説明

財団法人神奈川科学技術アカデミーにより出願された特許

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【課題】安価に入手でき、しかも量産に適した原料から製造可能な炭素固体酸を提供するとともに、当該炭素系固体酸の製造に好適な調製条件を満たす製造方法を提供する。併せて、濃硫酸や発煙硫酸を用いた反応よりも効率を高めた製造方法も提案する。
【解決手段】スルホン酸基が導入された以下に定義されるBET比表面積が3〜1600m2/gである多孔質炭素からなり、前記多孔質炭素のスルホン酸基量が、0.2mmol/g以上であり、三酸化硫黄または三酸化硫黄を含有したスルホ化剤をセルロース含有原料または植物系原料に接触させてスルホ化する。または、植物系原料に塩化亜鉛またはリン酸を含浸した後、予備炭化として加熱処理して得られたものを、さらに濃硫酸または発煙硫酸中、あるいは三酸化硫黄のガス中または液中でスルホ化として加熱処理する。 (もっと読む)


【課題】表面にセルフクリーニング機能等の光触媒層が有する種々の優れた機能を付与した、新しい反射防止フィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明フィルム3の片面に規則的な微細凹凸構造層4を設けた反射防止フィルム2の微細凹凸構造面に、光触媒微粒子5が断続的に固着されていることを特徴とする、表面機能性を備えた反射防止フィルム2、およびその製造方法。 (もっと読む)


【課題】気液反応後の蒸発操作を含むPET用標識化合物の多段階合成プロセスを、マイクロチップ上の操作として集積化することができるPET用標識化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロチップ1のマイクロチャンネル部2,5及び微細加工溝部3,4に溶液を導入して、マイクロチャンネル部2,5の流路の表面に溶液をコーティングすると共に、微細加工溝部3,4のプール部に毛管力を利用して溶液を分散させる。その後、マイクロチャンネル部2,5及び微細加工溝部3,4に気液反応用ガスを導入して、気液反応用ガスとマイクロチャンネル部2,5及び微細加工溝部の溶液3,4とを気液反応させる。気液反応後、マイクロチャンネル部2,5の溶液を微細加工溝部3,4に供給し、微細加工溝部3,4に蒸発操作用ガスを導入して、微細加工溝部3,4の溶液を蒸留、及び/又は微細加工溝部3,4の溶液から溶媒を留去する。 (もっと読む)


【課題】光の散乱の原因となるマクロな凸部、結晶粒に由来するマクロな凹凸や色ムラを転写面に生じさせにくい、表面に微細凹凸構造を有するスタンパを得ることができるアルミニウム基材、スタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】微細凹凸構造を表面に有するスタンパ20の製造に用いられる、微細凹凸構造が形成される被加工面を有するアルミニウム基材10であって、被加工面に露出した金属間化合物の合計の面積が、被加工面の面積(100%)に対して、0.14%以下であり、被加工面における平均結晶粒径が、1mm以下であり、被加工面の算術平均粗さRaが、0.05μm以下であるアルミニウム基材10を用いる。 (もっと読む)


【課題】前処理無しに微量の細胞の濃縮から分離精製までを連続して行う細胞濃縮分離装置を提供すること。
【解決手段】本発明は、細胞を連続濃縮する機能と、引き続き、連続して細胞を流路の特定の領域に連続配置する機能と、特定の周波数の誘電電気泳動力に対して、引力あるいは斥力という異なる特性を持つ細胞を連続で分離精製する機能を有する細胞濃縮精製画像ベースで1細胞単位でその形状と蛍光の発光を同時認識する機能と、その形状と蛍光の発光の情報に基づいて認識を行って細胞を分離精製する機能を有する細胞濃縮分離装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】ガラス転移点(Tg)が約200℃以上のエポキシ樹脂を提供する。
【解決手段】Pd型ベンゾオキサジン誘導体と芳香環を主鎖に含むエポキシ樹脂を、ベンゾオキサジン環に対するエポキシ基のモル比が0.3〜0.7となるように組み合わせることにより、ガラス転移点(Tg)が約200℃以上のエポキシ樹脂を提供することができ、さらに、高いガラス転移点(Tg)をもたらす架橋構造を構築するために有効な硬化促進剤。(a)下式


(式中、Xは−CH−、−C(CH−又は−SO−を表す。)で表されるベンゾオキサジン誘導体と(b)芳香環を主鎖に含むエポキシ樹脂とから成り、該ベンゾオキサジン誘導体が有するベンゾオキサジン環に対する、該エポキシ樹脂が有するエポキシ基のモル比が0.3〜0.7であるエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】転写面に生じるマクロな凹凸や色ムラを視認しにくくすることができるスタンパを得ることができるアルミニウム基材を提供する。
【解決手段】微細凹凸構造を表面に有するスタンパ20の製造に用いられる、微細凹凸構造が形成される被加工面を有するアルミニウム基材10であって、被加工面には、該被加工面に露出した複数の金属間化合物が存在し、被加工面に露出した金属間化合物の合計の面積が、被加工面の面積(100%)に対して、0.14%超0.7%以下であり、被加工面の算術平均粗さRaが、0.05μm以下であるアルミニウム基材10を用いる。 (もっと読む)


【課題】光を散乱する大きさの粗い凹凸構造と、周期が可視光の波長以下である微細凹凸構造とからなるマルチ凹凸構造を陽極酸化によって表面に簡便に形成できるアルミニウム基材およびスタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】微細凹凸構造を表面に有するスタンパの製造に用いられる、微細凹凸構造が形成される被加工面を有するアルミニウム基材であって、被加工面には、被加工面に露出した複数の金属間化合物が存在し、被加工面に露出した金属間化合物の合計の面積が、被加工面の面積(100%)に対して、0.7%超3.0%以下であり、被加工面の算術平均粗さRaが、0.3μm以下であるアルミニウム基材を用いる。 (もっと読む)


【課題】蒸発操作を含む多段階合成プロセスであるフッ素F−18標識化合物の合成を、効率的なマイクロチップ上の操作として集積化することができるフッ素F−18標識化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】内部に気相の流路14を有すると共に、気相の流路14の底部に液相を溜めるプール部16を有するマイクロチップ1を用い、マイクロチップ1に液相としてフッ素F−18イオンを含んだ溶液を導入する。マイクロチップ1のプール部16に毛管力を利用してフッ素F−18イオンを含んだ溶液を分散させる。気相の流路14に気相を流して、プール部16に溜められたフッ素F−18イオンを含んだ溶液を蒸発乾固させる。マイクロチップ1内での高効率での蒸発操作が実現できるので、蒸発乾固あるいは溶媒留去操作などの蒸発操作を含むフッ素F−18標識化合物の合成プロセスを高効率にマイクロチップ1上に集積化することが可能になる。 (もっと読む)


【課題】ポジトロン放出断層撮影法(Positron emission tomography;PETシステム)に用いられる標識化合物を、マイクロチップ上で調剤操作できるPET用標識化合物の調剤方法を提供する。
【解決手段】内部に気相の流路9を有すると共に、気相の流路9の底部に液相を溜めるプール部8bを有するマイクロチップ1に液相としてPET用標識化合物を含んだ溶液を導入し、マイクロチップ1のプール部8bに毛管力を利用してPET用標識化合物を含んだ溶液を分散させる。気相の流路9に気相を流して、プール部8bに溜められたPET用標識化合物を含んだ溶液から溶媒を除去する。マイクロチップ内での高効率の蒸発操作が実現できるので、マイクロチップ内での標識化合物の調剤操作が可能になる。 (もっと読む)


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