説明

ツジカワ株式会社により出願された特許

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【課題】転写箔材料の浮き上がり、接着不良、しわの発生、歪みの発生、等の乱れの発生を防止して、箔押用版の表面に形成されている凹凸パターンに忠実な箔押転写凹凸パターンを転写形成する箔押転写加工方法および箔押転写加工システムを提供する。
【解決手段】受基板3と凹凸パターン部2aを有する箔押用版2とを備え、受基板3と箔押用版2との間に被加工物4と転写箔材料5を供給し、箔押用版2と受基板2とを互いに押圧して、箔押転写凹凸パターンを被加工物の表面に転写形成する箔押転写加工方法および箔押転写加工システムであって、箔押用版2と受基板3とのうちの少なくともひとつを押圧駆動していく過程において、転写箔材料5を張力を保って保持して固定した張力保持固定状態に形成し、この転写箔材料5を介して、箔押用版2と被加工物4とを互いに押圧して箔押転写凹凸パターンを被加工物表面に転写形成する。 (もっと読む)


【課題】 アルミラミネートフィルムが十分にエンボス加工されたエンボス加工フィルムを得ることができ、更に、該エンボス加工フィルムのピンホールの発生を抑制できるエンボス加工フィルムの製造方法を提供することにある。
【解決手段】 凸型と凹型との間に被加工フィルムを挟み込むエンボス加工フィルムの製造方法であって、被加工フィルムが、アルミラミネートフィルムであり、凸型が、凸型土台部と、凸部とを有し、凸部が、凸部外方面を有し、凹型が、凹型土台部と、凹部とを有し、凹型土台部の外方側の面に対して同一面上の仮想面と、凸部外方面とが接し、或いは仮想面と、凸部外方面とが重なり、且つ仮想面と凸部外方面との最大重なり量が0.0〜0.2mmとなるように、凸型と凹型との間に前記アルミラミネートフィルムを挟み込むことを特徴とするエンボス加工フィルムの製造方法を提供する。 (もっと読む)


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