【課題】 ロール部とシャフト部とを着脱自在に構成し、コンダクターロールの交換時に腐食したロール部のみを交換し、交換作業の簡略化と交換部品を少なくし、経費の節減と共に製品コストを低くすることができるコンダクターロールを提供する。
【解決手段】 金属板・フィルムへのめっき、または金属箔・フィルムへの電解表面処理を行う電解表面処理装置１に使用されるコンダクターロール２において、金属板または箔、またはフィルムに当接するロール部１０とシャフト部２０とを着脱自在とした。 （もっと読む）

【課題】プラズマガスの流速を過度に高めることなくプラズマアークを緊縮させることが可能なプラズマ溶接トーチを提供すること。
【解決手段】棒状の非消耗電極１と、非消耗電極１を同軸状に囲む円筒状のプラズマノズル２と、プラズマノズル２を同軸状に囲む円筒状のシールドノズル３と、を備え、プラズマガス流路４からプラズマガスＰＧを噴出し、シールドガス流路５からシールドガスＳＧを噴出する、プラズマ溶接トーチＡであって、プラズマノズル２には、プラズマガス流路４からシールドガス流路５へとプラズマガスＰＧの一部を導入するバイパス流路２３が設けられている。バイパス流路２３から分流されたプラズマガスＰＧがプラズマアークをさらに緊縮させるとともに、プラズマガスＰＧの流速が不当に速くなることを回避できる。これにより、比較的板厚が厚いＡｌ合金の溶接母材に対して、適切なキーホールを伴った良好な溶接を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】良好な溶接ビードが得られる交流プラズマ溶接を効率よく行うことが可能な交流プラズマ溶接方法を提供すること。
【解決手段】交流アーク電流Ｉｗを通電するとともに、シールドガスを噴出させる、交流プラズマ溶接方法であって、最大絶対値Ｉｅｐｐは、最大絶対値Ｉｅｎｐよりも大であり、電極マイナス極性期間Ｔｅｎの時間率が８０％〜９５％である。このような交流プラズマ溶接方法により、板厚がたとえば１２ｍｍ程度の比較的厚いアルミニウム板を突き合わせた溶接母材に対して、適度なクリーニング作用によって清浄な状態としつつ、その全厚にわたる良好な溶接ビードを形成可能である。しかも、このような深溶け込み溶接を、溶接トーチ１を１回走査させる、いわゆる１パス溶接によって達成することが可能である。 （もっと読む）

【課題】通電接触抵抗が小さく電力のロスが防げる電解金属箔製造装置における電極基体を提供する。
【解決手段】電解金属箔製造装置の電着ドラムに対向する曲面状のアノード基材２０を複数に分割し、かつ分割された各々のアノード基材に電流を供給する各々の縦ブスバー１０の先端部に、アノード基材の曲率と同一曲率の湾曲面を構成し、この湾曲面を前記アノード基材に密着固定する。または縦ブスバーの先端部１１をアノード基材表面に密着した導電性の横ブスバーに固定する。 （もっと読む）

【課題】 給液装置より供給される電解液の流れを均一にし、かつ回転陰極ドラム表面に均等に供給できる金属箔電解製造装置を提供する。
【解決手段】 金属箔を電着させる回転陰極ドラム１と、これに対向した陽極２と、電解液を供給する給液装置５を有する金属箔電解製造装置において、給液装置５は、回転陰極ドラム１の回転軸と平行に配置され、かつ上流側及び下流側にそれぞれスリット状の開口部を有する液供給口６を備えると共に、液供給口６は給液装置５の上端に構成され、幅方向に沿って同一の間隙で連続的に開口してなる。 （もっと読む）

【課題】 アウタースキン裏面の微小な凹凸に対する追従性が良く、電流が常に均一に流れて通電むらの生じない電着ドラムを提供する。
【解決手段】 インナードラム２の外周板３の表面にアウタースキン４を焼嵌めした電着ドラムにおいて、上記インナードラム２の外周板３の表面に螺旋体５の直径より小さい深さの溝３１を削設し、この溝３１の中にアウタースキン４及びインナードラム２の外周板３と熱膨張率が同等以上で、且つ、導電性良好な素材からなる螺旋体５を巻装した。 （もっと読む）