説明

エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッドにより出願された特許

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通過して流れる流体の流量を表す流量測定信号を発生するのに用いられるために、流体が流量の共通軸に沿って流れる管に設置された少なくとも2つの温度センサ・コイルの姿勢感度を補償するシステム及び方法が開示される。前記コイルの中の1つは、ある上流位置において前記管を流れる流体に熱エネルギを提供し、前記上流位置における前記流体の上流温度を確立し測定するように構成され、前記コイルの中の1つは、ある下流位置における前記流体の下流温度を測定するように構成される。前記流量測定信号は、前記測定された上流温度と前記測定された下流温度との差の関数である。このシステムは、前記共通軸の方向の重力を測定するステップと、前記流量測定信号を前記測定された重力の関数として修正するステップとを含む。 (もっと読む)


所望の質量の気体を搬送するシステムであって、チャンバと、前記チャンバへの気体フローを制御する第1の弁と、前記チャンバからの気体フローを制御する第2の弁と、前記チャンバ内部の圧力の測定値を提供する圧力トランスデューサと、このシステムから搬送される所望の質量の気体を提供する入力装置と、前記第1及び第2の弁と前記圧力トランスデューサと前記入力装置とに接続されたコントローラであって、前記所望の質量の気体を前記入力装置を介して受け取り、前記第2の弁を閉鎖し、前記第1の弁を開放し、前記圧力トランスデューサからチャンバ圧力測定値を受け取り、前記チャンバ内部の圧力が所定のレベルに到達すると前記入口弁を閉鎖し、所定の待機期間を待機して前記チャンバ内部の気体が平衡状態に近づくことを可能にし、時刻tにおいて出口弁を開放し、放出された気体の質量が前記所望の質量と等しくなる時刻tにおいて前記出口弁を閉鎖するようにプログラムされているコントローラと、を含む。
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単一のフローを所望の比率の2以上の二次フローに分割するシステムであり、前記単一のフローを受け取る入口と、前記入口に接続された少なくとも2つの二次フロー・ラインと、少なくとも1つの所望のフロー比率を受け取る入力手段と、前記フロー・ラインのそれぞれによって生じた製品の測定値を提供する少なくとも1つのインサイチュ・プロセス・モニタと、前記入力手段と前記インサイチュ・プロセス・モニタとに接続されたコントローラとを含む。このコントローラは、前記入力手段を介して所望のフロー比率を受け取り、前記インサイチュ・プロセス・モニタから前記製品の測定値を受け取り、前記所望のフロー比率と前記製品の測定値とに基づいて訂正されたフロー比率を計算するようにプログラムされている。製品測定値が等しくない場合には、訂正されたフロー比率は所望のフロー比率とは異なるようになる。
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iを1からNまでの整数としてi個の区域に管を介して接続可能なi個のラインを流れる流体フローを制御するシステムである。このシステムは、i個のラインのそれぞれにおける少なくとも1つの弁と圧力トランスデューサと、弁を制御する制御装置と、区域圧力評価計とを含む。区域圧力評価計は圧力トランスデューサに接続されており、i個の区域のそれぞれにおける評価された圧力を計算し、評価された圧力を制御装置に提供する。
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方法および装置によって、1つの一体型の目盛上で幅広い圧力範囲にわたって仮想絶対圧測定値を求めるために、差圧測定値と絶対圧測定値とを一元化する。前述の目的を実現するためには、チャンバ(図参照)内の絶対圧を測定するための方法および装置では、同時に測定される絶対圧測定値と差圧測定値との相関係数を前記チャンバ内の絶対圧が正確に測定できる圧力値にするとともに、差圧測定値を相関係数によって調整して仮想絶対圧測定値を求める。
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流路及び該流路を取り囲む環状面を有するハウジングと、閉じた位置まで可動であるスライド板と、環状面とスライド板との間に配置されたシールリングとを有する弁組立体である。シールリングは、第一の側部と、第二の側部と、該第一の側部と第二の側部との間を伸び且つ、ハウジングの環状面に面する第一の面と、第一の面から軸方向に隔てられ且つ、第一の側部と第二の側部との間を伸び、スライド板に面する第二の面とを有している。第二の面は、シールリングがスライド板に対して偏倚されたとき、スライド板と接触し、連続的な環状の密封部分とスライド板との間に流体密のシールが形成されるようにする連続的な環状の密封部分と、環状の密封部分と第二の側部との間に配置された少なくとも1つの通路とを有している。
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電源(30)を制御して、1MHz以上の周波数で動作するRFプラズマ処理システムにおける動的な負荷に起因する不安定性を回避する方法及び装置は、フィードフォワード型の制御ループ(53)を用いて、可変かつ一貫性のないプラズマ・インピーダンスに起因する負荷などの動的な電気的負荷(40)に供給される電力を正確に規制する。更に、フィードバック制御ループ(53)を、より低速ではあるが、フィードフォワード・ループ(53)と共に用いて、負荷(40)に提供される電力量を規制するのを助けることもできる。
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電源(104)を制御する方法および装置であり、システム(100)は、電源(104)と、電源の動作を調整するコマンド信号を出力するコントローラ(116)を含む。コントローラは、選択基準に基づいて、複数のエラー信号から選択される、少なくとも一つのエラー信号に基づいて、コマンド信号を決定する。方法は、少なくとも一つの選択基準を満たすエラー信号に基づいて、コントローラのための特性を決定すること、および、そのコントローラを用いて電源の動作を制御することとを含む。
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本発明は、全般的に、プラズマスパッタリングの分野における欠陥処理システムに関し、特に、スパッタリングシステムにおいて用いられる電力発生器の制御動作のための欠陥処理システムおよび方法に関する。欠陥処理アルゴリズムは、電力発生器の動作に影響するための少なくとも1つのコマンド信号を生成するために、一期間内においてスパッタリングシステムからの複数の欠陥状態信号を処理する。欠陥処理アルゴリズムは、複数の欠陥状態信号タイプに対する応答として4つまでのコマンド信号を生成可能であり、そのコマンド信号は、システム出力無効化、電力ブロック出力無効化、出力イネーブル防止、および出力駆動ロールバックを含む。 (もっと読む)


物質処理に使用されるプラズマを制御するための方法および装置は、プラズマ容器および電源に連結された、共振回路およびスイッチ部の共同作用を特徴とする。プラズマ容器にあるプラズマの状態に関連する信号を取得するためのセンサーは、前記スイッチ部のクローズドループ制御に対応している。共振回路を短絡するためにスイッチ部を閉じることにより、前記センサーによって検出されたプラズマの好ましくない状態を取り除くことができる。 (もっと読む)


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