【課題】光学アセンブリの提供
【解決手段】光学ベンチと光ファイバコネクタとの間の光学的かつ機械的接続を可能にする光学アセンブリを提供する。本発明は、光電子産業において微小光学構成要素を形成するのに特定の用途が見出される。 （もっと読む）

【課題】プリント配線板等におけるはんだぬれ性を阻害する金属および金属合金上での表面酸化物形成を抑制するための改善された組成物および方法を提供すること。
【解決手段】無機リン酸または有機リン酸、またはこれらの塩と水からなる組成物を金属または金属合金を堆積させたプリント配線板、リードフレーム、接点などの基体に浸漬するなどによって接触させ、これらの基体のリフロー処理後における金属および金属合金上での酸化物形成を抑制する。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィーに有用な新規フォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】本発明の好ましいフォトレジスト組成物は、レジストの樹脂成分と実質的に非混和性である１以上の物質を含む。本発明のさらに好ましいフォトレジスト組成物は、１）Ｓｉ置換、２）フッ素置換；３）超分岐ポリマー；および／または４）ポリマー粒子を含む。本発明の特に好ましいフォトレジストは液浸リソグラフィー処理中のレジスト層と接触する液浸液中への、レジスト物質の滲出を低下させることができる。 （もっと読む）

【課題】非常に低いレベルの金属不純物及び酸素含有不純物を有する、高純度金属含有化合物、特に有機金属化合物を一貫して提供する方法を提供する。
【解決手段】連続抽出を使用する金属含有化合物の精製方法が提供される。この金属含有化合物は高純度で提供され、および金属フィルム、特に電子デバイスで使用される薄い金属フィルムを堆積する際に使用するのに好適である。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理後のポリマー残留物を基体、例えば電子装置から除去するために有用な組成物の提供。プラズマ処理後の残留物を除去する方法および組成物を用いた集積回路の製造法の提供。
【解決手段】本発明は、ａ）フッ化物イオン源；ｂ）水；ｃ）トリハロ酢酸、有機ポリカルボン酸化合物、有機ヒドロキシ−カルボン酸化合物およびアミノ酸から選択される有機酸化合物；ならびに任意にｄ）有機溶媒を含む組成物であって、４．５以下のｐＨを有する組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 プリント配線板等に用いられるネガ型感光性樹脂組成物において、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する良好な現像性を有し、かつ層間絶縁樹脂として要求される耐熱衝撃性を有すること。
【解決手段】 エポキシ含有物質およびポリパラビニルフェノールを含むネガ型感光性樹脂組成物において、複数のエポキシ含有物質の混合物を用いることにより、ＴＭＡＨ水溶液により現像することができ、改良された耐熱衝撃性を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 シリコンウエハー等に用いられる層間絶縁樹脂として用いられるネガ型感光性樹脂組成物において、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する良好な現像性を有し、かつＰＣＴ条件下において密着性を低減させないこと。
【解決手段】 エポキシ含有物質およびビニルフェノール樹脂を含むネガ型感光性樹脂組成物において、特定の尿素系架橋剤を用いることにより、ＴＭＡＨ水溶液により現像することができ、シリコン基板に対する改良された密着性を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】基体、例えば、光学基体への金属層の接着を改善する方法の提供。および、かかる方法によって製造される装置の提供。
【解決手段】本発明の方法は、金属堆積に先立ち、メッキ触媒を含む接着促進組成物の層を基体上で用いる。本発明は、基体上に金属膜を堆積する方法であって、基体を準備する工程、基体上に接着促進組成物の層を堆積する工程、および接着促進組成物上に金属層を堆積する工程を含み、接着促進組成物が膜形成ポリマー、メッキ触媒およびポロゲンを含有する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】オーバーコートされるフォトレジストと共に使用するための新規な反射防止組成物を得る。
【解決手段】第１の態様において、異なる樹脂の混合物を有する樹脂成分を含有し、この混合物の少なくとも１種の樹脂が発色団基を含み、混合物の少なくとも１種の樹脂が、少なくとも実質的にあるいはまったく発色団基を含まない、有機コーティング組成物、特にスピンオン反射防止コーティング組成物が提供される。さらに別の態様においては、オーバーコートされるフォトレジスト組成物層の画像形成に使用される放射線に対して異なる吸光度を有する複数の下地有機反射防止コーティング組成物の使用を含む系が提供される。 （もっと読む）

【課題】新規なフォトレジスト組成物の提供
【解決手段】光活性成分並びに少なくとも２種の異なる樹脂、即ち、ｉ）ヘテロ置換基（特に、ヒドロキシ又はチオ）を有する炭素環式アリール単位を含む第一樹脂及びｉｉ）第二架橋樹脂の混合物を含有する、新規なポジ型フォトレジスト組成物が提供される。本発明の好ましいフォトレジストは、短波長、例えば２００ｎｍ未満、特に１９３ｎｍで画像形成することができる。 （もっと読む）