【課題】離れて位置する区画内部における圧力を精度高く制御することができるシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】圧力制御システムは、各エンクロージャに対して流入および流出する流体の流量を制御することによって、１つ以上の区画の内部圧力を遠隔的に制御する。各区画は、導管を介して１つのエンクロージャにそれぞれ接続されている。流体の圧力を、各エンクロージャ内において測定する。各区画内における推定圧力を、エンクロージャ内の測定圧力と、導管および区画の既知の特性との関数として計算する。区画毎に、各エンクロージャの入口比例弁および出口比例弁を動作させて、それぞれのエンクロージャに流入する流体の入力流速と、エンクロージャから流出する流体の出力流速とを、圧力設定点と推定圧力との関数として制御することにより、圧力設定点に応じて区画内部の圧力を規制する。 （もっと読む）

１つの質量流量を複数Ｎ個の副次流に分割するシステムは、１つの質量流量を受けるように構成されている入口と、マスタＦＲＣ（流量比コントローラ）と、１つ以上のスレーブＦＲＣとを含む。各ＦＲＣは、入口に接続されており、少なくとも１つの副次流導管を含む。マスタＦＲＣおよびスレーブＦＲＣは、組合せにおいて、Ｎ個の副次流導管を含む。各流導管ｉ（ｉ＝１、．．．Ｎ）は、Ｎ個の副次流の内対応する１つを搬送するように接続されている。ホスト・コントローラから事前選択比率設定点に応答して、マスタＦＲＣおよびスレーブＦＲＣは、個々の流量Ｑ_ｉ（ｉ＝１、．．．Ｎ）と総流量Ｑ_Ｔとの間おける比率Ｑ_ｉ／Ｑ_Ｔ（ｉ＝１、．．．Ｎ）を、事前選択比率設定点に維持する。 （もっと読む）

チェンバ（１０５）内における流体の圧力を制御する圧力制御システムは、チェンバ内における流体の圧力を測定するように構成されている圧力センサ（１１０）と、チェンバから流出する流体の流量を規制することによって、チェンバにおける流体の圧力を制御するように構成されている弁（１２０）とを含む。圧力制御システムは、更に、コントローラ（１４０）も含む。コントローラは、チェンバの容積を推定し、弁の圧出速度曲線を発生するように構成されている。更に、コントローラは、圧出速度曲線の傾きを少なくとも最小値に維持するように、圧出速度曲線を監視し修正し、チェンバにおける圧力を所望の圧力設定点に維持するように、圧力センサによる圧力測定に応答して、弁の位置を調節するために、修正した圧出速度曲線を用いるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】流体の流量を制御する熱式質量流量コントローラを提供する。
【解決手段】熱式質量流量コントローラは、流体を受けるように構成されている導管と、流体が導管内を通過する際に、流体の圧力を測定するように構成されている圧力センサと、流体の周囲温度を測定するように構成されている温度センサと、流体の流速を表す出力を発生するように構成されている熱センサとを含む。熱式質量流量コントローラは、更に、熱センサからの出力、圧力センサによって測定した圧力、および温度センサによって測定した周囲温度を監視し、熱吸引によって起こる熱センサの出力のずれを補償するように、導管内における流体の流量を規制するように構成されている制御システムを含む。 （もっと読む）

気体を活性化し且つ解離する方法及び装置は、室１０８内に配置されたプラズマ１３２により活性化した気体１３４を発生させるステップを含む。活性化した気体が気体の供給口により導入された下流気体の解離を促進することを可能にし、解離した下流気体１５２が室の内面と実質的に反応しないようにするため、下流気体の供給口１７６は、室の出口１７２に対して配置されている。
（もっと読む）

