説明

株式会社渡辺商行により出願された特許

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【課題】設置する場合に、建物内での設置の高さ制限が緩和された、またメンテナンスが簡単である成膜装置および気化器の設置方法を提供する。
【解決手段】成膜用液体材料供給系と、前記液体材料をキャリアガスと混合して気化させる気化器30aと、前記気化器30aから出る材料気化ガスを基板に流して膜を成膜させる成膜室40aと、前記気化器30aからのガスを、前記成膜室に供給する材料気化ガス供給配管50aとで構成される成膜装置であって、前記成膜室40aの側面と並行に、前記気化器40aが配置されことを特徴とする成膜装置とする。 (もっと読む)


【課題】 原料溶液が均一に分散した気化ガスを得ることができるMOCVD用気化器及び原料溶液の気化方法を提供すること。
【解決手段】(1)ガス通路に加圧されたキャリアガス3を導入するためのガス導入口4と、ガス通路に原料溶液5aを供給する手段と、原料溶液含有キャリアガスを気化部22に送るためのガス出口7と、を有する分散部8と、(2)一端がMOCVD装置の反応管に接続され、他端が前ガス出口7に接続された気化管20と、気化管20を加熱するための加熱手段と、を有し、分散部8から送られてきた、原料溶液を含むキャリアガスを加熱して気化させるための気化部22と、を有し、(3)分散部8は、円筒状中空部を有する分散部本体1と、円筒状中空部の内径より小さな外径を有するロッド10とを有し、ロッド10の外周の気化器22側に螺旋状の溝60を有し、ロッド10は該円筒状中空部に挿入されている。 (もっと読む)


【課題】従来のBClガスに代わる、腐食性のない有機アミノボロン系ガスを用いてB
CN膜を成膜ことが特徴である。その例として、トリスジメチルアミノボロンを用いて、
プラズマCVDにより成膜を行うことで、安定した低誘電率と高い硬度(ヤング率)を有
するBCN膜が形成できる半導体装置の製造方法が提供すること。
【解決手段】 有機アミノボロン系ガスを用いて窒化ホウ素炭素(BCN)系絶縁膜を形
成する絶縁膜の製造方法。前記有機アミノボロン系ガスはトリスジメチルアミノボロンで
ある。比誘電率が2.5以下で弾性率(ヤング率)が8GPa以上であるBCN系の絶縁
膜。 (もっと読む)


【課題】 原料溶液が均一に分散した気化ガスを得ることができるMOCVD用気化器及び原料溶液の気化方法を提供すること。
【解決手段】(1)ガス通路に加圧されたキャリアガス3を導入するためのガス導入口4と、ガス通路に原料溶液5aを供給する手段と、原料溶液含有キャリアガスを気化部22に送るためのガス出口7と、を有する分散部8と、(2)一端がMOCVD装置の反応管に接続され、他端が前ガス出口7に接続された気化管20と、気化管20を加熱するための加熱手段と、を有し、分散部8から送られてきた、原料溶液を含むキャリアガスを加熱して気化させるための気化部22と、を有し、(3)分散部8は、円筒状中空部を有する分散部本体1と、円筒状中空部の内径より小さな外径を有するロッド10とを有し、ロッド10の外周の気化器22側に螺旋状の溝60を有し、ロッド10は該円筒状中空部に挿入されている。 (もっと読む)


【課題】被搬送体が搬送路中心からずれてしまった場合の調整を行うことができる浮上搬送装置を提供する。
【解決手段】その目的を達成するため、本発明の浮上搬送装置は、被搬送体の搬送経路を形成する搬送路と、被搬送体を前記搬送路に沿って浮上搬送する複数の噴射ノズルと、前記搬送路中における被搬送体の搬送方向を検出する一つ以上の検出部と、該検出部の検出結果に基づいて前記複数の噴射ノズルを独立して制御する制御部とを備え、前記ノズルの本体は、駆動モータユニットにより水平面内で回転可能となっていることから、ノズルから噴射される圧力気体の噴射方向を調整することができることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 原料溶液が均一に分散した気化ガスを得ることができるMOCVD用気化器及び原料溶液の気化方法を提供すること。
【解決手段】(1)ガス通路に加圧されたキャリアガス3を導入するためのガス導入口4と、ガス通路に原料溶液5aを供給する手段と、原料溶液含有キャリアガスを気化部22に送るためのガス出口7と、を有する分散部8と、(2)一端がMOCVD装置の反応管に接続され、他端が前ガス出口7に接続された気化管20と、気化管20を加熱するための加熱手段と、を有し、分散部8から送られてきた、原料溶液を含むキャリアガスを加熱して気化させるための気化部22と、を有し、(3)分散部8は、円筒状中空部を有する分散部本体1と、円筒状中空部の内径より小さな外径を有するロッド10とを有し、ロッド10の外周の気化器22側に螺旋状の溝60を有し、ロッド10は該円筒状中空部に挿入されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、板状基体の形状や重量の影響を除き、板状基体に対して迅速な調芯をすることができる浮上搬送装置を提供する。
【解決手段】板状の搬送面(上面11)を具備し、この搬送面に沿って板状基体を送るための基部1と、搬送面から気体を噴出することによって、板状基体を搬送面から浮上させると共に浮上した板状基体を搬送面に沿って移動させる第1噴出手段と、第1噴出手段によって浮上した板状基体を搬送面の中心位置I2に保つために、気体を噴出する第2噴出手段(2F1〜2H1,2F2〜2H2)とを備えた。 (もっと読む)


【課題】反応管の経路を長く確保することができるうえ、その内部を通過する際に発生す
る遠心力により原料溶液を分散したキャリアガスが通過方向と交差する方向に攪拌される
ことにより満遍なくヒータからの輻射熱による気化を促進することができる気化方法を提供
する。
【解決手段】螺旋状の反応管103に液体若しくは粉体からなる原料溶液を分散したキャ
リアガスが上流側から供給され、反応管103内を通過する原料溶液を分散したキャリア
ガスがヒータ104の輻射熱により気化される。 (もっと読む)


【課題】安定した低誘電率と高い硬度(ヤング率)を有するBCN膜が形成できる半導体装置の製造方法が提供する。
【解決手段】従来のBClガスに代わる、腐食性のない有機アミノボロン系ガスを用いてBCN膜を成膜する。その例として、トリスジメチルアミノボロンを用いて、プラズマCVDにより成膜を行うことで、 比誘電率が2.5以下で弾性率(ヤング率)が8GPa以上であるBCN系の低い誘電率を持つ絶縁体材料膜を得る。 (もっと読む)


【課題】 原料溶液が均一に分散した気化ガスを得ることができるMOCVD用気化器及
び原料溶液の気化方法を提供すること。
【解決手段】(1)ガス通路に加圧されたキャリアガス3を導入するためのガス導入口4と
、ガス通路に原料溶液5aを供給する手段と、原料溶液含有キャリアガスを気化部22に送る
ためのガス出口7と、を有する分散部8と、(2)一端がMOCVD装置の反応管に接続され、他
端が前ガス出口7に接続された気化管20と、気化管20を加熱するための加熱手段と、を有
し、分散部8から送られてきた、原料溶液を含むキャリアガスを加熱して気化させるため
の気化部22と、を有し、(3)分散部8は、円筒状中空部を有する分散部本体1と、円筒状
中空部の内径より小さな外径を有するロッド10とを有し、ロッド10の外周の気化器22側に
螺旋状の溝60を有し、ロッド10は該円筒状中空部に挿入されている。 (もっと読む)


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