【課題】パラサイト赤外線に対する統合化されたシールドを有する赤外線撮像デバイス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本デバイスは、赤外線検出器（４０）を有する支持体（６２）と、検出器に面する少なくとも１つの光学デバイス（２８）と、パラサイト赤外線に対するシールドとを備える。シールドは、互いに離間し、支持体から光学デバイスまで延び、ベントを有し、支持体と光学デバイスの間を横方向に貫通するパラサイト赤外線を顕著に減衰させる材料で作成された、少なくとも２つの連続するビード（ｃ１，ｃ２）を備える。これらベントを有する２つのビードは、バッフルを形成する。デバイスは、フリップチップ技術を用いて製造される。 （もっと読む）

本発明は、ポンプレーザービーム（ｆ_ｐ）、信号ビーム（ｆ_ｓ）および補完的なビーム（ｆ_ｃ）が通過する非線形結晶（４）と、反射後に、信号周波数または補完的な周波数と独立した所与の機能モードの間に結晶から出てくる前記ビームが前記ビームの間に相対的な位相シフト値ΔΦ^ａｒを発生するように、前記ビームを全反射または部分反射する装置（５）とを備える二重共振光パラメトリック発振器に適用され、反射装置（５）が金属ミラー、または、２枚の散乱ミラーおよび下流に設置された多層誘電体ミラーの組み合わせであることを特徴とする。
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【目的】 多色光で機能し感度が連続的に調整可能な、横三方向変位型色消し光学干渉計を提供することである。
【構成】 本発明の横三方向変位型色消し光学干渉計においては、入射レンズにより、光ビームの波面が分析される平面と光学的に共役な参照面（Ｐ_C ）が決定される。二次元メッシュ状の格子（ＧＲ）は、この参照面（Ｐ_C ）内に、ビームと垂直に配置される。異なる回折次数による異なるサブビームは、共に、第１のレンズ（Ｌ₁ ）によって中間焦点面（Ｐ_F ）にフォーカシングされ、当該面の近傍に存在するマスクは、サブビームから少なくとも３つの別個の回折次数に関するものを選択する。第２のレンズ（Ｌ₂ ）は、選択されたサブビームを、格子平面と共役をなす零感度平面（Ｐ_O ）に導く。干渉像は、零感度平面から所定の距離（ｄ）に位置する、作業平面（Ｐ_A ）で観察される。 （もっと読む）