【課題】本件発明の課題は、新規還元剤を用いたホルムアルデヒドフリーの無電解銅めっき液、及び、無電解銅めっき方法を提供することにある。
【解決手段】上記課題を解決するため、無電解銅めっき液は銅塩と還元剤とを含む無電解銅めっき液において、前記還元剤として亜ジチオン酸、亜ジチオン酸誘導体及びこれらの塩のうちいずれか一種又は二種以上を用いる。また、上記課題を解決するため、無電解銅めっき方法では、当該無電解銅めっき液に被めっき物を浸漬し、被めっき物の表面に銅を析出させる。 （もっと読む）

【課題】 キャリア箔上での極薄銅箔の密着保持が確実であるとともに、熱圧着処理後のキャリア箔の剥離が容易であるキャリア箔付き極薄銅箔と、これを製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】 キャリア箔付き極薄銅箔を、銅のキャリア箔上に、ニッケル層またはニッケル合金層、および、剥離層を介して極薄銅箔を備えたものとし、剥離層はオキシ水酸化ニッケルを含有するとともに、厚みが２０〜６０ｎｍの範囲内であり、厚みのバラツキが２０％以下であるように構成する。 （もっと読む）

【課題】簡単かつ精度良く、無電解ニッケルめっき液中の硫黄系化合物の濃度を測定し、その濃度を管理する方法およびその管理するシステムを提供する。
【解決手段】濃度管理システム１は、無電解ニッケルめっき液Ｌに接触する少なくとも表面が、金、銀、または白金からなる作用電極４１、対極４２、参照電極４３、参照電極４３に対する作用電極４１の電位を制御する電圧制御装置４４、及び対極４２と作用電極４３との間に流れる電流を測定する電流計４５を備え、無電解ニッケルめっき液中の参照電極４３に対する作用電極４１の電位に応じて、作用電極４１と対極に流れる電流Ｉを電流計で測定する電気化学測定装置４と、電流Ｉに基づいて、硫黄系化合物の濃度を算出し、無電解ニッケルめっき浴２内の硫黄系化合物の濃度を調整する制御信号Ｓを出力する制御装置５と、制御信号Ｓに基づいて無電解ニッケルめっき浴２内の硫黄系化合物の濃度を調整する調整装置６と、備える。 （もっと読む）

【課題】本件発明の課題は、無電解ニッケルめっき液に極微量に添加される硫黄化合物を精度よく、簡易に、且つ、迅速に測定することができる無電解ニッケルめっき液の硫黄化合物濃度測定方法を提供することである。
【解決手段】上記課題を解決するため、作用電極３として、無電解ニッケルめっき液に接触する表面が、少なくとも金、銀、又は白金からなる電極を用い、電圧制御装置６により、作用電極３及び対極５間に電圧を印加して、参照電極４に対する作用電極３の電位に応じて、当該作用電極３及び当該対極５間に流れる電流値に基づいて、無電解ニッケルめっき液に含まれる硫黄化合物の濃度を求めることを特徴とする無電解ニッケルめっき液の硫黄化合物濃度測定方法を採用した。 （もっと読む）

【課題】本件発明の課題は、無電解ニッケルめっき液に極微量に添加される硫黄化合物を精度よく、簡易に、且つ、迅速に測定することができる無電解ニッケルめっき液の硫黄化合物定量分析方法を提供することである。
【解決手段】上記課題を解決するため、作用電極として、少なくとも測定溶液に接触する表面が水銀からなる電極を用い、無電解ニッケルめっき液を０．０１ｖｏｌ％以上１００ｖｏｌ％未満の範囲で含むと共に、ｐＨ緩衝性を有し、且つ、溶液ｐＨを所定の測定ｐＨ値に調整した測定溶液を調製し、当該測定溶液を用いて、ポーラログラフィ測定により、当該測定溶液に含まれる無電解ニッケルめっき液が含有する硫黄化合物の定量分析を行うことを特徴とする無電解ニッケルめっき液の硫黄化合物定量分析方法を採用した。 （もっと読む）

