【課題】各種製品の外観色に漆塗り調の深みのある独特の色合いをもたせる光学干渉薄膜を提供する。
【解決手段】下地基板３に金属層Ｌ１を形成し、その上に屈折率ｎが異なる薄膜層Ｌ２〜Ｌ８を積層した干渉薄膜層Ｌｓを設ける。干渉薄膜層Ｌｓの表面に透明な保護層Ｌ９を形成する。干渉薄膜層Ｌｓが反射光に波長依存性のある強度変調を与え、また薄膜層Ｌ２，Ｌ４，Ｌ８がもつ光吸収により反射光量は低く抑えられ、独特の色合いをもった外観色が得られる。屈折率ｎ、消衰係数ｋ，虚数ｉを用いて薄膜層Ｌ２，Ｌ４，Ｌ８の複素屈折率Ｎを「Ｎ＝ｎ−ｉｋ」としたとき、「１．３６≦ｎ≦３．５」、「０．１≦ｋ≦６」が満たされる。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングの成膜効率の向上を図る。
【解決手段】円筒形の支持筒の外周のターゲット層を形成してあり、中空部内に磁石ユニット２４を配してある。磁石ユニット２４は、各磁石２４ｂのＮ極で構成される第１磁極面がジグザグ状に配してあり、その周囲を各磁石２４ｃのＳ極で構成される第２磁極面が囲むようになっており、ターゲット層の表面近傍に現れる磁界の向きをその母線方向と傾斜したものとし、ターゲット層２７の母線方向の長さに対する磁力線を多くし、ターゲット層の表面近傍での磁界の分布を広げる。 （もっと読む）

【課題】ワークの移動にともなう異物の付着や膜の変質等を防止する。
【解決手段】真空槽３内の第１成膜ステージ８には、スパッタリング装置を構成するスパッタリング装置１０が配置され、第２成膜ステージ９には、蒸着装置１１が配置されている。カルーセル４を回転させながらスパッタリング装置１０を作動させて薄膜を形成するスパッタリング工程を行う。このスパッタリング工程の後に、蒸着装置１１を作動させてさらに薄膜を形成する。スパッタリング工程では、蒸着材料が蒸発ないし昇華しないように蒸着装置１１を冷却する。 （もっと読む）

【課題】大型化することなく多数のワークに一括して成膜処理を行える装置を提供する。
【解決手段】主軸１３を中心に回転する主回転部１５には、複数の副回転部１６を設けてあり、各副回転部１６には、それぞれ複数のワークホルダ１７を設けてある。ワークホルダ１７に保持されるワークＷは、主回転部１５，副回転部１６の回転により、主軸１３を中心にした回転と副軸３６を中心にした回転をしながら、回転軸４６を中心に自転し、各ワークＷの各面がターゲットに順次に対面されて成膜が行われる。 （もっと読む）

【課題】種々の形状のワークに対して成膜を行う。
【解決手段】第１ターゲット装置１１は、円筒状のターゲットユニットその軸心をカルーセル４の回転軸４ａと平行となる姿勢で、また第２ターゲット装置１２は、ツツミ状のターゲットユニットがその軸心をカルーセル４の回転軸４ａと直交する姿勢とされて真空槽３内に配置されている。第２ターゲット装置１２のターゲット層の表面がワーク７の上面や下面に対向するため、それら第１ターゲット装置１１ではほとんど成膜されない部分にもスパッタ原子が堆積して成膜が行われる。 （もっと読む）

【課題】インラインスパッタ装置に用いられる真空槽が、内圧の変化によって変形しても帯状シートを搬送したときに擦り傷が入ることを防ぐ。
【解決手段】真空槽２を支持する真空槽支持脚４５とは別に、真空槽２の内部に設けられた送り出し搬送装置２５を搬送系支持脚４６によって支持する。搬送系支持脚４６は真空槽２の底部を貫通して床面１５に達する。搬送系支持脚４６が貫通する貫通穴は、可撓性を有するパイプ状の気密材５５によって覆われる。 （もっと読む）

【課題】化合物薄膜を高い効率で形成する。
【解決手段】真空槽３内の成膜ステージには、ＰＥＴフィルム４上に金属薄膜を形成するスパッタリング装置１０と、酸素イオンを放出するイオン銃１１とが配されている。スパッタリング装置１０は、流量コントローラ１３でスパッタガスと酸素ガスの導入比率を変化させることにより、酸素ガスを含む雰囲気で高速にスパッタリングを行う遷移領域モードで動作させる。ＰＥＴフィルム４が連続的に搬送されている間に、スパッタリング装置１０で金属薄膜の形成が行われ、その直後にイオン源１１にからの酸素イオンで金属薄膜が酸化される。 （もっと読む）

【課題】酸化膜のスパッタリング効率を向上させる。
【解決手段】ターゲット室１５から区画して酸素供給室２７を設ける。導入口２６を通してターゲット室１５にアルゴンガスを導入し、導入口３０を通して酸素供給室２７に酸素ガスを導入する。円筒状のターゲット１２の内部に磁石ユニット２２ａを設け、マグネトロン方式でスパッタリングを行う。酸素供給室２７はスパッタ原子が飛散する経路に面して吐出口３１を備え、スパッタ原子を酸化する。酸素供給室２７の内部に、放電電極３５が設けられ、酸素供給室２７内で酸素ガスを活性化する。ターゲット室１５と酸素供給室２７とがそれぞれ空間的に区画されているので、スパッタリングと酸素ガスの活性化とが互いに影響を受けずに効率化される。 （もっと読む）