説明

信越フィルム株式会社により出願された特許

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【課題】 従来技術の欠点を改良し、ならびに安価な太陽電池モジュール用バックシートを提供する。
【解決手段】 表面層は、ポリエステルフィルム(層A)、裏面層はポリエチレンフィルム(層C)からなり、表面層と裏面層との間には無機酸化物蒸着ポリエステルフィルムがあり、更に蒸着PET面に酸化セリウムを添加したインキを塗布されたインキ付き無機酸化物蒸着ポリエステルフィルム(層B)をラミネートしたものである。表面層Aは2枚のポリエステルフィルムを積層したものであり、酸化セリウムを添加したインキに使用される酸化セリウムの粒径が0.5〜10μm、インキ量添加量が1−20質量%であり、裏面層のポリエチレンフィルム(層C)は紫外線吸収剤を含有するポリエチレンフィルムからなり、バックシート全体の厚さが150〜400μmであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 透明で可撓性もありガスバリア性の優れたプラスチック基材またはプラスチックフイルムを提供する。
【解決手段】 プラスチック基材またはプラスチックフイルムの少なくとも一方の面にアモルファスシリコン薄膜層を設けたことを特徴とする。アモルファスシリコン薄膜層を設けた後、大気中、70〜140℃で熱処理を施すこと、プラスチックフイルムの場合、その軟化温度が70℃以上、厚さが10nm〜200nmのアモルファスシリコン薄膜層であること、アモルファスシリコン薄膜層を設けた後の酸素透過率および水蒸気透過率が夫々、3cc/m2・24Hr・atm以下、3g/m2・24Hr以下であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 透明で可撓性にも優れたガスバリア性フイルムを低コストで提供する。
【解決手段】 酸素透過率が低いフイルムと水蒸気透過率が低いフィルムとを積層したフイルムであって、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、またはエチレンビニルアルコール共重合体フィルムとポリプロピレンフィルム、ナイロンフィルム、またはポリエステルフィルムとを積層したフイルムであって、これらフィルムを接着する面のいずれか一方の面にカーボンコート層を形成し、酸素透過率を改良したことを特徴とする。
積層プラスチックフィルムの厚さが30〜280μm、その酸素透過率(測定条件25℃、相対湿度90%)が0.2〜5cc/m2・24Hr・atmであること、カーボンコート層が電子写真式複写機を用いて形成されたものであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 透明で可撓性にも優れたガスバリア性積層プラスチックフィルムを低コストで提供する。
【解決手段】 積層プラスチックフィルムの構成が3層からなり、その表層及び裏面層がポリプロピレン、ナイロン、ポリエステルまたはポリエチレンのいずれか、中間層がエチレンビニルアルコール、ポリビニルアルコールまたはポリビニルアルコール共重合体であって、中間層のいずれか一方の面にカーボンコート層を有することを特徴とする。
積層プラスチックフィルムの厚さが30〜280μm、水蒸気透過率が0.5〜5g/m2・24Hr、酸素透過率が0.5〜5cc/m2・24Hr・atmであること、また、表層が2軸延伸ポリプロピレン、中間層がポリビニルアルコール、裏面層が2軸延伸ポリプロピレンまたはポリエチレンからなること、さらに、カーボンコート層が電子写真式複写機を用いて形成されたものであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 透明で可撓性にも優れたガスバリヤー性フィルムを低コストで提供する。
【解決手段】 本発明のガスバリヤーフィルムは、高分子フィルム上に炭素層が形成されたものである。前記炭素層が、燃焼または不完全燃焼により発生するスス(炭素)を高分子フィルムの上に付着させて形成されること、用いられる高分子フィルムは、透明性のあるものであること、が好ましい。 (もっと読む)


【課題】繊維強化プラスチックの成形時などに、ラッピングテープとして使用される高強度の2軸延伸ポリプロピレンフィルムを提供する。
【解決手段】フィルムの厚さが15〜40μmであって、常温においてそのフィルムをMD方向に30%引き伸ばした時のMD方向の応力強度が140〜210MPaであり、MD方向に50%引き伸ばした時のMD方向の応力強度が180〜240MPaである2軸延伸ポリプロピレンフィルム。 (もっと読む)


【課題】 結晶面の方位判定を行う際に、簡単、迅速、且つ低コストで安全に行うことが出来る技術を提供する。
【解決手段】 シリコンウェーハのエッチング面に集光したレーザー光を、ウェーハ面に対し斜め方向から照射し、生じる反射光像を半透明スクリーンに投影し、偏光フィルターを装着したCCDカメラでその投影像を撮影し、その撮影像を画素照度に基づいてパターン画像とし、そのパターン画像を予め記憶させておいた特定方位のパターン画像と照合して方位を表示することを特徴とする。前記レーザー光の照射角度をウェーハ面に対して、20〜70°の角度とすること、前記レーザー光が半導体レーザーであること、前記レーザー光の波長が500〜1000nmで出力5mW以下であること、前記CCDカメラに装着する偏光フィルターの減光率をND2〜8とすることがそれぞれ好ましい。 (もっと読む)


【課題】 シリコンウェーハの研削加工に際して大量に発生し、産業廃棄物として処理されてきた廃スラリーを有効し、併せて炭化珪素焼結体用の原料を安価に供給に利用する。
【解決手段】 本発明の炭化珪素焼結体用原料は、シリコンインゴットの研削加工工程から副正成する廃スラリーを遠心分離器で処理するか、ろ過器でろ過した後のコンクなスラッジを処理して得られる。また、本発明の炭化珪素焼結体は、炭化珪素及びシリコンともシリコンインゴットの切削加工工程から副正成するものであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 シーメンス法またはモノシラン法を利用し、太陽電池用原料に見合った純度を満足する多結晶シリコンを、安価に安定して得ること。
【解決手段】 太陽光発電用多結晶シリコン原料は、高温下、密閉した反応炉中の灼熱したシリコン種棒上に原料シランガスを供給し、熱分解または水素還元して得られる多結晶シリコンであって、導電型がp型またはn形で、抵抗率が3〜500Ωcm、ライフタイムが2〜500μ秒で、太陽光発電用シリコンウェーハの製造に使用される。 (もっと読む)


【課題】 シリコン多結晶が析着する芯材の加熱に初期加熱から外部加熱手段を要せず、かつ、反応初期から析着速度が大きくすることができ、さらに、芯材を繰り返し使用することができるようにする。
【解決手段】 高温下、密閉した反応炉中の灼熱した種棒上に原料シランガスを供給し、熱分解または水素還元して、高純度多結晶シリコンを析出させる方法において、種棒が、再結晶化温度が1200℃以上の合金製部材を使用することを特徴とする。前記再結晶化温度が1200℃以上の合金製部材が、Re−W、W−Ta、Zr−Nb、チタン−ジルコニウム−カーボン添加モリブデン(TZM)合金であって、その直径が0.5mm以上の線材または厚さが1mm以上の板または角材、あるいは直径が1mm以上、肉厚が0.2mm以上で、その中空径が5mm以下からなる管材であること、また、板材、線材、角材あるいは管材にはテーパーがついていること、さらに、管材は中空二重管であってテーパーがついていることが好ましい。 (もっと読む)


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