【課題】より均等にターゲットをスパッタでき、磁場分布補正を行う磁性板の配置も容易となるなど、極めて実用性に優れた磁界発生装置の提供。
【解決手段】磁気回路を有するマグネトロンスパッタリング装置用の磁界発生装置において、磁気回路は、内側永久磁石２、内側永久磁石２を取り囲むように設ける外側永久磁石３、及び、内側永久磁石２に隣接する第一の補助永久磁石４と、外側永久磁石３に隣接する第二の補助永久磁石５と、第一の補助永久磁石４と第二の補助永久磁石５との間に設けられ、磁気回路の磁束密度の垂直成分がゼロ点を３回交差するゼロ点交差領域若しくは磁束密度の垂直成分がゼロ点でフラットとなるゼロ周辺領域が形成されるように磁化方向が設定される第三の補助永久磁石６とから成る補助永久磁石を有する磁界発生装置。 （もっと読む）

【課題】基板を離間状態で相対移動させることで小形の蒸着マスクでも広範囲に成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、また、成膜パターンの重なりを防止すると共に、蒸発源からの輻射熱の入射を抑制し、基板と蒸着マスクとを離間状態で相対移動させる構成でありながら、高精度で高レートな蒸着が行える蒸着装置並びに蒸着方法を提供する。
【解決手段】蒸発源と基板との間に、制限用開口部を設けた飛散制限部を有するマスクホルダーを配設し、このマスクホルダーに蒸着マスク２を付設し、前記基板を、蒸着マスク２を付設したマスクホルダー及び前記蒸発源に対して、蒸着マスク２との離間状態を保持したまま相対移動自在に構成し、蒸着マスク２のマスク開口部３は、前記基板の相対移動方向に長くこれと直交する横方向に幅狭いスリット状とし、この横方向に複数並設した蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】高精度な蒸着ができ、長時間の連続稼動も可能な蒸着装置並びに蒸着方法の提供。
【解決手段】成膜室30において、蒸発源１から蒸発した成膜材料を、蒸着マスク２のマスク開口部を介して基板４上に堆積して、この蒸着マスク２により定められた成膜パターンの蒸着膜が基板４上に形成されるように構成した蒸着装置であって、前記蒸発源１から蒸発した蒸発粒子の飛散方向を制限する制限用開口部５を設けた飛散制限部を有し、前記蒸着マスク２が付設されたマスクホルダー６を備え、この蒸着マスク２が付設された前記マスクホルダー６が前記成膜室30と往来できるロードロック室32、前記マスクホルダー６が前記ロードロック室32と往来できる待機室33及び装置外部に前記マスクホルダー６を取り出し可能な取出し室34を有する交換室31を備えたことを特徴とする蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】基板の大型化に伴って蒸着マスクを同等に大型化せず基板より小形の蒸着マスクでも、基板を離間状態で相対移動させることで広範囲に蒸着マスクによる成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、また成膜パターンの重なりを防止すると共に、蒸発源からの輻射熱の入射を抑制し、高精度で高レートな蒸着が行える蒸着装置並びに蒸着方法を提供すること。
【解決手段】蒸発源１と基板４との間に、制限用開口部５を設けた飛散制限部を有するマスクホルダー６を配設し、このマスクホルダー６に前記蒸着マスク２を付設し、前記基板４を、前記蒸着マスク２を付設した前記マスクホルダー６及び前記蒸発源１に対して、前記蒸着マスク２との離間状態を保持したまま相対移動自在に構成し、前記蒸発源１は、線膨張係数がステンレス鋼より小さい材料で形成した蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】基板の大型化に伴って蒸着マスクを同等に大型化せず基板より小形の蒸着マスクでも、基板を離間状態で相対移動させることで広範囲に蒸着マスクによる成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、また成膜パターンの重なりを防止すると共に、蒸発源からの輻射熱の入射を抑制し、高精度で高レートな蒸着が行える蒸着装置並びに蒸着方法を提供すること。
【解決手段】蒸発源１と基板４との間に、制限用開口部５を設けた飛散制限部を有するマスクホルダー６を配設し、このマスクホルダー６に前記蒸着マスク２を接合させて付設し、前記基板４を、前記蒸着マスク２を付設した前記マスクホルダー６及び前記蒸発源１に対して、前記蒸着マスク２との離間状態を保持したまま相対移動自在に構成し、前記蒸発源１の蒸発口部８は、前記基板４の相対移動方向に長くこれと直交する横方向に幅狭いスリット状としたことを特徴とする蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】小形の蒸着マスク２でも大型の基板４を離間状態で相対移動させることで広範囲に蒸着マスクによる成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、蒸着マスクの温度上昇を十分に抑えて蒸着マスク２を一定の温度に保持ができるため、蒸着マスクの熱による歪みを防止でき、高精度の蒸着が行える画期的な蒸着装置を提供すること。
【解決手段】基板４と蒸着マスク２とを離間状態に配設し、この基板４と蒸発源１との間に、制限用開口部５を設けた飛散制限部を構成するマスクホルダー６を配設し、このマスクホルダー６に前記蒸着マスク２を接合させて付設し、このマスクホルダー６に蒸着マスク２の温度を保持する温度制御機構９を設け、基板４をこの蒸着マスク２に対して相対移動することにより蒸着マスク２より広い範囲に、精度の高い成膜パターンの蒸着膜を形成できる蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】第４世代以上の大型基板にも対応可能な極めて実用性に秀れた成膜装置の提供。
【解決手段】直立状態に保持された基板２にマスク３を介して成膜材料を付着せしめて成膜を行う成膜室１を備えた成膜装置であって、成膜室１に、マスク３が基板２に対して適正位置となるようにマスク３と基板２との位置合わせを行うアライメント駆動機構と、基板２若しくはマスク３の搬送方向に沿って移動可能な蒸発源100と、蒸発源100と対向する複数の成膜位置に基板２及びマスク３を夫々直立状態で搬送するマスク搬送機構及び基板搬送機構とを設け、一の成膜位置において蒸発源100により成膜を行いながら他の成膜位置においてアライメント駆動機構によりマスク３と基板２との位置合わせを行えるように構成する。 （もっと読む）

