説明

フオン・アルデンネ・アンラーゲンテヒニク・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツングにより出願された特許

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【課題】プロセス上重要なデータを求める際の誤差を最小限に抑えるため、真空析出プロセスのプロセス的に重要なデータの求める方法を提供する。
【解決手段】マグネトロンに連結されたターゲットでコーティングされる際の光学的発光スペクトルで、少なくとも2つのプロセス材料によって、スペクトル線の少なくとも3つの強度I...Iが光学的発光スペクトルから求められることによって解決される。この発光スペクトルから、単一または多重の強度が互いに数学的に合成され、そして合成結果から、他の数学的合成によってプロセス上重要なデータが求められ、このデータが後続の測定プロセスまたは制御プロセスで使用される。 (もっと読む)


【課題】先行技術から出発して、公知の連続基盤処理装置を改良することである。
【解決手段】基盤を処理するための基盤処理装置であって、室壁1によって画成される装置室並びに、装置室の内部に少なくとも一つの基盤処理装置および、搬送方向において相前後して設けられる、基盤の縦置きまたは横置きの搬送のための搬送ローラー3の配置を備える搬送装置を有している基盤処理装置において、直接相前後して設けられる搬送ローラー3の、少なくとも第一のグループにおいて、各搬送ローラー3が、独自の駆動装置6を備えている。 (もっと読む)


【課題】
本発明の課題は、先行技術から出発して、公知の連続基盤処理装置を改良することである。
【解決手段】
この課題は、基盤を処理するための基盤処理装置であって、室壁(1)によって画成される装置室並びに、装置室の内部に少なくとも一つの基盤処理装置および、搬送方向において相前後して設けられる、基盤の縦置きまたは横置きの搬送のための搬送ローラー(3)の配置と少なくとも一つの駆動装置(6)を備える搬送装置を有している基盤処理装置において、駆動装置(6)のローター(7)が、装置室内を支配している圧力状況の中に置かれ、そしてステータ(10)が、装置室を支配している圧力状況の外に置かれることを特徴とする基盤処理装置。 (もっと読む)


【課題】走行側での接触を回避できるとともに積層装置においてコストを抑えて使用可能な、帯状部材の搬送装置を提供すること。
【解決手段】処理ローラ1,2及び少なくとも1つの搬送ローラ又はガイドローラ6によって帯状部材3を搬送する装置において、前記処理ローラ1,2の前方又は後方に配置された少なくとも1つの前記搬送ローラ又は前記ガイドローラ6を、ねじりローラ8として形成するとともに、その回転軸9が前記処理ローラ1,2の回転軸10,13に対して0°でない角度をなすよう構成した。
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【課題】
本発明は、真空被覆設備内で気化すべき材料によって基板1を被覆するための方法に関する。当該気化材料が、中間キャリア3を使用する二重気化によって前記基板1上に蒸着される。前記中間キャリア3が連続して移動される。
【解決手段】
当該課題は、連続被覆設備内での使用を保証する中間キャリアを提供することにある。この課題は、本発明により、シリンダ状の中間キャリア3によって解決される。
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【課題】本発明は、連続成膜設備において、化学量論的組成勾配を有する形で基板に成膜するための方法及び装置を提供する。
【解決手段】本発明では、それぞれ一つの蒸発器チューブを有する少なくとも二つの蒸発機器が配備され、両方の蒸発器チューブは、互いに独立して傾斜可能な形に構成されており、そうすることによって、両方の蒸気ビームの移行領域を勾配形態の要件に適合させることができる。 更に、基板に対する蒸発器チューブの間隔及び蒸発器チューブの互いの間隔を調整することができる。 (もっと読む)


【課題】中間担体1を使用して、材料6を基材7上に局所的に堆積させるための方法及び装置を提供すること。
【解決手段】中間担体1からの材料6の局所的堆積が、放射線によるエネルギー印加によって行われる。中間担体1は微細構造を備え、この微細構造によって材料6が中間担体1から基材7上に微細構造化されて転写される。 (もっと読む)


真空室内で回転するマグネトロンを用いて基板に成膜する方法であって、基板の運搬方向にマグネトロンに沿って基板を通過させて、マグネトロンと接続されたターゲットから放出される材料を用いて、場合によっては、その材料を真空室内に有る反応ガスと反応させて、成膜する方法に関し、ターゲットの回転に対して動作点を安定化させることによって、基板上の膜の均質性を改善することを課題とする。本課題は、ターゲットの回転によって引き起こされる第一のプロセスパラメータの周期的な変化を第二のプロセスパラメータの所定の大きさの周期的な変化によって補正することと、回転数の異なる二つのマグネトロンを配備することの一方又は両方によって解決される。
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本発明は、調整可能な反射色および透過率を有する透明基板上の焼入れ可能なソーラーコントロール層系、およびその製造方法に関する。本発明の課題は、様々な熱処理が可能で、且つその際に化学的および機械的耐久性を維持しつつ目に見えるカラーシフトがない、真空コーティングによってガラス上に形成できる遮光層系の製造であり、これは誘電基板S0をコーティングするための焼入れ可能で可視光線反射性と吸収性がある層系によって解決され、本層系は、基板S0上に次の順序で、少なくとも1つの透明な高屈折率誘電体層S2、1つの機能性金属反射および吸収層S4、および1つの透明な高屈折率誘電体層S6を含む。本発明によるソーラーコントロール層系は、反射色および透過率の調整を可能にする。 (もっと読む)


本発明は、透明基板上の赤外線反射層系およびこのような層系の製造方法に関する。本発明の課題は、基板の熱処理の厳しい雰囲気条件および/又はガラス基板の場合の不定の状態でも十分な質、特に可視域で約10〜80%の調整可能な透過率と低い放射率を保証し、同時に層系の色度座標の十分な安定性を可能にする層系とその製造方法を提供することであり、誘電基板S0をコーティングするための焼入れ可能で赤外線反射性であり且つ可視光域で的確に調整可能な吸収性を有する層系によって解決されるが、この層系は、本発明によれば基板S0上に次の順序で、透明な高屈折率誘電体層S2、基板側の吸収又は遮蔽層S3、機能性金属反射層S4、上部吸収又は遮蔽層S5、および透明な高屈折率誘電体層S6を有する。本発明による層系は、ガラス基板上の焼入れ可能なIR反射層系(低放射)の性質と、可視光域における透過率が約10%〜約80%の間で調整可能である焼入れ可能なソーラーコントロールシステムの性質を併せ持つことができる。 (もっと読む)


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