【課題】ウェーハ保持具からウェーハを取り外す際にウェーハが破損されることがなく、特性試験の実施コストが低く、高温における特性試験を可能とし、ウェーハ面に垂直に力が働いても保持具からウェーハが外れたり破損したりすることがなく、ウェーハを容易に特性試験の実施装置の載荷ステージ面に平坦に装着させることが可能であるウェーハ保持具を提供する。
【解決手段】リング状に周辺部を残し中空部が設けられた保持フレーム１０の中空部をふさぐように金属シート１２がこの保持フレーム１０に固定され、この金属シート１２には、複数の細かな孔が開けられた穿孔領域１４が形成されている。この穿孔領域１４の一部または全部を覆うようにウェーハ３０を配置させることが可能とされていて、金属シート１２上に配置されたウェーハ３０をこの金属シート１２に対して動かないように固定する耐熱性素材で形成されたウェーハ固定機構２０を備えている。 （もっと読む）

【課題】装置総体の低重心化が図られ、スピンドルのZ軸方向移動を不要としスピンドル保持機構が単純化された、小型のダイシング装置を提供する。
【解決手段】Z軸移動機構34内にθ回転機構16が取り囲まれて配置され、重心位置が低くなるように一体化形成されたZ軸-θ軸機構50が、ワークテーブル保持機構40側に組み込まれている。重心位置を低くすることによって、ワークテーブル24をX軸、Y軸、θ軸方向に高速で移動させた際にダイシング装置内で発生する振動の振幅を小さく抑えている。また、スピンドル保持機構32はZ軸移動機構を備えない構成とすることによって、スピンドルの移動に伴う歳差運動が発生しない構造とされている。 （もっと読む）

【課題】対向する2つの撮像光学系に対して、ウエハをウエハステージから取り外したり、ターゲットパターンを光学系の光軸位置に移動したりすることなく、2つの光学系の光軸位置の相対関係を高精度にキャリブレーションすることが可能となると同時に、2つの光学系の画像データ1画素の大きさ、カメラの取り付け角度も一括してキャリブレーションできる。
【解決手段】キャリブレーション用2次元パターンを投影する投影光学系42を具える第1光学系32と、第1光学系32に対向するように配置される第2光学系22とを具えて構成される。第1光学系は、被検査半導体結晶基板26の電極を認識するための光学系である。第2光学系は、接触電極38を認識するための光学系である。 （もっと読む）

【課題】ＢＧＡ等のように表面に多数の突起物を備えた被測定物を高精度で測定するのに好適な３次元座標測定装置及び方法を提供する。
【解決手段】同軸落射照明を備えたテレセントリック光学系の撮像手段であって、被測定物Ｗを載置した試料台１２の鉛直軸ＣＬに対して光軸１４Ａが所定の傾斜角度をなすように設けられる第１の撮像手段１４と、同軸落射照明を備えたテレセントリック光学系の撮像手段であって、試料台の鉛直軸に対して光軸１６Ａが第１の撮像手段の光軸１４Ａと線対称になるように設けられる第２の撮像手段１６とを使用し、第１の撮像手段で照明した被測定物表面を第２の撮像手段で撮像し、第２の撮像手段で照明した被測定物表面を第１の撮像手段で撮像し、第１及び第２の撮像手段で撮像した画像より被測定物表面の３次元座標を得る。 （もっと読む）

【課題】ＣＳＰ、ＷＬＣＳＰの様にパッケージングされたデバイスに対して、デバイス上の電極部分をモデル画像として使用するパターンマッチングにおいて、正しい位置検出が可能な位置検出方法を提供すること。
【解決手段】位置検出方法を、単一の対象物１１のモデル画像を生成する対象物モデル画像生成ステップと、設計データを用いた対象物有無配列パターン画像作成ステップと、対象物位置検出ステップと、撮像対象物配列パターン画像作成ステップと、対象物有無配列パターン画像と撮像対象物配列パターン画像との相関演算を行う相関演算ステップとで構成した。 （もっと読む）

【課題】投影変換に伴う問題点を解決して、パターンマッチングに使用する人工画像モデルを作成すること、特に、３次元測定をするためのステレオ光学系を用いた画像処理システムにおいて問題点が解消され、投影歪みの影響を取り入れた画像モデルを作成できる画像データ作成方法を提供する。
【解決手段】パターンマッチングのための対象図形の画像データを得る画像データ作成方法である。対象図形及びその周縁の画像を所定位置に設けられた撮像カメラで撮像した際に撮像カメラの結像面に投影される投影画像の画像データを得るために、撮像カメラの撮像位置パラメータを用いて対象図形及びその周縁の画像を結像面上に投影変換し投影変換された画像データを得る。 （もっと読む）