【課題】高圧容器内でもマイクロ波処理を行うことができるマイクロ波処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】中心導体２Ａおよびそれを外部から囲む外部導体２Ｂからなる同軸導波管２を用いて、同軸導波管２におけるマイクロ波の伝送の下流先端側に誘電体製の部材（石英加工物３）を高圧容器１内に取り付けた状態で、マイクロ波を伝送してマイクロ波処理を行う。同軸導波管２を用いることで導入口の径が従来の中空導波管の導入口の径よりも小さくなり、かつ、どのような周波数の電磁波でも遮断周波数の制限がかかることなく伝送できる。さらに、同軸導波管２におけるマイクロ波の伝送の下流先端側に誘電体製の部材（石英加工物３）を高圧容器１内に取り付ければ、高圧容器１の誘電体にかかる圧力が軽減される。その結果、高圧容器１内でもマイクロ波処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】電極剥がれや電極内での放電等を防止し、耐熱性に優れた放電電極および放電装置を提供することを目的とする。
【解決手段】従来の電極の部分を導電性の粉体５に替えることで、温度影響による電極剥がれを防止することができる。また、従来の誘電体バリアの部分を、セラミックあるいは石英で形成され、粉体５を収容可能に構成した筒６に替えることで、筒６と粉体５との間に隙間が生じにくいので、放電電圧が上昇しにくく、発熱しにくくなる。また、筒６がセラミックあるいは石英で形成されているので、耐熱性に優れ、ピンホールもなく、非常に長寿命が期待できる。その結果、電極剥がれや電極内での放電等を防止し、耐熱性に優れたプラズマ用電極１を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】加工が容易であり、低コストで入手が簡単な加熱体、それを用いた加熱方法並びに加熱体を備えた加熱装置を提供することを目的とする。
【解決手段】セラミック３ａと炭素３ｂとで加熱体３を形成する。炭素３ｂは、マイクロ波を炭化ケイ素よりも良く吸収し、耐熱温度も十分であり、マイクロ波用加熱体として最適である。一方、セラミック３ａは、耐熱性があり、耐摩耗性、耐腐食性などに優れ、熱伝導も良好である。また、セラミック３ａは、その加工性において容易であり、コストも炭化ケイ素よりも低く抑えられ、入手も簡単である。したがって、従来の炭化ケイ素のみで形成された加熱体の替わりに、セラミック３ａと炭素３ｂとで形成された加熱体３を用いることで、加工が容易であり、低コストで入手が簡単な加熱体３を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】熱変形や熱による損傷を防止しつつ、効率良く低温で微粒子を焼結させることができる加熱処理方法およびその装置を提供することを目的とする。
【解決手段】銀の微粒子が塗布されたＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）を被処理物（ワーク）としてチャンバー内に送り込んで収容する。ステップＳ２でチャンバーの内部にワークを収容して、ワークに対して加熱処理を行う。このステップＳ２での加熱処理とは別に、ステップＳ２では、ワークを収容した状態でチャンバーの内部を真空でワークを処理する真空処理を加熱処理と並行して行っている。この真空処理を加熱処理に組み合わせることで、加熱時間を低減させて低温にして、熱変形や熱による損傷を防止しつつ、効率良く低温で微粒子を焼結させることができる。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理装置において、簡易な構造で確実にワークと金属製マスクを固定できるワーク保持治具を提供する。
【解決手段】処理チャンバと、プラズマ生成部と、ステージと、ワーク保持治具とで少なくとも構成され、プラズマ生成ガスを吸引しプラズマを処理基板上にダウンフローさせて基板を処理するプラズマ処理装置において、ワーク保持治具が、処理基板６０を所定の位置に保持すると共に磁気を生じさせるワーク保持台５０と、ワーク保持台に保持された処理基板上に載置固定される磁性体からなるメタルマスク８０とによって構成され、ワーク保持台が、ワーク保持台から延出する少なくとも一対の位置決めロッドを具備すると共に、処理基板及びメタルマスクには、所定の位置に位置決め用孔が形成され、処理基板及びメタルマスクを、位置決めロッドがそれぞれの位置決め用孔に貫通するようにワーク保持台に載置することにある。 （もっと読む）

【課題】効力が強い放電装置を提供することを目的とする。
【解決手段】誘電体が被覆された誘電体バリアの電極２をチャンバー１内に備え、チャンバー１内で放電させる。具体的には、誘電体バリアの電極２は、金属電極２３や誘電体バリア２４などを備え、金属電極２３を誘電体バリア２４が被覆して、誘電体バリア２４から放電させる。このような誘電体バリアの電極２をチャンバー１内に備え、チャンバー１内で放電させるので、投入電力（電極への印加電力）の放電効率がよく、省電力化を図ることができる。その結果、低コストで効力が強い放電装置（実施例ではプラズマ処理装置）を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】この発明は、ＣＦ_４以外の最適なフッ素系ガスを使用すると共にプラズマ処理能力を向上させたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】この発明は、処理ワークが配される処理空間と、該処理空間内にガスを導入するガス導入手段と、前記処理空間内に放電プラズマを形成するプラズマ生成手段とによって少なくとも構成されるプラズマ処理装置において、前記処理空間に導入されるガスは、フッ化カルボニル（ＣＯＦ_２）又はトリフルオロメタン（ＣＨＦ_３）を含むガスであり、このガス圧力は、０．００１Ｔｏｒｒ〜１００Ｔｏｒｒの範囲内であることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】画像データを取りこぼすことなく記録でき、かつ検索等の取り扱いが容易な画像ファイルを簡素な構成で生成することができる画像記録装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る画像記録装置は、監視カメラから入力される画像データを保存するループメモリ部と、マスキング期間中のトリガを無効トリガとし、マスキング期間経過後の最初のトリガを有効トリガとし、有効トリガの後の所定期間をマスキング期間とするマスキング処理部と、有効トリガの前後の画像データをループメモリ部から読み出して固定記録時間長の画像ファイルを生成する画像ファイル生成部と、を備え、画像ファイル生成部は、有効トリガの発生時刻より事前記録規定時間だけ前の時刻から、有効トリガの発生時刻より事後記録規定時間にマスキング期間を加えた時間だけ後の時刻まで、の画像データから画像ファイルを生成する、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】処理可能な被処理物が制限されることなく、処理効率を向上させることができる放電装置およびそれを製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】誘電体１の容量結合によって誘電体１に配設された２極の電極２，３間で放電させるために、放電側とは逆側の誘電体１の面に電極２，３をともに配設して構成する。放電側とは逆側の誘電体１の面に電極２，３をともに配設するので、従来のように電極を互いに対向させて放電させずに、電極２，３から誘電体１側へと放電する。したがって、従来のように互いに対向した電極間にワークを置く必要がなく、処理可能なワークＷが制限されることがない。また、従来のように互いに対向した電極間にワークを置く必要がないので、両電極２，３を配設した誘電体１にワークＷを近接させることができ、処理効率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、ワークの複数の面に対して処理を行うことができるプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】ワークに対して所定の処理を行う第１チャンバー１と第２チャンバー３とを、チャンバー間搬送機構７を挟んで一列に配置している。第１チャンバー１は、その上面に２つのＳＷＰユニット１１を備えて、ワークＷの上方に表面波プラズマが生成される生成空間Ｂを形成している。第２チャンバー３は、その下面に２つのＳＷＰユニット１１を備えて、ワークＷの下方に生成空間Ｂを形成している。これにより、ワークＷの上面と下面の両側に対して所定の処理を行うことができる。 （もっと読む）