【課題】 フォトレジストのストリッピング速度を減少することなく、またプラズマエッチ残留物を除去する能力を低下することのない、広範な種類の有機ポリマー物質およびプラズマ−エッチ残留物の双方を除去するストリッピングおよびクリーニング組成物を提供する。
【解決手段】 （ａ）約５〜約５０％の溶媒、（ｂ）約１０〜約９０％のアルカノールアミン、（ｃ）約０.１〜１０％のカルボン酸タイプの腐食防止剤、および（ｄ）約１.０〜４０％の水を含有させ、非腐食性のフォトレジストストリッピングおよびクリーニング組成物とする。
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【課題】 高い熱安定性を有し、高い加工安定性および流れ抵抗を有するレジスト組成物のバインダーとして適しているフェノール樹脂の提供。
【解決手段】 このフェノール樹脂は、ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）のヒドロキシル基の１０〜９０％が、式Ｉ


の保護基によって置換されており、重量平均分子量対数平均分子量の比率、Ｍ_w／Ｍ_nが１.０３〜１.８０の範囲のものである化学増幅型ポジレジスト用フェノール樹脂。 （もっと読む）

【構成】 式(Ｉ)または(II)：
【化１】


（式中、ｘは２〜３００の整数である）を有するヒドロキシスチレン部分と、式(III)：
【化２】


（式中、Ｒ₁及びＲ₂は１〜４の炭素原子を有する低級アルキル基、１〜４の炭素原子を有する低級アルコキシ基、アミノ基及びカルボン酸基から成る群から独立に選ばれ、そしてＲ₃及びＲ₄は水素、１〜４の炭素原子を有する低級アルキル基、１〜４の炭素原子を有する低級アルコキシ基、アミノ基及びカルボキシル基から成る群から独立に選ばれる）を有するモノメチロール化フェノール性化合物との、ヒドロキシスチレン部分対モノメチロール化フェノール性化合物のモル比が約１：１０〜約１０：１である縮合反応によって製造されるアルカリ可溶性バインダー樹脂。
【効果】 このアルカリ可溶性バインダー樹脂は、狭い分子量分布を有し、未露光部分と露光部分との溶解速度の明瞭な区別などのフォトレジスト組成物としてのすぐれた特徴を有する。 （もっと読む）