【課題】位置合わせ精度を確保しつつ省スペースを実現し、第４世代以上の大型基板にも対応可能な極めて実用性に秀れた成膜装置の提供。
【解決手段】真空槽１内で直立状態に保持された基板２にマスク３を介して成膜材料を付着せしめて成膜を行う成膜装置であって、マスク３を直立状態に取り付けたアライメント枠４を基板２に対して調整移動して、マスク３が基板２に対して適正位置となるようにマスク３と前記基板２との位置合わせを行うアライメント駆動機構を備え、このアライメント駆動機構は、真空槽１の外部にしてその上部側に設けられる上部側駆動機構か若しくは真空槽１の外部にしてその下部側に設けられる下部側駆動機構で構成する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で金属材料の供給量を適正量に設定することが可能で、蒸着対象の蒸着面の膜厚分布及び膜質が安定し、また、坩堝の耐用期間が長期化し、更に、坩堝の周辺が汚れ難くなり、しかも、既存設備への適用も容易な極めて実用性に秀れた金属材料供給方法の提供。
【解決手段】蒸発源１に充填された金属材料２を抵抗加熱方式若しくは高周波誘導加熱方式で加熱する加熱部７により加熱して、この金属材料２の蒸発物を蒸着対象３に付着させる蒸着装置の前記蒸発源１に金属材料２を供給する金属材料供給方法であって、前記加熱部７を通電する電圧値及び電流値を測定してこの電圧値と電流値との比であるＶ／Ｉ値を算出し、この算出したＶ／Ｉ値に応じて前記金属材料２の供給量を設定する。 （もっと読む）

【課題】オーバーシュートが小さく蒸着レートコントロールが容易で、蒸着材料を短い加熱時間で所定温度に到達させることができ、また基板全体に短時間に蒸着しタクトタイムを短縮する事が可能な実用性に秀れた蒸着装置における蒸発源の提供。
【解決手段】基板３と対向状態に設ける容器２に蒸着材料１を収納し、この容器２内の蒸着材料１を加熱して蒸発させることで基板３の成膜面４に蒸着材料１を付着させて成膜を行う蒸着装置における蒸発源であって、容器２は、基板３の成膜面４と対向する上面部７と蒸着材料収納本体部５とから成る箱状に構成し、この上面部７に、蒸発した蒸着材料１が通過可能な蒸着材料通過孔６を複数並設状態に設け、容器２にマイクロ波吸収体を設け、容器２にマイクロ波を照射してマイクロ波吸収体を発熱させるマイクロ波照射部８を備える。 （もっと読む）