説明

アイメックにより出願された特許

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【課題】神経プローブシステムの構造、使用に関する。
【解決手段】キャリア(7)に取り付けられ、2つ以上の導電性セグメント(1)のセットを備えた、少なくとも1つの平面マイクロ電極(2)。該セットは好ましくは15μm〜8000μmの領域に収まるようにした。該セット内の導電性セグメント(1)の少なくとも2つの部分集合は、ライン(3)に電気的に接続したマイクロ電極(2)の表面領域および/または形状が可変であるように、同じ入力ラインまたは出力ライン(3)に個々に切替可能であることを確保する電気接続部(4、5)を有する。 (もっと読む)


【課題】4、4’ジ置換4H-シクロペンタジチオフェンの新規合成方法の提供。
【解決手段】次の一般式:


を有する化合物の合成方法に関し、該方法は、負のpKaを有する二塩基酸の存在下に一般式:


[式中、R1およびR2は有機基であり、XおよびYは独立に、水素、塩素、臭素、ヨウ素、ボロン酸、ボロン酸エステル、ボラン、擬ハロゲンおよび有機錫からなる群から選ばれる。]を有する化合物を反応させる工程を含んでなる。この方法はさらに、原料となる化合物(II)および、その閉環の結果得られる化合物に関する。 (もっと読む)


【課題】良好な冷却効率を有する冷却装置を提供する。
【解決手段】集積回路などの半導体デバイスの表面を冷却するための装置は、冷却対象の表面に対して非平行である複数のチャネル(3’)を備え、各チャネルは、各チャネルの長さに沿って配置された複数の分離電極(5)または等価の導電エリアを備え、該装置は、あるシーケンスに従って前記電極または導電エリアに電圧を印加するための手段を備え、あるいは該手段と接続可能であり、前記シーケンスは、チャネル内の冷却液の液滴(6)が1つの電極から次の電極へ移動して、これにより液滴をチャネルの上部から下部へ輸送し、そこから液滴が冷却対象の表面に衝突する。 (もっと読む)


【課題】細胞ネットワークの電気的活動にアクセスするためのインターフェースデバイスを提供する。
【解決手段】組織切片6を保持すること、ならびに組織切片6からの神経細胞を記録および/または刺激することに適する混合マイクロ流体多重電極グリッドアレイ(MEGA)デバイス10。MEGAデバイス10は、少なくとも電気的および/または光学的多重電極アレイを備えるグリッド形状の上基板と、グリッド1および土台2で構成するスタック形状の第1下基板であって、グリッド1は、電気的および/または光学的多重電極アレイを備え、土台2は、マイクロ流体灌流システムを備え、前記グリッド1の下にあるようにした第1下基板とを備える。さらに、前記MEGAデバイス10は、第1基板および第2基板を一緒に押圧および位置決めし、前記2つの基板の間に組織切片または細胞培養を固定するための手段を備える。 (もっと読む)


【課題】所定の圧力及び所定の温度に加圧された部屋に配置した基板に形成されている物質(特に、薄膜)の間隙率を求める装置及び非破壊方法に関する。
【解決手段】ガス物質(例えば、トルエン蒸気)が部屋1に導入され、所定時間後、部屋に配置した基板2に形成されている薄膜の間隙率が、少なくとも偏光解析測定によって求められる。特に、偏光解析器6から得られる光学的特性は、薄膜の間隙(ポア)に凝縮されたガス物質の量を求めるために利用される。その量は、薄膜の間隙率を計算するために利用される。 (もっと読む)


【課題】ヘテロ構造ナノワイアを有するトンネル電界効果トランジスタと集積されたナノワイアを有する相補型トンネル電界効果トランジスタの製造方法を提供する。
【解決手段】犠牲材料21の層を有するチャネル材料34の層を含むスタック24を形成する工程と、チャネル材料34の層と犠牲材料21の層から、少なくとも1つのナノワイヤ30を形成するために、スタック24から材料を除去する工程と、第1ドーパント型の少なくとも1つのナノワイヤ30中の犠牲材料21を第1ドーパント型のヘテロ接合材料41で置き換えて、その後に、第2ドーパント型の少なくとも1つのナノワイア中の犠牲材料を、第2ドーパント材料のヘテロ接合材料52で置き換える工程を含み、相補型TFETの容易な製造が可能となる。 (もっと読む)


【課題】フォトニック結晶構造を備えた発光ダイオードの製造方法の提供。
【解決手段】キャリア20と、III−窒化物材料からなる活性層構造18と、III−窒化物材料からなるフォトニック結晶構造19とを備え、活性層構造18は、n型ドープ層8およびp型ドープ層9および適切には量子井戸構造を持つ第1活性層を備える。フォトニック結晶構造19は、周期的に分布した溝、または周期的に分布し、1つ又はそれ以上の溝によって間隔があいた柱を備える。フォトニック結晶構造19は、内部において溝の直径が徐々に増加している過成長層6と、溝の直径がほぼ一定である方向性フォトニック結晶層4,5とを含む。ダイオード100は、方向性フォトニック結晶構造19が、基板の第1表面の選択したエリアを露出する3次元パターンに設けられるような方法で形成する。 (もっと読む)


【課題】電子回路を人体の活性細胞(例えば、ニューロン)とインタフェース接続するのに適したデバイスを提供する。
【解決手段】細胞を記録及び/又は刺激するのに適したバイオハイブリッド型インプラントは、ニューロンを電子回路と接続するための神経インタフェース(13)を備えた基板(502)を収容した、少なくとも1つの閉じた隔離されたチャンバ(1)と、隔離されたチャンバ(1)の少なくとも1つと接続するための第1インタフェース(11)および、ホスト神経系(7)または他の隔離されたチャンバ(B)と接続するための第2インタフェース(9)を有する、少なくとも1つの可撓性ガイドチャネル(10)とを備える。 (もっと読む)



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