説明

奥野製薬工業株式会社により出願された特許

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【課題】特有の腐敗臭がないモモ樹脂である精製モモ樹脂を効率的に製造する方法およびその方法によって製造された精製モモ樹脂を提供すること。
【解決手段】本発明の精製モモ樹脂の製造方法は、粗モモ樹脂の酸性水溶液を調製する工程、および該酸性水溶液を減圧下で加温する工程を含む。好ましくは、酸性水溶液のpHは2〜5であり、120kPa以下の減圧下で約40〜60℃にて加温することにより、特有の腐敗臭がない精製モモ樹脂を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】6価クロム化合物を用いることなく、3価クロムめっき皮膜の耐食性を大きく向上させることが可能な、3価クロムめっき皮膜用の処理液及び処理方法を提供する。
【解決手段】水溶性3価クロム化合物を含有する水溶液からなる3価クロムめっき皮膜用電解処理液、及び該電解処理液中において3価クロムめっき皮膜を有する物品を陰極電解することを特徴とする3価クロムめっき皮膜の電解処理方法。 (もっと読む)


【課題】3価クロムめっき浴に蓄積しためっき性能に悪影響を及ぼす金属不純物について、コスト的に有利な方法で、生産性を低下させることなく、簡単な操作によって、効率良く低減できる方法を提供する。
【解決手段】金属不純物を含む3価クロムめっき浴を、クロムめっき処理の陰極電流密度と比較して低い電流密度で電解することを特徴とする3価クロムめっき浴からの金属不純物除去方法。 (もっと読む)


【課題】不純物金属イオンが蓄積した無電解ニッケルめっき液の液寿命を延長するために有効な再生処理方法、及び再生処理によって発生した処理廃液からニッケルイオンを回収する方法を提供する。
【解決手段】不純物金属イオンを含む無電解ニッケルめっき液をアミノリン酸基を有するキレート樹脂と接触させて、不純物金属イオン量を低減させる無電解ニッケルめっき液の再生処理方法、該方法の前又は後に、電気透析法によって無電解ニッケルめっき液を処理する工程を含む再生処理方法、並びに金属イオンを吸着処理したアミノリン酸基を有するキレート樹脂について、酸溶液による金属イオンの脱着処理、イミノジ酢酸基を有するキレート樹脂によるニッケルイオンの選択的吸着処理、及び酸溶液によるニッケルイオンの脱着処理を順次行うニッケルイオンの回収方法。 (もっと読む)


【課題】クロム酸−硫酸混液によるエッチング工程を含むめっき処理方法において、エッチング処理液に含まれるクロム酸に対する安定した中和作用を有し、且つ、各種の樹脂成形品に対して優れた触媒付着能力を発揮できる新規な処理剤を提供する。
【解決手段】ジアミン化合物、又は該ジアミン化合物とエピクロルヒドリンとの重縮合物を有効成分として含有する水溶液からなる、クロム酸−硫酸混液によるエッチング処理の後処理剤、及び
樹脂成形品に対してクロム酸−硫酸混液を用いてエッチング処理を行った後、該樹脂成形品を上記後処理剤に接触させ、その後、触媒付与及び無電解めっきを行い、更に、必要に応じて電気めっきを行うことを特徴とする樹脂成形品に対するめっき方法。 (もっと読む)


【課題】マグネシウム合金素材の表面にめっきを施すにあたり、その前処理において表面の汚れ等の介在物を完全に除去した状態でめっき処理に臨むため、めっき皮膜の密着性が良好となりめっき膨れを確実に防止できるマグネシウム合金素材のめっき方法及びそのめっき製品を提供する。
【解決手段】めっき工程の前において、マグネシウム合金素材に前処理とともに施す陽極酸化工程に続いて、その陽極酸化皮膜を除去するエッチング工程と、それに後続するデスマット工程と、それに後続する金属置換工程とからなるめっき前処理工程を施すことを特徴とする。
【効果】マグネシウム合金素材の表面にめっきを施す場合に、その前処理において表面の汚れないし介在物を完全に除去した状態でめっき処理に臨むため、めっき皮膜の密着性が良好となりめっき膨れを防止できる。 (もっと読む)


【課題】有機染料を使用するアルミニウム陽極酸化染色処理品の耐光性向上用組成物、該組成物を用いた耐光性向上方法、及び、その方法により処理された物品を提供する。
【解決手段】ヒンダードピペリジニル基を有する化合物であるヒンダードアミン系光安定剤を含有するpH3以下の溶液を調製し、必要に応じてアルカリ成分を添加してpHを1〜9とした水溶液からなるアルミニウム陽極酸化染色処理品の耐光性向上用組成物に、アルミニウム又はその合金を陽極酸化処理及び染色処理を施して得られる物品を接触させる処理方法、及び、処理された物品。 (もっと読む)


【課題】従来のスミア除去剤の有する各種の問題点を解消し得る新規なスミア除去用組成物を提供する。
【解決手段】無機酸、過マンガン酸塩、並びにハロゲンオキソ酸、ハロゲンオキソ酸塩、過硫酸塩及びビスマス酸塩からなる群から選ばれた少なくとも一種の成分を含有する水溶液からなるスミア除去用組成物、並びに
スルーホールが形成されたプリント配線板を該スミア除去用組成物に接触させることを特徴とするスミア除去方法。 (もっと読む)


【課題】酸化チタンを代表とするn型酸化物半導体について、その特有の特性を利用して新たな用途を提供する。
【解決手段】n型酸化物半導体の皮膜又は成形体に対してフェムト秒レーザを照射することを特徴とするn型酸化物半導体の特性制御方法、及び該方法によってn型酸化物半導体にフェムト秒レーザを照射した後、照射部分に、連続波レーザ又はパルス間隔1ms以下のパルスレーザを照射して、フェムト秒レーザの照射前の状態とすることを特徴とするn型酸化物半導体の特性制御方法。 (もっと読む)


【課題】無鉛ガラス粉末を用いたセラミックカラー組成物において、低融点のガラス粉末を用いることなく、ガラス素材に対する焼き付け温度を低下させることのできる新規なセラミックカラー組成物を提供する。
【解決手段】(1)金属酸化物顔料100重量部、及び酸化バナジウム0.5〜10重量部を含む混合物を熱処理して得られる無機顔料、並びに
(2)無鉛ガラス粉末
を固形分粉末として含有する無鉛セラミックカラー組成物。 (もっと読む)


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