説明

ジオマテック株式会社により出願された特許

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【課題】レーザーパワーセンサにおいて、単純な構成で応答速度が速く、長時間使用しても測定精度の良い熱型センサを提供する。
【解決手段】レーザー光の出力を測定するレーザーパワーセンサであって、一方の主面でレーザー光を受光する面状の光吸収体と、光吸収体の主面と背向する面に接して配設された熱伝導体と、熱伝導体に接するように配設された温度検出用のサーモパイルとからなる光検出部を有する。サーモパイルは、基板上に、直列に接続された複数の薄膜熱電対と、薄膜熱電対で発生する電圧を出力する導線を接続するためのコネクタ部と、薄膜熱電対上に積層された保護膜を有する。複数の薄膜熱電対は、基板上の略中央領域に一定の間隔を置いて配設された温接点と、基板上の略外周領域に一定の間隔を置いて配設された冷接点を有し、温接点は、熱伝導体に保護膜を介して接していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】光学薄膜積層体及び電子機器用ケースにおいて、基板の色調に依存することなく十分な金属光沢を有する光学薄膜積層体及び該光学薄膜積層体を有する電子機器用ケースを提供する。
【解決手段】基板1の表面上に金属光沢付与層2a、2b、2cと、誘電体層3a、3b、3cが積層されてなる光学薄膜積層体であって、金属光沢付与層2a、2b、2cは、電気的に非導通金属層を少なくとも1層含む層から構成される。光学薄膜積層体のうち、積層された金属光沢付与層2a、2b、2cと、積層された誘電体層3a、3b、3cの可視光領域の光の透過率は30%以下であり、目視側から入射する光の反射率が20%以上である。 (もっと読む)


【課題】薄膜固体リチウム二次電池製造工程中の、下部電極集電体層から上部電極集電体層までの計5層の形成において、同一マスクで連続的に成膜することにより、装置の小型化及び製造工程の簡素化を提供する。
【解決手段】薄膜固体二次電池において、下部電極集電体層3、下部電極の活物質層4、固体電解質層5、上部電極の活物質層6、上部電極集電体層7を連続成膜する。このとき、マスク交換、大気開放を必要としないため、製造装置の小型化、および製造工程の簡素化を実現できる。また、各層の成膜において、膜界面が大気中に曝される事で発生する酸化、水分による変質、それに伴う電池性能へ及ぼす悪影響を解消することができる。 (もっと読む)


【課題】薄膜熱電対において、極めて微小な材料と同種のバルク材料とが異なる性質を示すことに起因する、温度測定時の誤差を解消する。
【解決手段】測温素子1において、薄膜熱電対である第1の熱電対の信号取り出し用外部金属13及び14の接続部分20及び21近傍に、前記第1の熱電対と同じ構成材料により構成され、かつ同じ長さの外部金属線15及び16を接続した第2の熱電対を備える。前記測温素子1を用い、所定の計算式で演算を行うことにより、薄膜熱電対をバルク材料と接続することに起因する温度測定時の誤差を軽減する。 (もっと読む)


【課題】薄膜固体リチウム二次電池製造工程中の、負極(活物質層および集電体層)形成部分において、同一ターゲットで連続的に成膜することにより、装置の小型化および製造工程の簡素化を提供する。
【解決手段】薄膜固体二次電池において、負極活性物質をニオブ酸化物、負極集電体をニオブとし、同一のニオブ金属ターゲットを用い、DCスパッタリングにより負極活物質層5と負極集電体層6を連続成膜する。このとき、負極活物質層5及び負極集電体層6を成膜するためのターゲット金属を一種類しか必要としないため、製造装置の小型化、および製造工程の簡素化を実現できる。 (もっと読む)


【課題】アニールなしで実用上問題ない抵抗値を実現するとともに、対エッチング性および光の透過性も良好な、透明導電膜付き基板、並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】透明な基板10と、基板10上に形成された透明導電膜とを有する透明導電膜付き基板であって、前記透明導電膜は、前記基板10面上に、第1の金属酸化物膜20と、銀(Ag)合金膜30と、第2の金属酸化物膜40と、が順に積層された3層を少なくとも有する。銀合金膜30は、銅(Cu)、金(Au)、パラジウム(Pd)及び白金(Pt)のうち少なくとも1種と、ゲルマニウム(Ge)、セリウム(Ce)、ネオジウム(Nd)及びガドリニウム(Gd)のうち少なくとも1種と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】操作面に透明導電膜形状が現れることを防止でき、且つ可視光波長域での平坦な透過特性を実現することにより、ガラスに近い透明性を実現したパネル体及びそれを用いた静電容量式タッチパネルを提供することを目的とする。
【解決手段】透明基板の上面に下地層と、当該下地層の上に透明導電膜からなるパターン部を形成し、下地層は透明基板の下面側から光を入射した際に、パターン部と、それ以外の非パターン部との透過率に差が小さくなるように調整したものであって、当該下地層は屈折率に高低差を有する2層からなるとともに透明基板側が相対的に高屈折率層で透明導電膜に接する側が低屈折率層になっていて、可視光の全領域において透過率が88%以上の概ね均一になっていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】透明電極がZnO膜で形成され、且つ、熱処理に対する特性の変化を低減することが可能な、表示用基板及びその製造方法並びに表示装置を提供する。
【解決手段】表示用基板1は、支持基板2と、支持基板2上に形成された有機樹脂層3と、有機樹脂層3上に形成された透明電極4と、を備え、透明電極4は有機樹脂層4に密着して形成された酸化亜鉛を含む第1層5と、第1層5上に形成された、第1層5よりも厚い層厚を有する酸化亜鉛を含む第2層6と、からなる。第1層5は、直流スパッタ又は直流マグネトロンスパッタにより形成されており、第2層6は、高周波スパッタ、高周波マグネトロンスパッタ、高周波重畳直流スパッタ、高周波重畳直流マグネトロンスパッタの何れかにより形成される。表示用基板1は、例えば、液晶表示装置の対向電極用の透明電極付基板として使用することができる。 (もっと読む)


【課題】エッチング液、成膜工程、フォトプロセス等の製造工程をできるだけ少なくして、生産性の高い湿式エッチングにより微細なパターンを高精度に形成可能な階調フォトマスク基板及び階調フォトマスク、並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板10と、透明基板10上に形成されて照射光に対する透過率を制御可能な半透過層20と、実質的に照射光を遮光する遮光層43とを有する階調フォトマスク用基板であって、前記遮光層43と半透過層20とを形成する物質が、同一の金属又はその化合物で構成され、遮光層43と半透過層20との間に、遮光層43および半透過層20とエッチング耐性の異なる物質でストッパー層30が設けられ、ストッパー層30が半透過層20の上に積層形成される。 (もっと読む)


【課題】 溝を形成したガラス基板を用いた凹版であり、溝のパターンを高い寸法精度で形成することが可能であって、且つ、引っかき疵がつきにくく、さらに表面強度に優れた凹版を提供することを目的とする。
【解決手段】 溝3を備えるガラス基板2の表面上にバインダー層4が積層されて、且つ、該バインダー層4の表面上にDLC層5が積層されてなる凹版1により、溝のパターンを高い寸法精度で形成することが可能であって、且つ、引っかき疵がつきにくく、さらに表面強度に優れた凹版1が提供される。 (もっと読む)


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