【課題】無電解ニッケル合金膜の高精度のパターニング方法を提供すること。
【解決手段】本発明の無電解ニッケル合金膜のパターニング方法は、表面変性溶液を用いるステップと、エッチング液を用いるステップを含む。まず、無電解ニッケル合金膜を基板上に堆積する。次いで、フォトリソグラフィによって、無電解ニッケル合金膜上にレジストパターンを形成する。そして、レジストパターンを形成した無電解ニッケル合金膜の露出した表面を、表面変性溶液に浸して変性する。続いて、無電解ニッケル合金膜の変性された表面を、エッチング液に浸す。最後に、レジストパターンを除去する。ここで、エッチング液は、表面変性溶液よりも酸化力が強くなるように調整されている。 （もっと読む）

【課題】ホウ酸やカルボン酸を使用せず、弱酸性から中性領域の溶液ｐＨを備え、従来通りの生産性が得られるニッケルめっき液、及び、そのニッケルめっき液を用いたニッケルめっき方法を提供する。
【解決手段】上記課題を解決するために、ニッケルイオンの供給源である１種以上のニッケル塩とｐＨ緩衝剤とを含む電気めっき用のニッケルめっき液であって、ｐＨ緩衝剤がアミノアルカンスルホン酸又はその誘導体であり、且つ溶液ｐＨが４．０〜６．５であることを特徴とするニッケルめっき液を採用する。 （もっと読む）

【課題】 流体中で稼動するポンプや船舶用プロペラなどの機能部品の表面に無電解ニッケル−リンめっき層を生成して、耐キャビテーション・エロージョン性を向上させるのに好適な、無電解ニッケル−リンめっき処理方法及び無電解ニッケル−リンめっき処理した機能部品を提供すること。
【解決手段】 金属材料からなるめっき対象物の表面に無電解ニッケル−リンめっきを施すめっき工程と、前記無電解ニッケル−リンめっきのリンの含有量に応じて熱処理温度を選択する選択工程と、前記選択工程で選択された熱処理温度に従って前記無電解ニッケル−リンめっきの施されためっき対象物に熱処理を施す熱処理工程を備え、熱処理工程による無電解ニッケル−リン層の硬度の析出硬化等により耐キャビテーション・エロ−ジョン性を向上させる。 （もっと読む）

【課題】粘着剤を被覆層構成材として用いて形成した被覆層付部材から処理溶液に溶出する物質の悪影響を抑制できる表面処理方法を提供する。
【解決手段】被覆層構成材６に含まれる物質が処理溶液に溶出して当該表面処理に悪影響を及ぼす現象を抑制する影響抑制工程を含む表面処理工程を採用する。影響抑制工程では、被覆層付部材１を湯煎する工程、有機溶剤で洗浄する工程を実施する。紫外線硬化型粘着剤に対しては、被覆層構成材６のはみ出し面２２を紫外線処理する工程、又は、処理溶液を紫外線処理する工程も採用できる。更に、必要に応じて活性炭処理工程を付加する。 （もっと読む）

【課題】１つの画素セルサイズの１辺が０．１ｍｍを下回るリブ隔壁を備えるフラットパネルディスプレイ用の背面ガラス基板を精度良く製造する方法を提供する。
【解決手段】フリットガラスをリブ付背面ガラス基板のリブ隔壁パターン形状を転写した形状を備える金属型枠を用いて成形し、成型フリットガラスを常圧焼成／減圧焼成／常圧焼成の順番で少なくとも１回の減圧焼成を実施してリブ付背面ガラス基板形状物とし、リブ付背面ガラス基板形状物を常圧下で調質処理してリブ付背面ガラス基板を製造する方法を採用する。焼成と調質処理とは、非酸化性ガス置換雰囲気であれば、金属型枠にフリットガラスを充填したまま実施することもできる。 （もっと読む）