【課題】プラズマが放出する紫外光がエラストマー材料に達して損傷を与えることを妨げるプラズマ装置の提供。
【解決手段】誘電体材料で形成され、気体を閉じ込めるチャンネルを定める槽１２１０と、槽１２１０に隣接するヒートシンク１２２０と、槽１２１０とヒートシンク
１２２０との間にありこれらと機械的に連通して配置される熱インターフェイス１２３０と、槽１２１０と熱インターフェイス１２３０との間に配置された紫外線遮光層１２３４と、を含んでおり、熱インターフェイス１２３０は、熱的に誘起される寸法変化に応答して熱インターフェイス１２３０とヒートシンク１２２０と槽１２１０との中の少なくとも一つの動きを調節する空間をヒートシンク１２２０と槽１２１０との間に定める。 （もっと読む）

【課題】プラズマシステムのためのプラズマ点火装置を
提供する。
【解決手段】装置３００は、内側にチャンネルを定める槽３１０、および槽３１０に隣接し、前記チャンネルの隣接部分に沿った方向の寸法Ｄを有する少なくとも一つの容量結合された点火電極３３０を備える。少なくとも一つの点火電極３３０の寸法の全長Ｄは、槽３１０のチャンネルの長さの１０％より大きい。点火電極３３０は、前記チャンネルの中の気体に電場を印加して、気体のプラズマ放電を開始させる。 （もっと読む）

真空堆積室の様なプロセス工具の少なくとも２つの帯域へ流れるガス又は蒸気の圧力を制御する方法及び制御するための多帯域圧力制御装置システムである。本システムは、プロセス工具の対応する帯域へガス又は蒸気の流れを提供するように構成及び配列されている少なくとも２つの流路であって、それぞれの流路が、各々の流路のガス又は蒸気の圧力を制御するように構成及び配列されている圧力制御装置と、流路からのガス又は蒸気の漏れ速度を提供するように構成されている漏らしオリフィス又はノズルとを含んでいる、流路と、室の真の漏れ速度を確定することができるように、プロセス工具のそれぞれの帯域への真の流れについての情報を確定するように構成及び配列されている制御装置と、を備えている。 （もっと読む）

バタフライ弁は、弁開口部（１４）を含む本体（１２）と、弁開口部に対して可動であるように回転軸（２２）を中心として回転可能に取り付けられたフラッパ（１６）とを備える。フラッパは、少なくとも１つの全開位置、全開位置から９０°離れた少なくとも１つの全閉位置、およびもう一方の同じ位置から１８０°離れた、全開位置または全閉位置のどちらかの第３の位置まで可動であるように、回転軸を中心として少なくとも１８０°回転可能である。一実施形態では、フラッパは、１８０°離れた２つの開位置のそれぞれまで、および互いに１８０°離れかつ全開位置のそれぞれから９０°および２７０°離れた２つの閉位置まで可動であるように、回転軸を中心として少なくとも３６０°回転可能である。本弁は、容易に較正および制御することができ、また洗浄と次の洗浄との間の耐用期間を延長させるために洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】オゾン化水を１つより多くのプロセスツールに供給するための装置および方法を提供する。
【解決手段】オゾン化水発生器１０００は、脱イオン水２０供給のための脱イオン水を受容し、酸素ガス３０をオゾン水発生器に供給しオゾン化脱イオン水ＤＩＯ３を製造する。そして１つ以上の半導体プロセスツール４０に、オゾン化脱イオン水ＤＩＯ３を供給する。使用済みまたは過剰の脱イオン水またはオゾン化脱イオン水ＤＩＯ３は、排液ライン５０を介して廃棄される。 （もっと読む）

本開示は、質量流量コントローラのような、質量流量給送／測定デバイスを通過する質量流量を測定し検証する質量流量検証システムおよび方法に関する。質量流量検証システムは、予め設定されている容積、温度センサ、および圧力センサを備えている。質量流量測定デバイスの中にある隙間容積から生ずる誤差を補償するために、質量流量検証システムによって測定、検証、および判定された流量を調節することができる。 （もっと読む）

半導体処理システムで使用するためのアルミニウムおよびマグネシウムを含む物体の表面を覆う保護層を作るための方法であって、それは、プラズマ電解酸化プロセスを使用して物体の表面を酸化するステップを含む。その方法はまた、ハロゲンを含むガスを励起することによってハロゲン含有プラズマを発生させるステップも含む。その方法はまた、酸化された表面をハロゲン含有プラズマまたは励起ガスにさらすステップも含む。 （もっと読む）

自動予測設計領域推定のための、コンピュータ・プログラム・プロダクツを含む、コンピュータに基づく方法および装置について記載する。入力要素および出力応答の設計領域を、物理的プロセスに合わせて推定する。物理的プロセスの１つ又は複数の入力要素、プロセスの１つ又は複数の出力応答、および規準についてのデータを受け取る。１つ又は複数の入力要素の各々について、対応する入力値範囲を実験によって求め、この範囲内にある入力値の計算範囲を計算する。１つ又は複数の入力要素の各々について、修正入力値範囲を計算する。少なくともこの修正入力値範囲に基づいて、設計領域推定値を予測する。修正入力値範囲は、各々、１つ又は複数の入力要素に対して、規準が満たされる最大可変領域を含む。 （もっと読む）

【課題】ＲＦフィードバック信号に対するプラズマ室からの歪の影響を最小にする。
【解決手段】無線周波数（ＲＦ）システムはＭ個の予め定められた周波数インターバルを割当てる制御モジュールを含んでいる。システムはさらにＭ個の予め定められた周波数インターバルの割当てられたそれぞれ１つの周波数インターバル内の周波数でプラズマ室内の電極へ第１のＲＦ電力をそれぞれ与える。Ｎ個のＲＦソースはプラズマ室からのフィードバックを含んでいる第２のＲＦ電力にそれぞれ応答する。Ｎ個のＲＦソースは第２のＲＦ電力とＭ個の予め定められた周波数インターバルのそれぞれの１つに基づいて、第１のＲＦ電力を調節する処理モジュールをそれぞれ含んでいる。ＭとＮは１よりも大きい整数である。 （もっと読む）

反応ガス発生器においてプラズマに点火する、および／またはこれを維持するための、コンピュータ・プログラム生産物を含む、方法および装置について記載する。点火電源からプラズマ点火回路に電力を供給する。プラズマ点火回路の早点火信号を測定する。測定された早点火信号および調節可能な早点火制御信号に基づいて、プラズマ点火回路に供給される電力を調節する。調節可能な早点火制御信号は、ある時間期間が経過した後に調節される。 （もっと読む）