【課題】誘導電流が形成されるのを防止するトロイダル・プラズマ・チャンバを提供する。
【解決手段】トロイダル低電場プラズマソースとともに用いられ得る金属製プラズマチャンバ１００は、第１の誘電体領域１０８および第２の誘電体領域１１０を含む。誘電体領域１０８および１１０は、プラズマチャンバ１００を、第１の領域１１２および第２の領域１１４に電気的に分離する。第１の領域１１２および第２の領域１１４の各々は、高度真空シールにより誘電体領域１０８、１１０に接続されることにより、プラズマチャンバ１００を形成している。誘電体領域１０８、１１０は、プラズマチャンバ１００の組み合わせ面１１６を分離する誘電体スペーサを有してなっていてもよい。 （もっと読む）

【目的】 半導体処理に好適なプラズマ・チャンバにおいて反応性ガスを発生する。
【解決手段】 プラズマ・チャンバであって、導電性材料と、誘導された電流がこのプラズマ・チャンバにおいて生じることを実質的に阻止する電気的不連続をこのプラズマ・チャンバに形成する少なくとも１つの誘電領域と、前記誘電領域を保護する突出したチャンバ壁とを含むプラズマ・チャンバ（１００）と、前記プラズマ・チャンバの一部と一次巻線とを包囲する磁気コアを有する変圧器と、前記一次巻線に電流を提供する交流電源であって、前記電流は前記プラズマ・チャンバの内部に交流電位を誘導し、前記変圧器の二次回路を完成して前記反応性ガスを発生するトロイダル・プラズマを形成する、交流電源とを含む装置によって反応性ガスを発生する。 （もっと読む）

センサを監視するシステムは、このセンサに組み込まれているＷｅｂＰａｇｅ等のＧＵＩ（グラフィカルユーザインターフェース）を含む。ＧＵＩは、ユーザコンピュータからのセンサに関する情報を表示するように構成されており、当該コンピュータは、イーサネット接続を介して該センサに接続可能であり、且つセンサのＷｅｂＰａｇｅにアクセスするためのインターネットウェブブラウザを有するものである。コンピュータ可読媒体が、センサ内に組み込まれ、このコンピュータ可読媒体には、プロセッサ用のコンピュータ使用可能命令が記憶されている。これらの命令は、プロセッサによって実行されると、プロセッサにＧＵＩを生成させる。 （もっと読む）

流体の流量を測定する熱式質量流量計は、流体を受け入れ且つ、導管の入口と出口との間の主流路を画成する形態とされた導管を含む。導管は、少なくとも一部分、センサを受け入れる面との境を画成する。熱センサ管は、主流路及びセンサ受け入れ面の双方に対し実質的に垂直方向に向けてセンサ受け入れ面に対して取り付けられた熱感知部分を有する。熱式質量流量計が垂直方向に向けて取り付けられ、導管内の流体が主流路に沿って垂直方向に流れるとき、センサ管内の流体は、水平方向に流れて、センサ管が加熱されたとき、熱サイフォンを実質的に防止する。
（もっと読む）

【課題】プラズマに点火しこれを維持するために電力を供給する従来の技法では、電力用半導体デバイスに対する損傷を防止するための回路を含むが、費用がかかり、信頼性が低い。
【解決手段】第１の態様によれば、反応性ガス発生器においてプラズマに点火するために電力を供給する電源および方法を提供し、（ｉ）共振インダクタ（１１０）と、切換電源（６０）と変圧器（３０）との間にある共振キャパシタ（１２０）とを備えている直列共振回路（１００）を結合するステップであって、変圧器が変圧器一次コイル（３２）とプラズマ二次コイル（３６）とを有する、ステップと（ｉｉ）共振キャパシタから変圧器の一次コイル間に実質的な共振ＡＣ電圧を供給することにより、変圧器一次コイル内に実質的な共振電流を誘導してプラズマ二次コイルを発生するステップと、（ｉｉｉ）プラズマ二次コイルの発生時に、共振インダクタが切換電源に流入する電流を制限するステップとを含む。別の態様によれば、プラズマの点火において補助するために、誘導性エネルギ結合と合わせて双極高電圧点火電極を用いることができる。 （もっと読む）