【課題】化学気相成長により基材上に膜を形成するための組成物を提供すること。
【解決手段】式Ａによって表されるアミノシラン及びそれらの混合物からなる群より選択されるアミノシランを含有する、化学気相成長用組成物であって、式中のＲが、直鎖、分枝若しくは環状の飽和若しくは不飽和Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、芳香族基、複素環基、アミン基、又は式Ｃにおいてシリル基から選択され、Ｒ１が、分枝又は環状の飽和又は不飽和Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、芳香族基、複素環基、水素、シリル基から選択され、置換基を有していても又は有していなくてもよく、ＲとＲ１を結合して環状基にすることも可能であり、ただし、ジイソプロピルアミノシラン、ジｓｅｃブチルアミノシラン、及びジｔｅｒｔブチルアミノシランを除く。 （もっと読む）

【課題】ケイ素含有膜を調製するための方法を提供する。
【解決手段】ケイ素、酸化物そして任意選択で窒素、炭素、水素およびホウ素を含む誘電体膜を形成する方法が提供される。さらに、例えば半導体ウェハーなどの加工対象物の上に誘電体膜またはコーティングを形成するための方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】ケイ素含有膜を調製するための方法を提供する。
【解決手段】ケイ素、酸化物そして任意選択で窒素、炭素、水素およびホウ素を含む誘電体膜を形成する方法が提供される。さらに、例えば半導体ウェハーなどの加工対象物の上に誘電体膜またはコーティングを形成するための方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】内部圧縮圧力を増強した炭窒化シリコン及び炭窒化シリコン薄膜のプラズマCVD法を提供すること。
【解決手段】本発明は、プラズマ化学気相成長（PECVD）窒化シリコン（SiN）及び炭窒化シリコン（SiCN）薄膜における内部圧縮応力の増強方法であって、アミノ・ビニルシラン・ベースの前駆体からの膜を堆積するステップを含んでなる前記方法である。より詳しく述べると、本発明は、以下の式：
［RR¹N］_xSiR³_y（R²）_z
｛式中、x＋y＋z＝4、x＝1〜3、y＝0〜2、及びz＝1〜3であり；R、R¹、及びR³が、水素、C₁〜C₁₀アルカン、アルケン、C₄〜C₁₂芳香族であり得；各R²が、ビニル、アリル、又はビニル含有官能基である。｝から選択されるアミノ・ビニルシラン・ベースの前駆体を使用する。 （もっと読む）

【課題】急速サイクル圧力スイング吸着装置における吸着床を防護するための装置及び方法を提供する。
【解決手段】防護層を急速サイクル圧力スイング吸着（ＲＣＰＳＡ：rapid cycle pressure swing adsorption）装置の吸着床に用い、若干の不純物（例えば水蒸気）から吸着剤を保護する。通常、従来のＰＳＡ装置は、実用上、防護層にできるだけ多くの防護材料を詰め込む。しかしＲＣＰＳＡ装置においては、防護層の性能は、防護材料の量を削減し、また防護層に対する接近（アクセス）性をよくすることによって、改善することができる。このような実施形態は、５０％以上のチャネル比率を有する防護層で特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】２以上の圧縮ガス貯蔵容積空間から、例えば車両の燃料タンクなどの受入容器へ、圧縮ガスを分給するための方法を提供すること。
【解決手段】圧縮ガス貯蔵容積空間のおのおのが圧力の上限から圧力の下限まで周期変動するような周期的な輪番カスケード式の圧力サイクルにより圧縮ガス貯蔵容積空間を周期変動させるよう、制御命令を与える。 （もっと読む）

【課題】本発明は化学蒸着（ＣＶＤ）プロセス、原子層堆積（ＡＬＤ）プロセス又は湿式溶液プロセスを用いた金属カルコゲニドの合成を開示する。
【解決手段】オルガノシリルテルル又はオルガノシリルセレンの、求核性置換基を有する一連の金属化合物とのリガンド交換反応により、金属カルコゲニドが生成される。この化学的性質を用いて、相変化メモリデバイス及び光電池デバイスのためのゲルマニウム−アンチモン−テルル（ＧｅＳｂＴｅ）膜及びゲルマニウム−アンチモン−セレン（ＧｅＳｂＳｅ）膜又はその他のテルル及びセレンをベースとする化合物を堆積させる。 （もっと読む）

【課題】次の式の前駆体を用いて、原子層堆積によって、金属含有フィルムを形成する方法を提供する。
【解決手段】Ｍ（ＯＲ¹）（ＯＲ²）（Ｒ³Ｃ（Ｏ）Ｃ（Ｒ⁴）Ｃ（Ｏ）ＸＲ⁵_y）₂（ここで、Ｍは、第四族金属であり；Ｒ¹及びＲ²は、直鎖又は分岐鎖のＣ_1〜10アルキル及びＣ_6〜12アリールからなる群より、同じく又は異なって選択されることができ；Ｒ³は、直鎖又は分岐鎖のＣ_1〜10アルキル及びＣ_6〜12アリールからなる群より選択されることができ；Ｒ⁴は、水素、Ｃ_1〜10アルキル及びＣ_6〜12アリールからなる群より選択され；Ｒ⁵は、Ｃ_1〜10の直鎖又は分岐鎖アルキル及びＣ_6〜12アリールからなる群より選択され；ＸはＯ又はＮであるが、Ｘ＝Ｏの場合、ｙ＝１であり且つＲ^1、2及び5が同じとなり、Ｘ＝Ｎの場合、ｙ＝２であり、且つ各Ｒ⁵は同じものとなることができ、又は異なるものとなることができる）。 （もっと読む）

【課題】酸素に富む気体の製造装置と方法を提供すること。
【解決手段】酸素に富む気体を製造するための装置は、（ａ）第１及び第２のコンプレッサを含み、重量Ｗ_pにより特徴づけされる主気体ポンプ、（ｂ）第１及び第２のコンプレッサを駆動するように適合された駆動モータ、（ｃ）重量Ｗ_bによって特徴づけされる充電式電源、及び（ｄ）加圧原料空気を生成物流量Ｆ_pの酸素に富む生成物と酸素欠乏廃気とに分離するように適合され、吸着剤を収容する複数の吸着床を含み、吸着剤の合計重量Ｗ_aにより特徴づけされる圧力／真空スイング吸着ユニット、を含む装置であり、吸着剤、主気体ポンプ及び充電式電源の総重量Ｗ_tが、式
０．７５Ｆ_p＜Ｗ_t＜２．０２Ｆ_p
で特徴づけられ、式中のＦ_pはリットル／分（２３℃、１ａｔｍａ圧力での）単位であり、Ｗ_a、Ｗ_p及びＷ_bはポンド単位である、酸素に富む気体の製造装置である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ケイ素含有膜の堆積に用いることができる有機アミノシラン前駆体を提供する。
【解決手段】ケイ素を含むケイ素含有膜の堆積に用いることができる有機アミノシラン前駆体及びこれらの前駆体の製造方法を開示する。また、ここに記載した有機アミノシラン前駆体を用いてケイ素含有膜を製造するための堆積方法も開示する。例えば、ケイ素含有膜を堆積させるために前駆体を反応器に供給するのに用いることができる、上記有機アミノシラン前駆体又はその組成物を含む容器も開示する。 （もっと読む）