説明

株式会社小平製作所により出願された特許

1 - 1 / 1


【課題】高い効率で混練を進め微細組織を達成し、かつ高分子組成物の力学物性の低下がおこらない新しい混練装置及び混練方法の提供。
【解決手段】高分子組成物の流入口と、吐出口と、該流入口と吐出口とを結ぶ一方向に沿って形成された高分子組成物が通流する空間とを備え、該空間の少なくとも一部に、高分子組成物が通流する方向と交差する方向に沿って高さが0.1〜5mmの隙間部分を形成し、該隙間部分の隙間距離が5mm以上100mm以下であり、かつ、該隙間部分の幅が5mm以上2000mm以下であることを特徴とする混練装置。 (もっと読む)


1 - 1 / 1