに硬化剤を含む硬化性フラックス組成物を提供する。
【解決手段】


で表されるフラックス剤、並びに、場合によっては硬化剤を当初成分として含む硬化性フラックス組成物、ならびに硬化性の熱硬化性樹脂組成物を硬化させ、複数の電気的相互接続を封止することを含む、封止された金属接続を形成する方法。 （もっと読む）

【課題】高解像１／４ミクロン以下さらには１／１０ミクロン以下のフィーチャの形成などの高性能用途において有意な欠点を示さない、液浸リソグラフィに有用な新規フォトレジスト組成物及びその処理する方法を提供する。
【解決手段】（ａ）（ｉ）１種以上の樹脂（ｉｉ）光活性成分、および（ｉｉｉ）糖置換を含み、前記１種以上の樹脂と実質的に非混和性である１種以上の材料を含むフォトレジスト組成物を基体上に適用し、並びに（ｂ）フォトレジスト層を前記フォトレジスト組成物を活性化する放射線に液浸露光することを含む、フォトレジスト組成物を処理する方法。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスの製造に有用であるラクトン含有光酸発生剤化合物（ＰＡＧ）およびこのＰＡＧ化合物を含むフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】下記式（２）の光酸発生剤化合物：


式中、各Ｒは同じかもしくは異なっていて、水素もしくは非水素置換基であり；Ｙは連結基であり；各Ｒｆは独立して水素、フッ素およびフルオロ（Ｃ１−Ｃ１０）アルキルから選択され；Ｍはカチオンであり；ｎは０〜６の整数であり；並びに、ｍは１〜１０の整数である。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィに有用な新規フォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】１種以上の塩基反応性基、および（ｉ）前記塩基反応性基とは異なる１種以上の極性基を含み、および／または（ｉｉ）前記塩基反応性基の少なくとも１種は過フッ素化されていない塩基反応性基である。本発明の特に好ましいフォトレジストは液浸リソグラフィーの際にレジスト層に接触する液浸流体へのレジスト材料の漏出の低減を示すことができる。 （もっと読む）

【課題】スピロサイクリックオレフィンポリマー、スピロサイクリックオレフィンポリマーの調製方法、スピロサイクリックオレフィン樹脂バインダーを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合単位としての１以上のスピロサイクリックオレフィンモノマー及び任意に１以上のエチレン性又はアセチレン性不飽和モノマーを含むポリマーであって、そのスピロサイクリックオレフィンモノマーがオレフィン性炭素を介してポリマー骨格に結合されているポリマーであり、更に、１以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーとパラジウム（ＩＩ）重合触媒、ニケッル（ＩＩ）重合触媒及びフリーラジカル重合触媒から選択される１以上の触媒を接触させる工程を含む、１以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーを重合して、重合単位として１以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーを含むポリマーの形成法。 （もっと読む）

【課題】プリント回路板のスルーホールの金属化のためのスズを含まない安定なパラジウム触媒組成物を提供する。
【解決手段】ナノ粒子の形態のパラジウム粒子、パラジウムの沈殿および凝集を妨げる安定化剤であるグルタチオンおよびパラジウムイオンを金属に還元するための還元剤を含有する組成物。 （もっと読む）

【課題】ネガティブトーン現像プロセスによってフォトリソグラフィパターンを形成するのに有用なフォトレジスト組成物、フォトリソグラフィパターンを形成する方法、並びにフォトレジスト組成物でコーティングされた基体を提供する。
【解決手段】フォトレジスト組成物、およびネガティブトーン現像プロセスを用いて微細パターンの形成を可能にするフォトリソグラフィ方法に関し、このフォトレジスト組成物は一部分が特定のアセタール部分を含むモノマーから形成されるコポリマーを含む。本発明の好ましい組成物および方法は、フォトリソグラフィ処理における厚さ損失の低減およびパターン崩壊マージンの向上をもたらす。この組成物、方法およびコーティングされた基体については、半導体デバイスの製造における特別な適用性が見いだされた。 （もっと読む）