【課題】モールド作製時の負担を軽減して、ナノインプリント技術の高スループット化および低コスト化を可能にする。
【解決手段】モールドを押し付けてパターニングした未効果のレジスト上に、再度（１回または複数回にわたり）モールドを押し付けることによってパターニングを行う。つまり、同一レジスト上でダブルパターニングを行う。レジストとしては、硬化前に２度以上のパターニングが可能なものを使用する。再度のパターニングは、最初のパターニングに使用したモールドを、位置を変えて（それまでにパターニングを施した範囲から完全には逸脱しない範囲で位置を変えて）使用するのがよい。 （もっと読む）

【課題】 ナノインプリントリソグラフィーにおいて従来使用されているF-SAMと遜色ない離型性を有し、耐久性の点でさらにすぐれている離型処理方法および離型膜を提供する。
【解決手段】 ナノインプリント用モールドの表面に設ける離型膜として、ポリジメチルシロキサン（PDMS）薄膜を使用する。上記のポリジメチルシロキサン薄膜は、ポリジメチルシロキサンの片側末端にシランカップリング基が結合した化合物を用いてモールド表面に成膜するのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 高分子液晶における配向を簡単な1段階プロセスによって定められるうえ、ナノメートルスケールにおける配向制御が可能となる方法を提供する。
【解決手段】 高分子液晶の配向をナノインプリントによって制御する。たとえば、ラインアンドスペースの微細パターンを有する部分と有しない部分とを含むモールドを高分子液晶に押し付けることによって、当該液晶中に、特定方向へ配向した部分と配向がランダムな部分とを意図的に配置して同時に形成する。 （もっと読む）

【課題】 低コストで構成でき、能率的であるほか、小さなスペースにも設置しやすい、好ましいナノインプリント装置を提供する。
【解決手段】 ナノインプリント装置１は、ワークＷの表面にモールドの微細パターンを転写する装置である。同装置１には、複数の保持部１１にそれぞれワークＷを保持することができ一定の停止角度位置で各保持部１１を停止させながら回転する回転テーブル１０を設ける。また、ワークＷへの樹脂塗布手段３０、ワークの加熱手段４０、およびワークへの転写手段６０を、それらの順序が上記回転テーブル１０の回転向きに一致するよう当該回転テーブル１０の回りに配置する。そして、停止角度位置にある各保持部１１とそれら各手段との間で、直線動作機構を用いてワークの受け渡しが行えるよう構成する。 （もっと読む）

【課題】短い工数で安価に製造可能でかつ形状、寸法精度の高い構造の荷電粒子加速器の変動磁場近傍に設置される薄肉構造の直線状の真空ダクトあるいは偏向角を備えた偏向ダクトの提供を目的とする。
【解決手段】複数の直管状のユニット真空ダクト７５を直線状に接合して所定の長さの真空ダクト７０となるよう形成されており、前記ユニット真空ダクト７５の端部には、弾性変形可能なユニット真空ダクト７５の外側に向かって形成された円弧状端部７４が設けられ、この円弧状端部７４が互いにつき合わされて接合されている。 （もっと読む）

【課題】 モールドに対する離型処理を必要とせずにナノインプリントリソグラフィーを行う手法を提供する。
【解決手段】 モールドが有するナノ構造パターンをレジストに転写すべくレジスト上にモールドを押し付けるにあたり、モールドが押し付けられる前のレジスト上に離型剤を塗布する。その塗布は、スピンコートによって基板上にレジストの薄膜を形成する間に、当該レジストの表面に離型剤を噴霧するのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 ＨＳＱ膜上の微細パターンが高温度でも維持されるようにするパターン形成方法、および高温度でも維持されるように微細パターンが形成されたパターン形成体を提供する。
【解決手段】 まず基板１上のＨＳＱ膜２に、モールド８を押し当てるナノインプリント法によって微細パターン２ａの付与を行う。モールド８を剥離したのち、ＨＳＱ膜２の加熱過程をはさむことなく、微細パターン２ａ（ＨＳＱ膜２）の表面に酸素照射を行う。 （もっと読む）

【課題】 良好な離型特性を有していて剥離剤の使用を必要としないナノインプリント用モールドを提供する。
【解決手段】 凹凸にて形成された微細パターンを被転写材に転写するためのナノインプリント用モールドにおいて、微細パターンをなす凹凸の表面、または当該表面を含む凹凸の全体を、フッ素含有ダイアモンドライクカーボン膜（F-DLC膜）によって形成する。とくに、F-DLC膜は、化学気相成長法（CVD）により成膜し、水接触角９０°以上のはっ水性が備わるようにするとよい。 （もっと読む）

【課題】 円筒（ローラー）を長くした場合にもそれを均一に基板上に押し付けることができ、もって微細パターンの正確な転写を可能とするナノインプリント装置および方法を提供する。
【解決手段】 モールドもしくは被転写膜またはそれらの双方を表面上に取り付け可能な平板２０のほか、上記表面の側にある表側ローラー１１とその反対側にある裏側ローラー１２・１３とによって当該平板２０をはさみ付け得るローラー組１０、および、上記平板２０とそれをはさみ付けたローラー組１０との間に相対移動をもたらす移動機構３０を組み合わせてナノインプリント装置１を構成する。そして裏側ローラー１２・１３は、表側ローラー１１の長さの方向に不連続な複数の支持ローラーであって、平板２０をはさみ付ける向きの力を個別に調整できるものにより構成している。 （もっと読む）

【課題】 転写の前後の取扱いが容易であるうえ、広い面積であっても膜の均一性にすぐれる、といった利点のあるパターン形成方法等を提供する。
【解決手段】 感光性ドライフィルムに対して、モールドの押し付けと光照射とを含む光ナノインプリントを行う。感光性ドライフィルムにモールドを押し付け、同フィルムよりモールドを引き離す前、またはモールドを引き離した直後に同フィルムに光照射を行うとよい。 （もっと読む）